三宅正男(エネルギー科学研究科エネルギー応用科学専攻エネルギー材料学講座) | 京都大学教育研究活動データベース

三宅正男

ミヤケマサオ

エネルギー科学研究科エネルギー応用科学専攻エネルギー材料学講座教授

Last Updated :2025/05/02

基本情報

学部兼担

工学部工学部物理工学

全学メールアドレス

全学メールアドレス
miyake.masao.4ekyoto-u.ac.jp

所属学協会

資源・素材学会

応用物理学会

電気化学会

表面技術協会

学位

修士（工学）(京都大学)

博士（工学）(京都大学)

出身大学院・研究科等

京都大学, 大学院工学研究科博士後期課程材料工学専攻, 修了

京都大学, 大学院工学研究科修士課程材料工学専攻, 修了

出身学校・専攻等

京都大学, 工学部物理工学科, 卒業

出身高等学校

出身高等学校
愛知県立新川高等学校

経歴

自 2024年04月, 至現在
京都大学大学院エネルギー科学研究科, エネルギー応用科学専攻, 教授

自 2013年03月, 至 2024年03月
京都大学大学院エネルギー科学研究科, エネルギー応用科学専攻, 准教授

自 2010年04月, 至 2013年02月
京都大学大学院エネルギー科学研究科, エネルギー応用科学専攻, 助教

自 2007年04月, 至 2010年03月
イリノイ大学アーバナ・シャンペーン校, 客員研究員

自 2007年04月, 至 2009年03月
日本学術振興会海外特別研究員

自 2003年04月, 至 2007年06月
東京大学生産技術研究所

使用言語

日本語

英語

ID,URL

ORCID ID
0000-0001-8208-4030
J-Global ID
201401070441593925

関連Webサイト

http://www.mater.energy.kyoto-u.ac.jp

researchmap URL

https://researchmap.jp/7000008946

Last Updated :2025/05/02

研究

研究テーマ・研究概要

研究テーマ
非水系電解液を用いた電析技術の開発、アルミニウム二次電池に関する研究、非真空プロセスによる半導体製膜

研究分野

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学）, 電気電子材料工学

ナノテク・材料, 金属生産、資源生産

ナノテク・材料, 構造材料、機能材料

ナノテク・材料, 材料加工、組織制御

論文

Role of BiCl₃ Additives for Aluminum Electrodeposition in Aluminum Trifluoromethanesulfonate-Based Electrolytes: A Critical Evaluation
Jingda Wu; Takumi Ikenoue; Masao Miyake
Journal of The Electrochemical Society, 2025年04月01日, 査読有り, 最終著者, 責任著者

Growth of rock-salt MgO–NiO–ZnO films: Relationship between lattice constant and composition
Shintarou Iida; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Journal of Alloys and Compounds, 2025年03月, 査読有り

Ionic liquid electrolytes composed of AlCl3 and primary/secondary alkylamine hydrochlorides with varying alkyl chain lengths for Al electrodeposition
Takashi Kubo; Akihiro Tanaka; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato; Masao Miyake
Electrochimica Acta, 2025年02月, 査読有り, 最終著者, 責任著者
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Application of double knudsen cell mass spectrometry to thermodynamic measurement on oxide systems
Takashi Nagai; Masao Miyake; Hisao Kimura; Masafumi Maeda
Proceedings ICS 2008: The 4th International Congress on the Science and Technology of Steelmaking, 2008年

Measurements of thermodynamic properties of RE metal system by knudsen cell mass spectrometry
Woong-Hee Han; Masao Miyake; Hisao Kimura; Masafumi Maeda
Proceedings ICS 2008: The 4th International Congress on the Science and Technology of Steelmaking, 2008年

Dissolution Behavior of Hydrated Tungsten Chlorides in Chloroaluminate Ionic Liquids and It's Application in Aluminum–Tungsten Alloy Electrodeposition
Yoshikazu Takeuchi; Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2021年10月19日

Eutectic Mixture of Iron(III) Chloride and Acetamide — Physicochemical Properties, Chemical Speciation, and Electrodeposition of Iron
Shota Higashino; Andrew P Abbott; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2020年11月23日

Measurement of Dissolved Oxygen Concentrations of Chloroaluminate Ionic Liquids in Dry Air
Masaki Yamagami; Mizuki Hirata; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2020年11月23日

Electrodeposition of Aluminum Using Dimethylsulfone-based Baths in Dry Air
Masao MIYAKE; Mizuki HIRATA; Hiroaki OKAMOTO; Tetsuji HIRATO
Journal of The Surface Finishing Society of Japan, 2019年10月01日
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Electrodeposition of Al–W Alloy Films Using W(II) Salts Synthesized Using Different Methods
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2019年09月01日

Low-cost ionic liquid electrolytes based on low-molecular-weight primary and secondary alkylamine hydrochlorides for rechargeable Al batteries
Takashi Kubo; Tatsuo Yamamoto; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Journal of Energy Storage, 2024年10月, 査読有り, 責任著者

Optimal Oxidation Conditions Using Water Vapor for the Topotactic Formation of High-Quality Vanadium Dioxide Films from Vanadium Sesquioxide Epitaxial Films
Hisato Nishii; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Crystal Growth & Design, 2024年06月17日, 査読有り, 責任著者

Fabrication of epitaxial V2O3 thin films on Al2O3 substrates via mist chemical vapor deposition
Hisato Nishii; Shintarou Iida; Akira Yamasaki; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Toshiya Doi; Tetsuji Hirato
Journal of Crystal Growth, 2024年01月, 査読有り

アルミニウム材新製造プロセス技術開発
兒島洋一; 津田哲哉; 宇井幸一; 上田幹人; 三宅正男
軽金属, 2019年01月30日, 招待有り

Toward Tungsten Electrodeposition at Moderate Temperatures Below 100 °C Using Chloroaluminate Ionic Liquids
Shota Higashino; Yoshikazu Takeuchi; Masao Miyake; Takuma Sakai; Takumi Ikenoue; Masakazu Tane; Tetsuji Hirato
Journal of The Electrochemical Society, 2023年05月01日, 査読有り
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Fabrication of micron-sized three-dimensional porous Al from an Al–Zn monotectoid alloy via selective etching and Al passivation
Masao Miyake; Yuya Tanaka; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
Journal of Materials Science, 2023年04月25日, 査読有り, 筆頭著者, 責任著者

Aluminum Barrel Plating on Steel Bolts Using Chloroaluminate Ionic Liquids
Miyake, M.; Kita, T.; Ikenoue, T.; Hirato, T.
Journal of the Electrochemical Society, 2022年07月01日, 査読有り, 筆頭著者, 責任著者
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Scalable Fabrication of Metal Halide Perovskites for Direct X-ray Flat-Panel Detectors: A Perspective †
Haruta, Y.; Kawakami, M.; Nakano, Y.; Kundu, S.; Wada, S.; Ikenoue, T.; Miyake, M.; Hirato, T.; Saidaminov, M.I.
Chemistry of Materials, 2022年06月10日, 査読有り, 招待有り

Aluminum Electrodeposition in Dry Air Atmosphere: Comparative Study of an Acetamide-AlCl₃ Deep Eutectic Solvent and a 1-Ethyl-3-Methylimidazolium Chloride-AlCl₃ Ionic Liquid
Yamagami, M.; Higashino, S.; Yamamoto, T.; Ikenoue, T.; Miyake, M.; Hirato, T.
Journal of the Electrochemical Society, 2022年06月01日, 査読有り, 責任著者
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Tungsten(II) chloride hydrates with high solubility in chloroaluminate ionic liquids for the electrodeposition of Al–W alloy films
Higashino, S.; Takeuchi, Y.; Miyake, M.; Ikenoue, T.; Tane, M.; Hirato, T.
Journal of Electroanalytical Chemistry, 2022年05月, 査読有り

Formation of Uniquely Oriented VO₂Thin Films by Topotactic Oxidation of V₂O₃Epitaxial Films on R-Plane Al₂O₃
Matamura, Y.; Kimura, M.; Ikenoue, T.; Miyake, M.; Hirato, T.
Crystal Growth and Design, 2022年04月12日, 査読有り, 責任著者

Columnar Grain Growth of Lead-Free Double Perovskite Using Mist Deposition Method for Sensitive X-ray Detectors
Yuki Haruta; Shinji Wada; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Crystal Growth & Design, 2021年06月17日, 査読有り
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Mist CVD of vanadium dioxide thin films with excellent thermochromic properties using a water-based precursor solution
Yuya Matamura; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Solar Energy Materials and Solar Cells, 2021年, 査読有り, 責任著者
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One-Step Coating of Full-Coverage CsPbBr3 Thin Films via Mist Deposition for All-Inorganic Perovskite Solar Cells
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
ACS Applied Energy Materials, 2020年12月28日, 査読有り

Mist chemical vapor deposition of MoO2 thin films
Yuya Matamura; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Journal of Crystal Growth, 2020年10月, 査読有り, 責任著者
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Iron(III) chloride and acetamide eutectic for the electrodeposition of iron and iron based alloys
Shota Higashino; Andrew P. Abbott; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Electrochimica Acta, 2020年08月, 査読有り

Fabrication and mechanical properties of tungsten carbide thin films via mist chemical vapor deposition
Takumi Ikenoue; Takuji Yoshida; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
Journal of Alloys and Compounds, 2020年07月15日, 査読有り
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Epitaxial Growth and Bandgap Control of Ni1-xMgxO Thin Film Grown by Mist Chemical Vapor Deposition Method
Takumi Ikenoue; Satoshi Yoneya; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
MRS Advances, 2020年04月, 査読有り

