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三宅 正男

ミヤケ マサオ

エネルギー科学研究科 エネルギー応用科学専攻エネルギー材料学講座 准教授

三宅 正男
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    Last Updated :2022/05/14

    基本情報

    学部兼担

    • 工学部 工学部 物理工学

    全学メールアドレス

    • 全学メールアドレス

      miyake.masao.4ekyoto-u.ac.jp

    学位

    • 修士(工学)(京都大学)
    • 博士(工学)(