Fabrication of CsPbBr3 Thick Films by Using a Mist Deposition Method for Highly Sensitive X-ray Detection
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
MRS Advances, 2020年02月, 査読有り
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Effect of Laminated Structure on Mechanical Properties of Composition-modulated Co–Ni Laminated Plating
Ishida, K.; Nagataki, T.; Nakade, T.; Morikawa, T.; Miyake, M.; Hirato, T.
ISIJ International, 2019年12月, 査読有り
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銅電解アノードスライムからの高濃度塩酸および過酸化水素を用いた金の選択浸出
三宅正男; 石井俊匡; 山上慶; 平藤哲司
Journal of MMIJ, 2019年12月31日, 査読有り, 筆頭著者, 責任著者
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Formation of a photocatalytic WO3 surface layer on electrodeposited Al–W alloy coatings by selective dissolution and heat treatment
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
Scientific Reports, 2019年11月, 査読有り, 責任著者
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乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
三宅正男; 平田瑞樹; 岡本弘晃; 平藤哲司
表面技術, 2019年10月, 査読有り
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Fabrication of (101)-oriented CsPbBr3 thick films with high carrier mobility using a mist deposition method
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Applied Physics Express, 2019年08月01日, 査読有り
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Hole mobility improvement in Cu2O thin films prepared by the mist CVD method
Takumi Ikenoue; Yoshikazu Kawai; Ryo Wakashima; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Applied Physics Express, 2019年04月, 査読有り
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組成変調型積層Co-Ni合金めっきの機械的特性に及ぼす積層構造の影響
石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
鉄と鋼, 2019年04月, 査読有り
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Epitaxial growth of undoped and Li-doped NiO thin films on α-Al2O3 substrates by mist chemical vapor deposition
Takumi Ikenoue; Junki Inoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Journal of Crystal Growth, 2019年02月, 査読有り
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Growth and Electrical Properties of Epitaxial ZnO Films Prepared by Chemical Bath Deposition Using a Flow Reactor
Masao Miyake; Ken Yamamoto; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
Materials Transactions, 2018年11月, 査読有り
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Fe-W 合金めっきの電析挙動と鉄族金属電極への金属タングステン析出
石田幸平; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術, 2018年11月01日, 査読有り
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組成変調型積層Co-Ni合金めっきの製鋼用連続鋳造鋳型への適用
石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術, 2018年10月01日, 査読有り
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Electrodeposition of aluminumtungsten alloy films using EMICAlCl3W6Cl12 ionic liquids of different compositions
Shota Higashino; Masao Miyake; Hisashi Fujii; Ayumu Takahashi; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
Materials Transactions, 2018年, 査読有り
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Low-Temperature Hydrothermal Synthesis of Colloidal Crystal Templated Nanostructured Single-Crystalline ZnO
Masao Miyake; Makoto Suginohara; Naoto Narahara; Tetsuji Hirato; Paul V. Braun
CHEMISTRY OF MATERIALS, 2017年11月, 査読有り

Evaluation of the hardness and Young's modulus of electrodeposited Al-W alloy films by nano-indentation
Shota Higashino; Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Yuya Matamura; Hisashi Fujii; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2017年09月, 査読有り
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Annealing to achieve lower resistivity in Ga-doped ZnO epitaxial films grown from low-temperature aqueous solution
Masao Miyake; Shota Inudo; Toshiya Doi; Tetsuji Hirato
MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 2017年04月, 査読有り
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Electrodeposition and Anodization of Al-TiO2 Composite Coatings for Enhanced Photocatalytic Activity
Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Tetsuji Hirato
INTERNATIONAL JOURNAL OF ELECTROCHEMICAL SCIENCE, 2017年03月, 査読有り
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イオン交換膜－複数陽極システムを用いたFe-W合金めっきの耐熱特性および耐溶融亜鉛侵食性
石田幸平; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
鉄と鋼, 2017年, 査読有り
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Electrodeposition of Al-W Alloy Films in a 1-Ethyl-3-methyl-imidazolium Chloride-AlCl3 Ionic Liquid Containing W6Cl12
Shota Higashino; Masao Miyake; Hisashi Fujii; Ayumu Takahashi; Tetuji Hirato
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2017年, 査読有り
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Fe-W合金めっきにおけるFe(III)の影響とイオン交換膜－複数陽極システムを用いた連続めっき
石田幸平; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術, 2016年09月, 査読有り
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非水電解浴を用いるアルミニウム・アルミニウム合金電気めっき
平藤哲司; 三宅正男
防錆管理, 2015年12月, 招待有り

Electroplating of Al on Mg alloy in a dimethyl sulfone-aluminum chloride bath
Masao Miyake; Hisashi Fujii; Tetsuji Hirato
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2015年09月, 査読有り
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Electrodeposition of Aluminum from 1,3-Dimethyl-2-Imidazolidinone/AlCl3 baths
Atsushi Endo; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
ELECTROCHIMICA ACTA, 2014年08月, 査読有り
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Hull cell tests for evaluating the effects of polyethylene amines as brighteners in the electrodeposition of aluminum from dimethylsulfone-AlCl3 baths
Masao Miyake; Yuki Kubo; Tetsuji Hirato
ELECTROCHIMICA ACTA, 2014年02月, 査読有り
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Preparation of Low-Resistivity Ga-Doped ZnO Epitaxial Films from Aqueous Solution Using Flow Reactor
Masao Miyake; Hiroshi Fukui; Toshiya Doi; Tetsuji Hirato
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2014年, 査読有り
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ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす水分濃度の影響
岡本弘晃; 三宅正男; 平藤哲司
Journal of MMIJ, 2014年, 査読有り

Electrical properties of CuI films prepared by spin coating
Shota Inudo; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, 2013年11月, 査読有り
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Electrodeposition of Bright Al Coatings from Dimethylsulfone-AlCl₃ Baths with the Addition of Tetraethylenepentamine
MIYAKE Masao; KUBO Yuki; HIRATO Tetsuji
表面技術 = The journal of the Surface Finishing Society of Japan, 2013年06月, 査読有り
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常温付近でのアルミニウム電析技術
塩見卓; 三宅正男; 平藤哲司
軽金属, 2013年, 査読有り, 招待有り

Preparation of Polycrystalline CdTe Films by Annealing of Amorphous Films Electrodeposited from Ammoniacal Alkaline Baths
Masao Miyake; Takashi Sugiura; Tetsuji Hirato
HIGH TEMPERATURE MATERIALS AND PROCESSES, 2012年10月, 査読有り

Radiative Lifetime Modification of LaF3:Nd Nanoparticles Embedded in 3D Silicon Photonic Crystals
Hailong Ning; Agustin Mihi; Joseph B. Geddes; Masao Miyake; Paul V. Braun
ADVANCED MATERIALS, 2012年06月, 査読有り

Electrodeposition of purified aluminum coatings from dimethylsulfone-AlCl3 electrolytes with trimethylamine hydrochloride
Masao Miyake; Hiroshi Motonami; Suguru Shiomi; Tetsuji Hirato
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2012年05月, 査読有り
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Preparation of Al-doped ZnO films by aqueous solution process using a continuous circulation reactor
Masao Miyake; Hiroshi Fukui; Tetsuji Hirato
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, 2012年05月, 査読有り
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Electrodeposition of Bright Al-Zr Alloy Coatings from Dimethylsulfone-Based Baths
Suguru Shiomi; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2012年, 査読有り
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Iron Aluminide Coatings by Electrodeposition of Aluminum from an Organic Bath and Subsequent Annealing
Masao Miyake; Hiroshi Motonami; Tetsuji Hirato
ISIJ INTERNATIONAL, 2012年, 査読有り
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干渉リソグラフィと電析技術を用いた三次元フォトニック結晶の作製
三宅正男
表面技術, 2012年, 査読有り, 招待有り

Epitaxial growth of three-dimensionally architectured optoelectronic devices
Erik C. Nelson; Neville L. Dias; Kevin P. Bassett; Simon N. Dunham; Varun Verma; Masao Miyake; Pierre Wiltzius; John A. Rogers; James J. Coleman; Xiuling Li; Paul V. Braun
NATURE MATERIALS, 2011年09月, 査読有り

Fabrication of TiAl3 coating on TiAl-based alloy by Al electrodeposition from dimethylsulfone bath and subsequent annealing
Masao Miyake; Seiya Tajikara; Tetsuji Hirato
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2011年08月, 査読有り
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TiAl3 Coating on Ti Substrate by Al Electrodeposition from DMSO2 Bath and Annealing
Masao Miyake; Seiya Tajikara; Tetsuji Hirato
HIGH TEMPERATURE MATERIALS AND PROCESSES, 2011年08月, 査読有り

Cu2O Inverse Woodpile Photonic Crystals by Prism Holographic Lithography and Electrodeposition
Sung-Gyu Park; Masao Miyake; Seung-Man Yang; Paul V. Braun
ADVANCED MATERIALS, 2011年06月, 査読有り

Aluminide Coatings Fabricated on Nickel by Aluminium Electrodeposition from DMSO2-Based Electrolyte and Subsequent Annealing
Suguru Shiomi; Masao Miyake; Tetsuji Hirato; Akihiro Sato
MATERIALS TRANSACTIONS, 2011年06月, 査読有り
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Dissolution of cerium oxide in sulfuric acid
Namil Um; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Green Energy and Technology, 2011年, 査読有り

Potentiostatic Electrodeposition of Pt Nanoparticles on Carbon Black
Masao Miyake; Takeshi Ueda; Tetsuji Hirato
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2011年, 査読有り
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Enhanced Dissolution Rate of Pt from a Pt-Zn Compound Measured by Channel Flow Double Electrode
Hideaki Sasaki; Masao Miyake; Masafumi Maeda
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2010年, 査読有り

Measurements of Vapor Pressures of Sc, La, and Ce by Multi-Knudsen Cell Mass Spectrometry
Woong-Hee Han; Takashi Nagai; Masao Miyake; Masafumi Maeda
METALLURGICAL AND MATERIALS TRANSACTIONS B-PROCESS METALLURGY AND MATERIALS PROCESSING SCIENCE, 2009年10月, 査読有り

Thermodynamic Measurement of Calcium Phosphates by Double Knudsen Cell Mass Spectrometry
Takashi Nagai; Masao Miyake; Masafumi Maeda
METALLURGICAL AND MATERIALS TRANSACTIONS B-PROCESS METALLURGY AND MATERIALS PROCESSING SCIENCE, 2009年08月, 査読有り

Fabrication of Three-Dimensional Photonic Crystals Using Multibeam Interference Lithography and Electrodeposition
Masao Miyake; Ying-Chieh Chen; Paul V. Braun; Pierre Wiltzius
ADVANCED MATERIALS, 2009年08月, 査読有り

Measurements of vapor pressure of Y and activity of Y in Y-O alloy by multi-Knudsen cell mass spectrometry
W. H. Han; M. Miyake; T. Nagai; M. Maeda
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2009年07月, 査読有り

Determination of Gibbs free energy of formation of Cr3P by double Knudsen cell mass spectrometry
T. Nagai; M. Miyake; H. Kimura; M. Maeda
JOURNAL OF CHEMICAL THERMODYNAMICS, 2008年03月, 査読有り

Mass spectrometric study on phosphorus in molten carbonsaturated iron
Takashi Nagai; Masao Miyake; Yoshitaka Mitsuda; Hisao Kimura; Masafumi Maeda
ISIJ INTERNATIONAL, 2007年, 査読有り

電子材料・触媒スクラップからの貴金属回収
佐々木秀顕; 三宅正男; 前田正史
分離技術, 2007年, 査読有り, 招待有り

Dissolution of nickel hydroxide in arnmoniacal aqueous solutions
M Miyake; M Maeda
METALLURGICAL AND MATERIALS TRANSACTIONS B-PROCESS METALLURGY AND MATERIALS PROCESSING SCIENCE, 2006年04月, 査読有り

低真空下における電子ビーム溶解法によるシリコン中リンおよびアンチモンの除去
三宅正男; 平松智明; 前田正史
日本金屬學會誌 = Journal of the Japan Institute of Metals, 2006年01月, 査読有り

Comparison of microstructures of CdTe layers electrodeposited from basic ammoniacal and acidic sulfate electrolytes
M Miyake; H Inui; K Murase; T Hirato; Y Awakura
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2004年03月, 査読有り
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Hall effect measurements on CdTe layers electrodeposited from acidic aqueous electrolyte
M Miyake; K Murase; T Hirato; Y Awakura
JOURNAL OF ELECTROANALYTICAL CHEMISTRY, 2004年02月, 査読有り
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Vapor pressure measurements of phosphorus in Cu-P alloys by Knudsen cell mass spectrometry
WH Han; M Miyake; Y Mitsuda; M Maeda
HIGH TEMPERATURE MATERIALS AND PROCESSES, 2004年, 査読有り

Analytical TEM study of CdTe layer electrodeposited from basic ammoniacal aqueous electrolyte
M Miyake; H Inui; K Murase; T Hirato; Y Awakura
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2004年, 査読有り
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Effect of anions on electrodeposition of CdTe from ammoniacal basic solutions
M Miyake; K Murase; T Hirato; Y Awakura
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2003年06月, 査読有り
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Electrical properties of CdTe layers electrodeposited from ammoniacal basic electrolytes
M Miyake; K Murase; T Hirato; Y Awakura
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2003年06月, 査読有り
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Photoassisted electrodeposition of CdTe layer from ammoniacal basic aqueous solutions
K Murase; M Matsui; M Miyake; T Hirato; Y Awakura
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2003年01月, 査読有り
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Evidence for the diffusion of Au atoms into the TeUPD layer formed on a Au(111) substrate
H Kawamura; M Takahasi; N Hojo; M Miyake; K Murase; K Tamura; K Uosaki; Y Awakura; J Mizuki; E Matsubara
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2002年02月, 査読有り
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Development of apparatus for multiple energy X-ray holography at SPring-8
Kouichi Hayashi; Masao Miyake; Tomoaki Tobioka; Yasuhiro Awakura; Motohiro Suzuki; Shinjiro Hayakawa
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment, 2001年, 査読有り

MISC

電気めっきによるアルミニウム皮膜の形成とその応用
平藤哲司; 三宅正男
UYEMURA TECHNICAL REPORTS, 2016年04月, 招待有り

乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
三宅正男; 平藤哲司
表面技術, 2022年03月01日, 招待有り, 筆頭著者, 責任著者

アルミニウム材新製造プロセス技術開発
兒島洋一; 布村順司; 津田哲哉; 宇井幸一; 上田幹人; 三宅正男
UACJ Technical Reports, 2019年, 招待有り

ニッケル水素電池負極合金のリサイクル
細川侑; 三宅正男; 木村久雄; 前田正史
春季大会講演集. I, 資源編, 2007年03月29日

塩基性浴および酸性浴からの電析CdTe薄膜のTEM観察
三宅正男; 乾晴行; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
春季大会講演集. I, 資源編, 2003年03月27日

塩基性浴からの電析CdTe薄膜の半導体特性
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
春季大会講演集. I, 資源編, 2002年03月28日

イオン液体を用いたアルミニウム電解精製
津田哲哉; 細矢佳; 上田幹人; 宇井幸一; 三宅正男; 布村順司; 大谷良行; 兒島洋一
電気化学, 2021年03月05日, 査読有り, 招待有り

有機溶媒からのめっき
平藤哲司; 三宅正男
表面技術, 2020年12月, 査読有り, 招待有り

ミストデポジション法を用いたCs₂AgBiBr₆膜の作製
和田愼史; 春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2020年

ミスト CVD 法による六方晶 MoO3 薄膜の作製
池之上卓己; 滝野天琴; 三宅正男; 平藤哲司
第11回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会, 2019年06月14日

乾燥空気中でのクロロアルミネート系イオン液体を用いたアルミニウム電析
三宅正男; 平田瑞樹; 池之上卓己; 平藤哲司
表面技術協会講演大会講演要旨集, 2019年03月19日

ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長
股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会講演大会講演要旨集, 2019年03月18日

ミストデポジション法による CsPbBr3 厚膜の作製
春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年03月11日

ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長
木村信; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年03月09日

ミストデポジション法で作製したCsPbBr₃厚膜とその放射線検出特性
春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年

ミストCVD法によるMoO₂薄膜の作製と電気特性の評価
股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年

Formation of a photocatalytic WO3 layer on electrodeposited Al-W alloy films by selective leaching and heat treatment
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
Joint International Symposium on Energy Science between Kyoto University and Indian Institute of Science, 2018年12月03日

ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長
股村雄也; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
表面技術協会第 20 回関西表面技術フォーラム, 2018年11月22日

Growth of dense CsPbBr3 thin films by mist deposition method for all-inorganic perovskite solar cells
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Electronic Materials Symposium, 2018年10月11日

Growth and conductivity control of epitaxial Li-doped NiO thin film by mist chemical vapor deposition method
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Electronic Materials Symposium, 2018年10月10日

ミストデポジション法を用いた全無機型ペロブスカイト太陽電池の作製
春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2018年09月05日

Epitaxial growth of NiO thin ?lms on alpha-Al2O3 substrates by using mist CVD method
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy, 2018年06月07日

Electrodeposition of Al?W Alloys and Surface Modification by Anodization
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
22nd Topical Meeting of the International Society of Electrochemistry, 2018年04月17日, 査読有り

銅電解アノードスライムの湿式塩化処理における金の浸出挙動
石井俊匡; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
資源・素材(Web), 2018年

Effect of substrate and growth temperature on fabrication of CH3NH3PbI3 thin films by the mist deposition Method
Yuki Haruta; Masaru Ui; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Electronic Materials Symposium, 2017年11月09日

High Mobility p-type Cu2O Thin Films Grown by Mist Chemical Vapor Deposition Method
Takumi Ikenoue; Toshikazu Kawai; Ryo Wakashima; Masao Miyake; TetsujiHirato
Electronic Materials Symposium, 2017年11月09日

Electrodeposition and Anodization of Al-W Alloy Films
平藤哲司
232nd ECS Meeting National Harbor, 2017年10月

Electrodeposition of Al from Dimethyl Sulfone-Aluminum Chloride Baths Under Dry Air
Masao Miyake; Hiroaki Okamoto; Mizuki Hirata; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2017年09月01日

ミストCVD法によるα-Al2O3基板上NiO成長の面方位依存性
池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 78 回応用物理学会秋季学術講演会, 2017年09月

ミスト CVD 法による炭化タングステン薄膜の作製と機械的特性の評価
吉田拓司; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第136回講演大会, 2017年09月

Evaluation of mechanical properties of W compound films
吉田拓司; 池之上卓己; 三宅正男; 笠田竜太; 平藤哲司
The 8th International Symposium of Advanced Science, 2017年09月

Preparation of WC1-x thin films by mist chemical vapor deposition method
平藤哲司
IUMRS-ICAM 2017, 2017年08月

ミストCVD法によるα‐Al2O3基板へのNiO薄膜の成長
池之上卓己; 井上純輝; 三宅正男; 平藤哲司
第 64 回応用物理学会春季学術講演会, 2017年03月

組成変調型積層合金めっきの金型への適用
石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第135回講演大会, 2017年03月

ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
吉田拓司; 上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 18 回関西表面技術フォーラム, 2016年11月

Low Temperature Growth of Cu₂ZnSnS₄ Thin Films By Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition Method
Takumi Ikenoue; Yuichiro Watanabe; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2016年09月01日

Mechanical Properties of Electrodeposited Al-W Alloy Films and the Effects of Subsequent Heat Treatment
Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Ryuta Kasada; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2016年09月01日

超音波噴霧法による CH3NH3PbI3 薄膜の作製
宇井賢; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 77 回応用物理学会秋季学術講演会, 2016年09月

Nano-indentation study of electrodeposied Al-W alloy films
Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
The 7th International Symposium of Advanced Energy Science, 2016年09月

イオン交換膜－複数陽極システムを用いた Fe-W 合金めっきの特性
石田幸平; 森河務; 中出卓男; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 134 回講演大会, 2016年09月

Fabrication of Photocatalytic Al-TiO₂ Coatings By Composite Electrodeposition and Anodization
Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2016年04月01日

Electrodeposition of Al-W Alloy Films from Ionic Liquid and Evaluation of Their Corrosion Resistance and Mechanical Properties
Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2016年04月01日

ミストCVD法による準安定hcp‐Ni薄膜の作製とその諸特性
池之上卓己; 上野仁希; 小森祥央; 掛谷一弘; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会講演大会講演要旨集, 2016年03月10日

hcp構造を有するNi膜の成長と熱処理の影響
池之上卓己; 上野仁希; 小森祥央; 掛谷一弘; 三宅正男; 平藤哲司
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年03月03日

2 価のタングステンイオン源を添加したイオン液体からのアルミニウム－タングステン合金電析
東野昭太; 高橋歩; 藤井久史; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 133 回講演大会, 2016年03月

DMSO2 溶媒における Al イオンの溶存状態の分子動力学計算による予測
形部聖; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2015年12月

ミスト CVD 法を用いた CZTS 薄膜の作製における前駆体原料の検討
渡辺勇一郎; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2015年12月

銅アノードスライムの塩化浸出に及ぼす酸化還元電位の影響
山上慶; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材学会関西支部第 12 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2015年12月

ミスト CVD 法による銅系材料の成膜
池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
ナノテク研シンポジウム 2015, 2015年11月

管状炉型ミスト CVD 法を用いて作製した Cu2O 薄膜の成長温度依存性と熱処理の効果
河合俊和; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 17 回関西表面技術フォーラム, 2015年10月

ミスト CVD 法による塩素フリー原料からの Cu2ZnSnS4 薄膜の成長
池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
第 76 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年09月

水溶液からエピタキシャル成長した Ga ドープ ZnO 透明導電膜の熱処理による低抵抗化
三宅正男; 犬童翔太; 土井俊哉; 平藤哲司
表面技術協会第 132 回講演大会, 2015年09月

ジメチルスルホン浴からの Al 電析に及ぼす複数の添加剤の同時添加の影響
嵜村麻子; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 132 回講演大会, 2015年09月

Evaluation of mechanical properties of electrodeposited Al-W films
Ayumu Takahashi; Shota Higashino; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
The 6th International Symposium of Advanced Energy Science, 2015年09月

銅電解スライムの塩化浸出に及ぼす塩酸、過酸化水素およびスライム濃度の影響
山上慶; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材学会平成27年度春季大会, 2015年03月

TiO2 分散 Al めっき皮膜の作製とその陽極酸化処理
高橋歩; 三宅正男; 平藤哲司
電気化学会第 82 回大会, 2015年03月

ミスト CVD 法による光透過性銅薄膜の作製
上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年03月

ミスト CVD 法による Cu2ZnSnS4 薄膜の作製と評価
渡辺勇一郎; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年03月

ナノインプリントと干渉フォトリソグラフィを用いた三次元周期多孔構造体の作製
鷲田一博; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年03月

ミストCVD法によるp型Cu₂O薄膜の作製における溶媒の検討
池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
平成 26 年度第4回半導体エレクトロニクス部門委員会第1回講演会・見学会, 2015年01月

低融点溶媒を用いた高耐食性 Al 合金電析
藤井久史; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
平成 26 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2014年12月

水溶液プロセスにより作製した As 添加 ZnO 膜の電気的特性
酒巻聡; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月

超音波噴霧法による Cu2O 薄膜の作製に及ぼす溶媒の影響
池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月

水溶液プロセスによる三次元周期多孔構造をもつエピタキシャル ZnO 膜の作製
楢原直人; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月

水溶液プロセスによる Nb ドープ TiO2 エピタキシャル薄膜の作製
山田博文; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月

ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす酸素の影響
岡本弘晃; 三宅正男; 平藤哲司
日本金属学会 2014秋期講演大会, 2014年09月

ジメチルスルホン浴を用いた TiO2 分散 Al めっき皮膜の作製及びその光触媒能評価
高橋歩; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 130 回講演大会, 2014年09月

超音波噴霧法による Cu2O および Cu2ZnSnS4 の成長
池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 130 回講演大会, 2014年09月

ミスト CVD 法による Cu2ZnSnS4 薄膜の作製とミスト硫化法の効果
池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
第75回応用物理学会秋季学術講演会, 2014年09月

Fabrication of Cu2ZnSnS4 Thin Films by Mist Chemical Vapor Deposition for Photovoltaic Applications
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
33rd Electronic Materials Symposium, 2014年07月

ナノインプリントを利用した三次元周期構造の作製
森川健二; 三宅正男; 宮地悟代; 宮崎健創; 平藤哲司
平成 25 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2013年11月

水溶液プロセスにより作製した Ga 添加エピタキシャル ZnO 膜に及ぼす熱処理の影響
犬童翔太; 三宅正男; 土井俊哉; 平藤哲司
第 15 回関西表面技術フォーラム, 2013年11月

電析積層膜の熱処理による ZnTe 薄膜の作製
永田拓朗; 三宅正男; 平藤哲司
第 15 回関西表面技術フォーラム, 2013年11月

低融点有機溶媒浴からのアルミニウム電析
遠藤厚志; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 128 回講演大会, 2013年09月

ジメチルスルホン浴を用いたマグネシウム合金上へのアルミニウム電析
藤井久史; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 128 回講演大会, 2013年09月

酸性溶液を用いた化学浴析出法による ZnS 製膜
伊藤和紀; 赤坂一行; 三宅正男; 平藤哲司
第 74 回応用物理学会学術講演会, 2013年09月

ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす水分濃度の影響
岡本弘晃; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材 2013 (札幌), 2013年09月

水溶液プロセスによる TiO2 エピタキシャル薄膜の作製
山田博文; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材 2013 (札幌), 2013年09月

Nb ドープ SrTiO3 を中間層とした {100}<001> 集合組織 Cu テープ上への YBa2 Cu3 O7 -δ 薄膜の作製
渡邊健; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
第 60 回応用物理学会学術講演会, 2013年03月

水溶液プロセスによる Ga 添加 ZnO エピタキシャル膜の作製
三宅正男; 福井宏史; 土井俊哉; 平藤哲司
第 60 回応用物理学会春季学術講演会, 2013年03月

Preparation of Silver Core/TiO2 Shell Nano-Wires via Glycothermal Process Assisted by Photochemical Process
Duck-hyun Song; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
平成 24 年度鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会合同研究会, 2012年12月

フローリアクターを用いた化学浴析出法による高配向 CdS 薄膜の作製
赤坂一行; 伊藤和紀; 三宅正男; 土井俊哉; 平藤哲司
第 14 回関西表面技術フォーラム, 2012年11月

水溶液プロセスによる不純物添加 ZnO エピタキシャル膜の作製
福井宏史; 三宅正男; 土井俊哉; 平藤哲司
資源・素材学会関西支部第 9 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2012年11月

Fe テープ上への酸化物中間層の 2 軸配向化の試み
成田諭一郎; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
第 86 回 2012 年度秋季低温工学・超電導学会研究発表会, 2012年11月

Al およびジュラルミンテープ上への MgB2 薄膜の作製とその超伝導特性
常松裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
第 86 回 2012 年度秋季低温工学・超電導学会研究発表会, 2012年11月

ジメチルスルホン浴からの光沢アルミニウム電析のハルセル試験
久保雄輝; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 126 回講演大会, 2012年09月

硫酸ナトリウム粉末をテンプレートに用いたジメチルスルホン浴からの多孔質アルミニウムの電析
山下瑛; 塩見卓; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 126 回講演大会, 2012年09月

湿式プロセスを用いたマクロポーラス材料の作製
三宅正男; 平藤哲司
資源・素材 2012 (秋田), 2012年09月, 招待有り

表面粗さの異なる Al 基板上への MgB2 薄膜の作製
秋月直人; 常松裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
第 73 回応用物理学会学術講演会, 2012年09月

{100}〈001〉集合組織 Cu テープ上への Nb ドープ SrTiO3 薄膜の作製
渡邊健; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
第 73 回応用物理学会学術講演会, 2012年09月

{110}〈001〉集合組織鉄テープ上への 2 軸配向中間層作製の試み
成田諭一郎; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
第 73 回応用物理学会学術講演会, 2012年09月

電析積層膜の熱処理による CdTe 薄膜の作製
松本尚人; 三宅正男; 平藤哲司
資源素材学会平成 24 年度春季大会, 2012年03月

表面粗さの異なる Al 合金基板上への MgB2 薄膜の作製
常松裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司; 一木洋太; 田中和英; 岡本和孝
第 59 回応用物理学会, 2012年03月

圧延再結晶集合組織テープ上への酸化物中間層のエピタキシャル成長
成田諭一郎; 土井俊哉; 渡邊健; 三宅正男; 平藤哲司
平成 23 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2011年12月

電析と熱処理による CdTe 薄膜の作製
松本尚人; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材学会関西支部第 8 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2011年12月

テンプレート電析法による多孔質アルミニウムの作製と孔径制御
西尾峻一; 三宅正男; 平藤哲司
第 13 回関西表面技術フォーラム, 2011年11月

水溶液プロセスによるエピタキシャル ZnO 膜の電気的特性
福井宏史; 三宅正男; 平藤哲司
第 13 回関西表面技術フォーラム, 2011年11月

Al 合金基板上への MgB2 薄膜の作製
常松裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司; 田中和英; 岡本和孝
秋季低温工学・超電導学会 2011, 2011年11月

Preparation of Al-doped ZnO Films by Aqueous Solution Process
Masao Miyake; Hiroshi Fukui; Tetsuji Hirato
ICTF-15, 15th International Conference on Thin Films, 2011年11月

Electrodeposition of Purified Aluminum Coatings from AlCl₃-dimethylsulfone Electrolyte with an Additive
Hiroshi Motonami; Suguru Shiomi; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2011年08月01日

Formation of Aluminide Coatings by Al Electrodeposition from Dimethylsulfone-Based Electrolyte and Subsequent Annealing
Suguru Shiomi; Seiya Tajikara; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
ECS Meeting Abstracts, 2011年08月01日

ルチル型 TiO2 からなる逆オパール・フォトニック結晶の電析
杉之原真; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月

電析による三次元周期多孔質アルミニウムの作製
西尾峻一; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月

逆オパール構造をもつ酸化亜鉛膜の化学浴析出法による作製
内田晋右; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月

湿式法で作る CdTe 太陽電池
平藤哲司; 三宅正男
資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月, 招待有り

エチレンアミン添加ジメチルスルホン浴からの光沢アルミニウム電析
久保雄輝; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 124 回講演大会, 2011年09月

ジメチルスルホン溶液を用いる Al-Zr 合金電析
塩見卓; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 124 回講演大会, 2011年09月

ジメチルスルホン浴からのアルミニウムめっきを用いる新しい鋼材のアルミナイズ処理法の開発
元波洸; 三宅正男; 平藤哲司
日本鉄鋼協会第 162 回秋季講演大会, 2011年09月

白金亜鉛化合物の溶解速度
佐々木秀顕; 三宅正男; 伊藤順一; 前田正史
春季大会講演集. I, 資源編, 2006年03月27日

酸性および塩基性水溶液からの電析CdTe半導体薄膜の微細組織
三宅正男; 乾晴行; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
まてりあ : 日本金属学会会報, 2003年12月, 招待有り

Structure of Zn-Cr alloy electrodeposited on steel at high current densities
M Miyake; T Hirato; E Matsubara; Y Awakura
SECOND INTERNATIONAL CONFERENCE ON PROCESSING MATERIALS FOR PROPERTIES, 2000年, 査読有り

Zn-Cr合金皮膜の組成と構造解析
三宅正男; 中谷厳; 松原英一郎; 平藤哲司; 粟倉泰弘
資源・素材, 1999年11月01日

講演・口頭発表等

塩化アルミニウム系無機イオン液体への臭化物添加の影響
大久保歩; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 149 回大会, 2024年03月06日

低級アルキルアミン塩酸塩からなるクロロアルミネートイオン液体の特性比較
久保高志; 田中暉大; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 149 回大会, 2024年03月05日

水系電解液からのAl電析の可能性の検証
Wu Jingda; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 25 回関西表面技術フォーラム, 2023年12月01日

Control of grain size and effect of PAN addition in MA3Bi2I9 films for X-ray detection
Y. Nakano; T. Ikenoue; M. Miyake; T. Hirato
42nd Electronic Materials Symposium, 2023年10月13日

Orientation control of VO2 thin films via topotactic oxidation
H. Nishii; H. Saito; T. Ikenoue; M. Miyake; T. Hirato
42nd Electronic Materials Symposium, 2023年10月12日

PAN 添加溶液を用いた高感度 MA3Bi2I9 膜の作製
中野佑宇唯; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 84 回応用物理学会秋季学術講演会, 2023年09月20日

サファイア基板上エピタキシャル V2O3 薄膜のトポタクティック酸化による VO2 薄膜の方位制御
西井飛智; 齋藤輝; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 84 回応用物理学会秋季学術講演会, 2023年09月20日

エチルアミン塩酸塩–ジメチルアミン塩酸塩–AlCl3 電解液を用いたアルミニウムイオン電池の性能評価
久保高志; 山本龍雄; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
電気化学会第91回大会, 2023年09月11日

Epitaxial Growth of β-Ga2O3 Films on MgO Substrate via Mist Chemical Vapor Deposition Method
Takumi Ikenoue; YongJin Cho; Vladimir Protasenko; Chandrashekhar; Prakash Savan; Bennett J Cromer; Masao Miyake; Tetsuji Hirato; Michael Thompson; Debdeep Jena; Huili Grace Xing
The 6th U.S. Gallium Oxide Workshop, 2023年08月14日

Epitaxial Growth of Lattice-Matched NiMgZnO Films on MgO Substrate via Mist Chemical Vapor Deposition
Takumi Ikenoue; Shintaro Iida; YongJin Cho; Vladimir Protasenko; Bennett J Cromer; Chandrashekhar; Prakash Savan; Masao Miyake; Tetsuji Hirato; Michael Thompson; Debdeep Jena; Huili Grace Xing
65th Electronic Materials Conference, 2023年06月28日

アルキルアミン塩酸塩/AlCl3 イオン液体を用いたアルミニウム空気電池
後藤晃毅; 山本龍雄; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
電気化学会第90回大会, 2023年03月27日

PEAI を含む溶液からの高抵抗 (CH3NH3)3Bi2I9 膜の成膜
川上未央子; 春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 70 回応用物理学会春季学術講演会, 2023年03月17日

VO2安定領域でのトポタクティック酸化による単一配向VO2薄膜の作製
西井飛智; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 70 回応用物理学会春季学術講演会, 2023年03月16日

イソプロピルアミン塩酸塩–AlCl3イオン液体からのアルミニウム電析
田中暉大; 山本恭司; 山本龍雄; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 146 回講演大会, 2023年03月07日

The relationship between the composition and lattice constant of MgO-NiO-ZnO semiconductors
S. Iida; T. Ikenoue; M. Miyake; T. Hirato
41st Electronic Materials Symposium, 2022年10月21日

Large-area fabrication of MA3Bi2I9 films via mist deposition method
Y. Nakano; M. Kawakami; Y. Haruta; T. Ikenoue; M. Miyake; T. Hirato
41st Electronic Materials Symposium, 2022年10月21日

Preparation of MA3Bi2I9 Thick Films via Mist Deposition Method for X-Ray Detection
M. Kawakami; Y. Haruta; T. Ikenoue; M. Miyake; T. Hirato
41st Electronic Materials Symposium, 2022年10月19日

Fabrication of single oriented VO2 thin films via topotactic oxidation
H. Nishii; Y. Matamura; T. Ikenoue; M. Miyake; T. Hirato
41st Electronic Materials Symposium, 2022年10月19日

ミストデポジション法による (CH3NH3)3Bi2I9 大面積膜の作製
中野佑宇唯; 川上未央子; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 83 回応用物理学会秋季学術講演会, 2022年09月21日

X 線撮像に向けた (CH3NH3)3Bi2I9 膜の表面パッシベーション処理による高抵抗化
川上未央子; 春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 83 回応用物理学会秋季学術講演会, 2022年09月21日

MgO 基板と格子整合する MgO-NiO-ZnO 混晶半導体
飯田真太郎; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 83 回応用物理学会秋季学術講演会, 2022年09月21日

トポタクティック酸化を利用した単一配向 VO2 薄膜の作製
西井飛智; 股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 83 回応用物理学会秋季学術講演会, 2022年09月20日

アミド系溶媒およびイオン液体からのアルミニウム電析におよぼす酸素の影響
山本恭司; 東野昭太; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
電気化学秋季大会, 2022年09月09日

アルキルアミン塩酸塩/AlCl3 イオン液体を用いたアルミニウムイオン電池
山本龍雄; 田中暉大; 山本恭司; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
電気化学秋季大会, 2022年09月09日

アルキルアミン塩酸塩-AlCl3 イオン液体からのアルミニウム電析
田中暉大; 山本恭司; 山本龍雄; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第146回講演大会, 2022年09月07日

Preparation of (CH3NH3)3Bi2I9 Thick Film via Mist Deposition Method for X-Ray Detection
Mioko Kawakami; Yuki Haruta; Shinji Wada; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
2022 MRS Spring Meeting & Exhibit, 2022年05月10日

ミスト CVD 法を用いた NiO 成長における成長温度の影響
上野暢路; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第69回応用物理学会春季学術講演会, 2022年03月25日

塩化タングステン水和物を用いたアルミニウム–タングステン合金電析における水和水の影響
竹内芳州; 東野昭太; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
第 23 回関西表面技術フォーラム, 2021年11月25日

ベンズアミド-AlCl3浴からのAl電析に及ぼす浴組成の影響
山本恭司; 東野昭太; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第23回関西表面技術フォーラム, 2021年11月25日

Dissolution Behavior of Hydrated Tungsten Chlorides in Chloroaluminate Ionic Liquids and Its Application in Aluminum–Tungsten Alloy Electrodeposition
Yoshikazu Takeuchi; Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetusji Hirato
240th ECS Meeting, 2021年10月11日

ミストデポジション法で作製した (CH3NH3)3Bi2I9 厚膜による X 線検出
川上未央子; 春田優貴; 和田愼史; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 82 回応用物理学会秋季学術講演会, 2021年09月21日

乾燥空気中での尿素-AlCl3浴およびベンズアミド-AlCl3 浴からのアルミニウム電析
山本恭司; 東野昭太; 山上晶暉; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第144回講演大会, 2021年09月17日

アルミニウム–タングステン合金電析のための塩化アルミニウム系イオン液体における塩化タングステン水和物の溶存状態の解明
竹内芳州; 東野昭太; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
電気化学秋季大会, 2021年09月09日

イオン液体および深共晶溶媒を用いたAl めっき
三宅正男
表面技術協会めっき部会 10 月例会, 2022年10月24日, 招待有り

Influence of Oxygen on Aluminum Electrodeposition from Acetamide–AlCl3 and 1-Ethyl-3-methylimidazolium Chloride–AlCl3 Baths
Masao Miyake; M. Yamagami; S. Higashino; T. Hirato
INTERFINISH2020 20th World Congress, 2021年09月07日

Preparation of Al-doped ZnO Films by Aqueous Solution Process
Masao Miyake; Hiroshi Fukui; Tetsuji Hirato
ICTF-15, 15th International Conference on Thin Films, 2011年11月09日

干渉リソグラフィと電析技術を利用した三次元フォトニック結晶の作製
三宅正男
第 41 回中部化学関係学協会支部連合秋季大会, 2010年11月, 招待有り

イリノイ大学でのフォトニック結晶作製技術の開発
三宅正男
京都大学グローバルCOE「統合物質科学」セミナー, 2009年02月03日, 招待有り

電気化学的手法を利用したフォトニック結晶の作製
三宅正男
生研材料学セミナー平成 20年度第2回, 2009年01月30日, 招待有り

干渉リソグラフィおよび電析法を用いた三次元フォトニック結晶の作製プロセス北米における研究・開発状況の紹介
三宅正男
日本学術振興会素材プロセシング第69委員会, 2009年01月29日, 招待有り

Development of a Recycling Process for Nickel-metal Hydride Batteries
Masao Miyake
The 3rd Workshop on Reactive Metal Processing (RMW3), 2007年03月

Development of a Recycling Process for Batteries Used in Hybrid and Electric Vehicles
M. Miyake; Y. Hosokawa; H. Kimura; M. Maeda
TMS 2007 annual meeting and exhibition, 2007年02月

ダブルクヌーセンセル質量分析法によるリン合金の熱力学的測定
前田正史; 三宅正男; 永井崇
日本学術振興会製鋼第 19 委員会反応プロセス研究会, 2006年10月02日

Recovery of metals from spent batteries
M. Miyake; M. Maeda
TMS annual meeting 2006, Recycling-General Sessions: Electronics Recycling, 2006年03月

Zinc vapor treatment for precious metals recovery
M. Miyake; J. Ito; M. Maeda
TMS annual meeting 2006, Recycling-General Sessions: General Recycling, 2006年03月

Ammonia-Alkaline Leaching Treatment for Recycling of Nickel-Metal Hydride Batteries
Masao Miyake
The Air & Waste Management Association (A & WMA) University of Student Chapter, University of Toronto, 2005年10月06日

アンモニア水溶液中のニッケル－希土類合金および水酸化物の溶解挙動
三宅正男; 井上優理子; 前田正史
資源・素材 2005, 2005年09月

Alkaline Leaching for Mixture of Nickel Hydroxide and Nickel-Rare Earth Alloy
Masao Miyake; Yoshitaka Mitsuda; Masafumi Maeda
TMS annual meeting 2005, 2005年02月, 招待有り

希土類合金含有混合物からの有価金属の分離回収
三宅正男; 前田正史
資源・素材 2004, 2004年09月

Recovery of metals from metal mixtures by alkaline leaching
M. Miyake; Y. Mitsuda; M. Maeda
Fifth international symposium on waste processing and recycling in mineral and metallurgical industries, COM 2004, 2004年08月

塩基性浴および酸性浴からの電析CdTe薄膜の微細構造
三宅正男; 乾晴行; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
表面技術協会第107回講演大会, 2003年03月

塩基性浴および酸性浴からの電析CdTe薄膜の微細構造
三宅正男; 乾晴行; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
資源・素材2003春季大会, 2003年03月

Electrical properties of CdTe layer electrodeposited from ammoniacal aqueous electrolytes
M. Miyake; K. Murase; T. Hirato; Y. Awakura
201st meeting of the electrochemical society meeting, 2002年05月

塩基性浴からの電析CdTe 薄膜の半導体特性
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
電気化学会第69回大会, 2002年04月

塩基性浴からの電析CdTe 薄膜の半導体特性
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰
資源・素材 2002 年春季大会, 2002年03月

塩基性浴からの電析CdTe 薄膜の半導体特性
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
表面技術協会第105回講演会, 2002年03月

アンモニア-アルカリ浴からの電析CdTe 薄膜の電気特性
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
表面技術協会第104回講演会, 2001年09月

アンモニア-アルカリ浴からの CdTe 電析におよぼすアニオンの効果
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
資源・素材 2001 年春季大会, 2001年03月

アンモニア-アルカリ浴からの CdTe 電析におよぼすアニオンの効果
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
表面技術協会第 103 回講演大会, 2001年03月

アンモニア-アルカリ浴からの CdTe 電析におよぼすアニオンの効果
三宅正男; 邑瀬邦明; 平藤哲司; 粟倉泰弘
第 2 回関西表面技術フォーラム, 2000年12月

Structure of Zn-Cr Alloy Electrodeposited on Steel at High Current Densities
M. Miyake; T. Hirato; E. Matsubata; Y. Awakura
2000 PMP II: Second international conference on processing materials for properties, 2000年11月

鋼上への Zn-Cr 合金めっき皮膜の組成と構造解析
三宅正男; 中谷巌; 平藤哲司; 松原英一郎; 粟倉泰弘
平成 11 年度第 2 回材料化学研究会, 1999年12月

Zn-Cr 合金皮膜の組成と構造解析
三宅正男; 中谷巌; 平藤哲司; 松原英一郎; 粟倉泰弘
表面技術協会 50 周年記念第 2 回研究発表会, 1999年12月

Zn-Cr 合金皮膜の組成と構造解析
三宅正男; 中谷巌; 平藤哲司; 松原英一郎; 粟倉泰弘
資源・素材 '99 秋季大会, 1999年11月

Zn-Cr 合金皮膜の組成と構造解析
三宅正男; 中谷巌; 平藤哲司; 松原英一郎; 粟倉泰弘
表面技術協会第 100 回講演大会, 1999年10月

塩化物浴からの銅の電解採取
三宅正男; 平藤哲司; 粟倉泰弘
第 11 回素材開発研究交流会, 1998年07月

イオン液体を用いたアルミニウム電析とミストCVDによる半導体製膜
三宅正男
日本学術振興会素材プロセシング第69委員会第2分科会（新素材関連技術）[第76回] 研究会], 2023年07月25日, 招待有り

非水溶媒浴を用いたアルミニウム電析とその応用
三宅正男
資源・素材学会 2023年度春季大会, 2023年03月07日, 招待有り

EMIC-AlCl3 イオン液体を⽤いた Al バレルめっきの被覆⼒に及ぼす AlCl3濃度の影響
三宅正男; 北尭; 池之上卓己; 平藤哲司
表面技術協会第146回講演大会, 2022年09月06日

ミスト CVD 法による高 Mg 組成 Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長
孫芸華; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第68回応用物理学会春季学術講演会, 2021年03月18日

スマートウィンドウに向けた二酸化バナジウム膜のミスト CVD 法による作製と光学特性評価
股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第68回応用物理学会春季学術講演会, 2021年03月17日

ミストデポジション法で作製した Cs2AgBiBr6 厚膜を用いた X 線検出
和田愼史; 春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第68回応用物理学会春季学術講演会, 2021年03月16日

乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
三宅正男; 平田瑞樹; 岡本弘晃; 平藤哲司
表面技術協会第 143 回講演大会, 2021年03月04日, 招待有り

タングステン水和物塩および無水塩を添加したイオン液体からのアルミニウム – タングステン合金電析
竹内芳州; 東野昭太; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 143 回講演大会, 2021年03月04日

イオン液体を用いた Al バレルめっき
北尭; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 22 回関西表面技術フォーラム, 2020年12月03日

選択エッチング法による多孔質アルミニウム箔の作製
田中優也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
2020 年度第 3 回関西電気化学研究会, 2020年11月28日

乾燥空気下のアセトアミド AcAm–AlCl3 深共晶溶媒と EMImCl–AlCl3 イオン液体からのアルミニウム電析
山上晶暉; 東野昭太; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
2020 年度第 3 回関西電気化学研究会, 2020年11月28日

Eutectic Mixture of Iron(III) Chloride and Acetamide — Physicochemical Properties, Chemical Speciation, and Electrodeposition of Iron
Shota Higashino; Andrew Abbott; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
PRiME 2020, 2020年10月08日

Measurement of dissolved oxygen concentrations of chloroaluminate ionic liquids in dry air
Masaki Yamagami; Mizuki Hirata; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
PRiME 2020, 2020年10月07日

ミストデポジション法を用いた Cs2AgBiBr6 膜の作製
和田愼史; 春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 81 回応用物理学会秋季学術講演会, 2020年09月10日

ミスト CVD 法による MgO 基板上への NiO 薄膜のエピタキシャル成長
滝野天琴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会, 2019年12月13日

溶液成長法による CsPbBr3 膜成長における基板温度の影響
市田智士; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会, 2019年12月13日

Fabrication of Cesium Lead Bromide Thick Films with Closely-Packed Columnar Crystals and High Carrier Mobility by Using a Mist Deposition Method
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
2019 Materials Research Symposium Fall Meeting, 2019年12月03日

Epitaxial Growth and Band-Gap Control of Ni1-xMgxO Thin Film by Using Mist CVD Method
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
2019 Materials Research Symposium Fall Meeting, 2019年12月03日

乾燥空気中でのイオン液体からの平滑アルミニウム電析
山上晶暉; 平田瑞樹; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
第 21 回関西表面技術フォーラム, 2019年11月21日

Successive Formation of Metal Oxide and Cesium Lead Halide Perovskites Thin Films Using a Mist Deposition Method for All-Inorganic Perovskite Solar Cells
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
The 9th Asis-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 2019年11月14日

Carrier density control of epitaxial NiO thin films grown using mist CVD method
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
The 9th Asis-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 2019年11月14日

Electrodeposition of Al–W Alloy Films Using W(II) Salts Synthesized Using Different Methods
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
236th ECS Meeting, 2019年10月15日

All-inorganic perovskite thick film formed by using mist deposition method and its X-ray detection properties
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
38th Electronic Materials Symposium, 2019年10月11日

Effect of temperature on the preparation of MoO2 thin films by a mist CVD method
Yuya Matamura; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
38th Electronic Materials Symposium, 2019年10月09日

Bandgap control of epitaxial Ni1-xMgxO thin film by using mist chemical vapor deposition method
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
38th Electronic Materials Symposium, 2019年10月09日

Growth and characterization of p-type oxide semiconductor thin films by using mist CVD method
Takumi Ikenoue; Toshikazu Kawai; Ryo Wakashima; Junki Inoue; Satoshi Yoneya; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
20th International Union of Materials Research Societies-International Conference in Asia, 2019年09月24日, 招待有り

ミストデポジション法で作製した CsPbBr3 厚膜とその放射線検出特性
春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 80 回応用物理学会秋季学術講演会, 2019年09月21日

ミスト CVD 法による MoO2 薄膜の作製と電気特性の評価
股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 80 回応用物理学会秋季学術講演会, 2019年09月21日

Electrodeposition of Aluminum Using Chloroaluminate Ionic Liquids Under Dry Air Conditions
Masao MiyakeMizuki HirataTetsuji Hirato
235th ECS Meeting, 2019年05月29日

乾燥空気中でのクロロアルミネート系イオン液体を用いたアルミニウム電析
三宅正男; 平田瑞樹; 池之上卓己; 平藤哲司
表面技術協会第 139 回講演大会, 2019年03月19日

ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長
股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 139 回講演大会, 2019年03月18日

ミスト CVD 法による c面 Al2O3 基板への Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長とバンドギャップ制御
米谷怜; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 66 回応用物理学会春季学術講演会, 2019年03月12日

ミストデポジション法による CsPbBr3 厚膜の作製
春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 66 回応用物理学会春季学術講演会, 2019年03月11日

ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長
木村信; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 66 回応用物理学会春季学術講演会, 2019年03月09日

Formation of a photocatalytic WO3 layer on electrodeposited Al-W alloy films by selective leaching and heat treatment
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
Joint International Symposium on Energy Science between Kyoto University and Indian Institute of Science, 2018年12月03日

ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長
股村雄也; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
第 20 回関西表面技術フォーラム, 2018年11月22日

Growth of dense CsPbBr3 thin films by mist deposition method for all-inorganic perovskite solar cells
Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
37th Electronic Materials Symposium, 2018年10月11日

Growth and conductivity control of epitaxial Li-doped NiO thin film by mist chemical vapor deposition method
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
37th Electronic Materials Symposium, 2018年10月11日

ミストデポジション法を用いた全無機型ペロブスカイト太陽電池の作製
春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 79 回応用物理学会秋季学術講演会, 2018年09月21日

電析アルミニウム-タングステン合金膜の表面脱合金による光触媒層の形成
東野昭太; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
表面技術協会第 138 回講演大会, 2018年09月14日

乾燥空気中でのイオン液体からのアルミニウム電析
平田瑞樹; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
表面技術協会第 138 回講演大会, 2018年09月14日

銅電解アノードスライムの湿式塩化処理における金の浸出挙動
石井俊匡; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
資源・素材 2018（福岡）, 2018年09月12日

Epitaxial growth of NiO thin ﬁlms on alpha-Al2O3 substrates by using mist CVD method
Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy, 2018年06月07日

Electrodeposition of Al–W Alloys and Surface Modification by Anodization
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
22nd Topical Meeting of the International Society of Electrochemistry, 2018年04月17日

ミスト CVD 法によるエピタキシャル NiO 薄膜の成長と導電性制御
池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 65 回応用物理学会春季学術講演会, 2018年03月18日

組成変調型Co-Ni合金めっきの積層構造が及ぼす物性への影響
石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第137回講演大会, 2018年03月13日

テンプレート法による機能性ポーラス材料の作製
三宅正男
第8回ポーラス材料研究討論会, 2017年11月12日, 招待有り

Effect of substrate and growth temperature on fabrication of CH3NH3PbI3 thin films by the mist deposition Method
Yuki Haruta; Masaru Ui; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
36th Electronic Materials Symposium, 2017年11月09日

Electrodeposition and Anodization of Al-W Alloy Films
Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
232nd ECS Meeting, 2017年10月03日

Electrodeposition of Al film from Dimethyl Sulfone-Aluminum Chloride Baths Under Dry Air
Masao Miyake; Hiroaki Okamoto; Mizuki Hirata; Tetsuji Hirato
232nd ECS Meeting, 2017年10月02日

ミスト CVD 法による炭化タングステン薄膜の作製と機械的特性の評価
吉田拓司; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第136回講演大会, 2017年09月15日

ミストCVD法によるCu2O薄膜の作製と評価
若島涼; 河合俊和; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 78 回応用物理学会秋季学術講演会, 2017年09月08日

ミストCVD法によるα-Al2O3基板上NiO成長の面方位依存性
池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 78 回応用物理学会秋季学術講演会, 2017年09月06日

Evaluation of mechanical properties of W compound films
Takuji Yoshida; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
The 8th International Symposium of Advanced Science, 2017年09月06日

Preparation of WC1-x thin films by mist chemical vapor deposition method
Takuji Yoshida; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
IUMRS-ICAM 2017, 2017年08月30日

ミストCVD法によるα‐Al2O3基板へのNiO薄膜の成長
池之上卓己; 井上純輝; 三宅正男; 平藤哲司
第 64 回応用物理学会春季学術講演会, 2017年03月14日

ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
吉田拓司; 上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 18 回関西表面技術フォーラム, 2016年11月17日

Mechanical Properties of Electrodeposited Al-W Alloy Films and the Effects of Subsequent Heat Treatment
Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Ryuta Kasada; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
PRiME 2016, 2016年10月05日

Low Temperature Growth of Cu2ZnSnS4 Thin Films By Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition Method
Takumi Ikenoue; Yuichiro Watanabe; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
PRiME 2016, 2016年10月04日

超音波噴霧法による CH3NH3PbI3 薄膜の作製
宇井賢; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 77 回応用物理学会秋季学術講演会, 2016年09月16日

Nano-indentation study of electrodeposied Al-W alloy films
Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
The 7th International Symposium of Advanced Energy Science, 2016年09月05日

イオン交換膜－複数陽極システムを用いた Fe-W 合金めっきの特性
石田幸平; 森河務; 中出卓男; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 134 回講演大会, 2016年09月02日

Fabrication of Cu2ZnSnS4 Thin Films from Cl--free solution by Mist CVD Method for Photovoltaic Applications
Takumi Ikenoue; Yuichiro Watanabe; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
35th Electronic Materials Symposium, 2016年07月06日

Fabrication of Photocatalytic Al-TiO2 Coatings By Composite Electrodeposition and Anodization
Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
229th ECS Meeting San Diego, 2016年06月01日

Electrodeposition of Al-W Alloy Films from Ionic Liquid and Evaluation of Their Corrosion Resistance and Mechanical Properties
Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
229th ECS Meeting San Diego, 2016年05月31日

hcp 構造を有する Ni 薄膜の成長と熱処理の影響
池之上卓己; 上野仁希; 小森祥央; 掛谷一弘; 三宅正男; 平藤哲司
第 63 回応用物理学会春季学術講演会, 2016年03月22日

銅アノードスライムの塩化浸出に及ぼす酸化還元電位の影響
山上慶; 三宅正男; 平藤哲司
資源・素材学会関西支部第 12 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2015年12月11日

ミスト CVD 法を用いた CZTS 薄膜の作製における前駆体原料の検討
渡辺勇一郎; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2015年12月07日

DMSO2 溶媒における Al イオンの溶存状態の分子動力学計算による予測
形部聖; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2015年12月07日

管状炉型ミスト CVD 法を用いて作製した Cu2O 薄膜の成長温度依存性と熱処理の効果
河合俊和; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 17 回関西表面技術フォーラム, 2015年11月26日

ミスト CVD 法による準安定 hcp 構造を有した Ni 薄膜の作製
上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
第 17 回関西表面技術フォーラム, 2015年11月26日

ミスト CVD 法による銅系材料の成膜
池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
ナノテク研シンポジウム 2015, 2015年11月14日, 招待有り

ミスト CVD 法による塩素フリー原料からの Cu2ZnSnS4 薄膜の成長
池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
第 76 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年09月15日

ジメチルスルホン浴からの Al 電析に及ぼす複数の添加剤の同時添加の影響
嵜村麻子; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
表面技術協会第 132 回講演大会, 2015年09月10日

水溶液からエピタキシャル成長した Ga ドープ ZnO 透明導電膜の熱処理による低抵抗化
三宅正男; 犬童翔太; 土井俊哉; 平藤哲司
表面技術協会第 132 回講演大会, 2015年09月10日

Evaluation of mechanical properties of electrodeposited Al-W films
Ayumu Takahashi; Shota Higashino; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
The 6th International Symposium of Advanced Energy Science, 2015年09月01日

Electrodeposition of aluminum coatings from dimethylsulfone-AlCl3 electrolytes
Tetsuji Hirato; Masao Miyake
Scientific Research Community of the F.W.O., 2015年02月05日, 招待有り

ZnO epitaxial films and three-dimensional porous layers deposited from aqueous solution using a flow reactor
Masao Miyake; Tetsuji Hirato
Workshop organized by the Surface Modification of Materials, Scientific Research Community of the F.W.O., 2015年02月05日, 招待有り

ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析
三宅正男; 平藤哲司
軽金属学会部会報告会「新機能発現・化学プロセス部会」, 2014年11月14日

非水溶媒を用いたアルミニウム電析
三宅正男
軽金属学会参与会, 2012年12月07日

テンプレート電析法による機能性ポーラス材料の作製
三宅正男
関西電気化学研究会, 2012年09月29日

有機溶媒を用いたアルミニウム電析
三宅正男
軽金属学会新機能発現・化学プロセス部会, 2012年04月23日

Electrodeposition of bright Al coatings and macroporous Al layers from organic baths
Masao Miyake; Tetsuji Hirato
International Workshop on Advanced Materials, 2012年04月16日, 招待有り

光沢アルミニウムめっきとマクロポーラスアルミニウム電析
三宅正男
大学シーズ説明会, 2012年01月27日

銅電解製錬における陽極中 Pb, As, Sb, Bi の溶解およびスライム生成挙動
三宅正男
日本学術振興会素材プロセシング第 69 委員会, 2011年12月13日

Fabrication of three-dimensional photonic crystals using interference lithography and electrodeposition
Masao Miyake
KU-NTHU Joint Workshop on Materials Science for Sensing, Photonics and Electronics, 2011年11月27日

光沢アルミニウムめっきとポーラスアルミニウム電析
三宅正男
2011 年度関西 TLO 技術情報クラブ例会, 2011年11月17日

光沢アルミニウムめっきとポーラスアルミニウム電析
三宅正男
京都大学新技術説明会, 2011年08月05日

干渉リソグラフィと電析法を利用した三次元フォトニック結晶の作製
三宅正男
豊橋科学技術大学ナノフォトニクス情報テクノロジーリサーチセンター第5 回研究交流会, 2010年05月19日, 招待有り

書籍等出版物

スマートウィンドウ(調光窓)の開発動向 (エレクトロニクスシリーズ)
三宅正男; 股村雄也; 池之上卓己; 平藤哲司, 分担執筆, 6 スマートウィンドウに向けた二酸化バナジウム膜のミストCVD法による作製
シーエムシー出版, 2023年08月17日
京大の蔵書を調べる：

イオン液体の実用展開へ向けた最新動向
津田哲哉; 上田幹人; 宇井幸一; 三宅正男; 布村順司; 大谷良行; 兒島洋一, 分担執筆, 4 イオン液体を用いたアルミニウムハイアップグレードリサイクル技術
シーエムシー出版, 2022年08月
京大の蔵書を調べる：

産業財産権

特開2022-071140, 特願2022-032859, 電解Ｎｉ－Ｃｒ合金箔及びその製造方法、並びに複合部材
河野明訓; 三宅正男; 平藤哲司

特開2023-527192, 特願2018-120931, 放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
阿部桂治; 井澤利之; 牧野健二; 水野誠一郎; 池之上卓己; 春田優貴; 三宅正男; 平藤哲司

特開2019-157238, 特願2018-048389, 電解アルミニウム箔の製造方法及び製造装置
布村順司; 本川幸翁; 兒島洋一; 平藤哲司; 三宅正男

特開2017-218650, 特願2016-115773, 金の溶解方法
平藤哲司; 三宅正男; 吉武俊一; 時津総一郎

特願2013-179372, 電解液
三宅正男; 遠藤厚志; 平藤哲司

特開2013-023715, 特願2011-157709, 多孔質アルミニウム材料の製造方法
三宅正男; 塩見卓; 平藤哲司

特開2013-023712, 特願2011-157582, 光沢アルミニウム材料の製造方法
三宅正男; 塩見卓; 久保雄輝; 平藤哲司

受賞

2021年02月26日
一般社団法人表面技術協会, 論文賞

2015年03月28日
資源・素材学会, 奨励賞

メディア報道

安価な電気メッキ用電解液
日刊工業新聞, 2013年12月04日, 新聞・雑誌

外部資金：科学研究費補助金

ミストCVD法による岩塩構造ワイドバンドギャップ半導体パワーデバイスの実現
基盤研究(C)
小区分21050:電気電子材料工学関連
京都大学
池之上卓己
自 2020年04月01日, 至 2023年03月31日, 完了
酸化物半導体;岩塩構造;ミストCVD法;岩塩構造ワイドギャップ酸化物;NiMgO;ZnMgO;ワイドバンドギャップ半導体;パワーデバイス
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20K04580/

無機単結晶／高分子ナノネットワーク複合材料の合成とその機械的・電気的特性評価
挑戦的研究(萌芽)
中区分26:材料工学およびその関連分野
京都大学
平藤哲司
自 2018年06月29日, 至 2020年03月31日, 完了
複合材料;結晶成長
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18K18943/

アルミニウム電池における根源的課題への”めっき”からのアプローチ
基盤研究(B)
小区分26050:材料加工および組織制御関連
京都大学
平藤哲司
自 2018年04月01日, 至 2021年03月31日, 完了
電析;イオン液体;めっき;深共晶溶媒;溶存酸素;アルミニウム;非水溶媒;アルミニウム電析;二次電池;溶解
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18H01751/

高移動度を有するナノポーラス半導体単結晶膜の作製技術の開発
挑戦的研究(萌芽)
京都大学
三宅正男
自 2017年06月30日, 至 2019年03月31日, 完了
ポーラス材料;エピタキシャル成長;エピタキシー
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-17K18988/

イオン液体を用いた超高融点金属の中温域電析
基盤研究(B)
京都大学
三宅正男
自 2017年04月01日, 至 2020年03月31日, 完了
イオン液体;電析;めっき;高融点金属
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-17H03429/

非水溶媒からの電析による非平衡金属相析出を利用する新規多層膜作製法
挑戦的萌芽研究
京都大学
平藤哲司
自 2016年04月01日, 至 2018年03月31日, 完了
電析;非水電解液;非平衡相;多層薄膜
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16K14438/

単結晶からなる三次元サブミクロン周期構造体のエピタキシャル成長技術の開発（国際共同研究強化）
国際共同研究加速基金(国際共同研究強化)
京都大学
三宅正男
自 2016年04月01日, 至 2018年03月31日, 完了
エピタキシャル成長;フォトニック結晶;ナノポーラス;多孔質;ナノ構造;水熱合成;結晶成長;エピタキシャル;材料加工・処理
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15KK0205/

単結晶からなる三次元サブミクロン周期構造体のエピタキシャル成長技術の開発
若手研究(B)
京都大学
三宅正男
自 2015年04月01日, 至 2017年03月31日, 完了
フォトニック結晶;水熱合成;水溶液プロセス;多孔質材料;エピタキシャル成長
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15K21095/

溶液ソース大気開放ミストCVD法によるリフラクトリーメタルの成膜
挑戦的萌芽研究
京都大学
池之上卓己
自 2015年04月01日, 至 2017年03月31日, 完了
リフラクトリーメタル;タングステン;モリブデン;炭化物;ミストCVD法
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15K14181/

グローブボックス不要の新規常温アルミニウム電析浴の開発
基盤研究(B)
京都大学
平藤哲司
自 2015年04月01日, 至 2018年03月31日, 完了
めっき;非水溶媒;電析;電解
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15H04156/

水溶液からのアルミニウム電析への挑戦
挑戦的萌芽研究
京都大学
平藤哲司
自 2014年04月01日, 至 2016年03月31日, 完了
アルミニウム;電析;水溶液;合金析出;ハルセル試験;薄膜プロセス
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-26630364/

リフラクトリーメタルの有機溶媒浴を用いた電析
挑戦的萌芽研究
京都大学
三宅正男
自 2013年04月01日, 至 2015年03月31日, 完了
電析;めっき;電解
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25630327/

微量成分添加による有機溶媒浴からの電析アルミニウム膜の光沢化および高純度化
基盤研究(B)
京都大学
平藤哲司
自 2012年04月01日, 至 2015年03月31日, 完了
めっき;添加剤;金属薄膜;電気化学プロセス;表面・界面制御;電気化学
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24360308/

貴金属の溶解速度の電気化学測定
若手研究(B)
東京大学
三宅正男
自 2004年04月01日, 至 2006年03月31日, 完了
白金-亜鉛化合物;チャネルフロー二重電極法;溶解速度;アノード溶解;金;白金;亜鉛;金属間化合物
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16760596/

リサイクルによる半導体級シリコンの製造
基盤研究(A)
東京大学
前田正史
自 2003年04月01日, 至 2005年03月31日, 完了
シリコン;電子ビーム溶解;真空;半導体;精製;クヌーセンセル質量分析法;リサイクル, Silicon;Electron beam melting;Vacuum
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15206101/

大気開放下での非水電解液を用いたアルミニウム電気めっき技術の開発
基盤研究(B)
小区分26050:材料加工および組織制御関連
京都大学
三宅正男
自 2022年04月01日, 至 2025年03月31日, 交付
電析;電気めっき;イオン液体;めっき;非水溶媒
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22H01829/

光電変換効率の増強を示すハライド・ペロブスカイトの三次元フォトニック結晶の作製
挑戦的研究(萌芽)
中区分26:材料工学およびその関連分野
京都大学
三宅正男
自 2022年06月30日, 至 2024年03月31日, 交付
ペロブスカイト;フォトニック結晶
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22K18902/

超濃厚水溶液による白金族金属の溶解：低エネルギー消費型リサイクルプロセスの構築
挑戦的研究(萌芽)
中区分26:材料工学およびその関連分野
京都大学
平藤哲司
自 2023年06月30日, 至 2025年03月31日, 交付
濃厚水溶液
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23K17818/

大気開放下での非水電解液を用いたアルミニウム電気めっき技術の開発
基盤研究(B)
小区分26050:材料加工および組織制御関連
京都大学
三宅正男
自 2022年04月01日, 至 2025年03月31日, 交付
電析;イオン液体;電気めっき;めっき;非水溶媒
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23K23097/

外部資金：その他

三次元多孔質アルミニウムの電析法の開発とリチウムイオン電池正極集電体への応用
（財）カシオ科学振興財団　研究助成
自 2011年, 至 2012年
三宅正男

有機溶媒からの電析による三次元ポーラスアルミニウムの作製
（財）関西エネルギーリサイクル科学研究振興財団若手奨励研究助成
自 2011年, 至 2012年
三宅正男

三次元フォトニック結晶の干渉リソグラフィとエピタキシーによる形成と高特性化
京都大学, 若手研究者ステップアップ研究費
自 2011年, 至 2012年
三宅正男

粉末塩テンプレート電析法によるポーラスアルミニウムの作製
（独）科学技術振興機構，A-STEP（探索タイプ）
自 2011年, 至 2012年
三宅正男

チオシアン酸銅薄膜の電析とその電気的・光学的特性の評価
（財）日本鉱業振興会研究助成
自 2011年, 至 2013年
三宅正男

Last Updated :2025/05/02

教育

担当科目

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
計測学
5009, 前期, 工学部, 2

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
統計熱力学
5073, 後期, 工学部, 2

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
材料物理化学
5036, 後期, 工学部, 2

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
物理化学特論
3450, 前期, エネルギー科学研究科, 2

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
エネルギー応用科学通論
3410, 前期, エネルギー科学研究科, 2

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
エネルギー応用プロセス学特論
6407, 後期, エネルギー科学研究科, 2

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
Advanced Energy Science and Technology
8026, 後期, エネルギー科学研究科, 2

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
エネルギー応用工学設計演習・実験２
5159, 後期, 工学部, 3

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
エネルギー応用工学設計演習・実験１
5157, 前期, 工学部, 3

自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
統計熱力学
5073, 後期, 工学部, 2

自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
計測学
5009, 前期, 工学部, 2

自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
エネルギー応用科学通論
3410, 前期, エネルギー科学研究科, 2

自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
Advanced Energy Science and Technology
8026, 後期, エネルギー科学研究科, 2

自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
半導体デバイス工学論
3415, 後期, エネルギー科学研究科, 2

自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
エネルギー応用工学設計演習・実験２
5159, 後期, 工学部, 3

自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
エネルギー応用工学設計演習・実験１
5157, 前期, 工学部, 3

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
統計熱力学
5073, 後期, 工学部, 2

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
半導体デバイス工学論
3415, 後期, エネルギー科学研究科, 2

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
エネルギー応用工学設計演習・実験１
5157, 前期, 工学部, 3

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
Advanced Energy Science and Technology
8026, 後期, エネルギー科学研究科, 2

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
研究論文
3409, 通年集中, エネルギー科学研究科, 0

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
計測学
5009, 前期, 工学部, 2

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
エネルギー応用工学設計演習・実験２
5159, 後期, 工学部, 3

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
エネルギー応用科学通論
3410, 前期, エネルギー科学研究科, 2

自 2013年04月, 至 2014年03月
計測学
前期, 工学部

自 2013年04月, 至 2014年03月
統計熱力学
後期, 工学部

自 2013年04月, 至 2014年03月
エネルギー材料学概論
後期, 全学共通科目

自 2014年04月, 至 2015年03月
計測学
前期, 工学部

自 2014年04月, 至 2015年03月
統計熱力学
後期, 工学部

自 2014年04月, 至 2015年03月
薄膜ナノデバイス論
後期, エネルギー科学研究科

自 2014年04月, 至 2015年03月
エネルギー材料学概論
後期, 全学共通科目

自 2015年04月, 至 2016年03月
エネルギー問題と科学技術
後期, 全学共通科目

自 2015年04月, 至 2016年03月
エネルギー応用科学通論
前期, エネルギー科学研究科

自 2015年04月, 至 2016年03月
統計熱力学
後期, 工学部

自 2015年04月, 至 2016年03月
薄膜ナノデバイス論
後期, エネルギー科学研究科

自 2015年04月, 至 2016年03月
計測学
前期, 工学部

自 2016年04月, 至 2017年03月
エネルギー応用科学通論
前期, エネルギー科学研究科

自 2016年04月, 至 2017年03月
薄膜ナノデバイス論
後期, エネルギー科学研究科

自 2016年04月, 至 2017年03月
計測学
前期, 工学部

自 2017年04月, 至 2018年03月
エネルギー応用科学通論
前期, エネルギー科学研究科

自 2017年04月, 至 2018年03月
統計熱力学
後期, 工学部

自 2017年04月, 至 2018年03月
薄膜ナノデバイス論
後期, エネルギー科学研究科

自 2018年04月, 至 2019年03月
エネルギー応用科学通論
前期, エネルギー科学研究科

自 2018年04月, 至 2019年03月
統計熱力学
後期, 工学部

自 2018年04月, 至 2019年03月
薄膜ナノデバイス論
後期, エネルギー科学研究科

自 2019年04月, 至 2020年03月
エネルギー応用工学設計演習・実験１
前期, 工学部

自 2019年04月, 至 2020年03月
エネルギー応用工学設計演習・実験２
後期, 工学部

自 2019年04月, 至 2020年03月
エネルギー応用科学通論
前期, エネルギー科学研究科

自 2019年04月, 至 2020年03月
統計熱力学
後期, 工学部

自 2019年04月, 至 2020年03月
薄膜ナノデバイス論
後期, エネルギー科学研究科

自 2019年04月, 至 2020年03月
計測学
前期, 工学部

自 2020年04月, 至 2021年03月
エネルギー応用工学設計演習・実験１
前期, 工学部

自 2020年04月, 至 2021年03月
エネルギー応用工学設計演習・実験２
後期, 工学部

自 2020年04月, 至 2021年03月
エネルギー応用科学通論
前期, エネルギー科学研究科

自 2020年04月, 至 2021年03月
統計熱力学（材エネ）
後期, 工学部

自 2020年04月, 至 2021年03月
薄膜ナノデバイス論
後期, エネルギー科学研究科

自 2020年04月, 至 2021年03月
計測学（機エネ原：学番偶数）
前期, 工学部

自 2020年04月, 至 2021年03月
計測学（機エネ原：学番奇数）
前期, 工学部

自 2021年04月, 至 2022年03月
半導体デバイス工学論
後期, エネルギー科学研究科

自 2021年04月, 至 2022年03月
エネルギー応用工学設計演習・実験１
前期, 工学部

自 2021年04月, 至 2022年03月
エネルギー応用工学設計演習・実験２
後期, 工学部

自 2021年04月, 至 2022年03月
統計熱力学（材エネ）
後期, 工学部

自 2021年04月, 至 2022年03月
計測学（機エネ原：学番偶数）
前期, 工学部

自 2021年04月, 至 2022年03月
計測学（機エネ原：学番奇数）
前期, 工学部

博士学位審査

MONITORING OF SULFUR ？ CONTAING ADDITIVES IN COPPER ELECTRODEPOSITION BY ROTATING RING ？ DISK ELECTRODE AND COPPER ELECTRODEPOSITION FOR HYBRID BONDING (イオウを含有する添加剤の回転リングｰディスク電極によるモニタリングとハイブリッド接合のための電気銅めっき）
TRAN VAN NHAT ANH, エネルギー科学研究科, 副査
2021年05月24日

指導学生の業績：受賞

The 70th JSAP Spring Meeting, 2023 Poster Award
川上未央子, 応用物理学会, 2023年05月10日

研究奨励賞
和田愼史, 第23回関西表面技術フォーラム, 2021年11月12日

放射線分科会学生ポスター賞
川上　未央子, 応用物理学会, 2021年11月19日

学生優秀講演賞
和田愼史, 応用物理学会放射線分科会, 2021年06月16日

Poster Award
股村雄也, 応用物理学会, 2021年03月17日

学術奨励講演賞
竹内芳州, 表面技術協会, 2021年03月04日

優秀講演賞
山上晶暉, 第21回関西表面技術フォーラム, 2019年11月22日

研究奨励賞
股村雄也, 第 20 回関西表面技術フォーラム, 2018年11月22日

優秀ポスター発表賞
吉田拓司, 第 18 回関西表面技術フォーラム, 2016年11月17日

優秀発表賞
藤井久史, 平成 26 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2014年12月25日

優秀ポスター発表賞
楢原直人, 表面技術協会第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月27日

優秀講演賞
遠藤厚志, 表面技術協会, 2014年03月

優秀発表賞
森川健二, 平成 25 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2013年11月28日

優秀講演賞
赤坂一行, 第14回関西表面技術フォーラム, 2012年11月30日

優秀発表賞
福井宏史, 資源・素材学会関西支部　第9回若手研究者・学生のための研究発表会, 2012年11月27日

優秀発表賞
成田諭一郎, 平成23年度材料科学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2011年12月16日

優秀発表賞
松本尚人, 資源・素材学会関西支部　第8回若手研究者・学生のための研究発表会, 2011年12月12日

研究奨励賞
西尾峻一, 第13回関西表面技術フォーラム, 2011年11月29日

優秀ポスター発表賞
福井宏史, 第13回関西表面技術フォーラム, 2011年11月29日

優秀発表賞
田力誠也, 平成22年度第2回鉄鋼プロセス研究会・第3回材料化学研究会　合同研究会, 2010年12月17日

Last Updated :2025/05/02

大学運営

全学運営(役職等)

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
国際高等教育院企画評価専門委員会化学部会

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
京都大学教務事務電算管理運営委員会委員

部局運営(役職等)

自 2025年04月01日, 至 2026年03月31日
財政委員会委員

自 2025年04月01日, 至 2026年03月31日
入試委員会委員

自 2025年04月01日, 至 2026年03月31日
専攻長

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
将来構想委員会委員

自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
教育研究委員会委員

自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
教育研究委員会　委員

自 2013年04月01日, 至 2015年03月31日
安全衛生委員会　委員

自 2014年04月01日, 至 2015年03月31日
入試委員会　委員

自 2020年04月01日, 至 2021年03月31日
入試委員会　委員

自 2020年04月01日, 至 2021年03月31日
広報委員会　委員

自 2021年04月01日, 至 2023年03月31日
国際交流委員会　委員

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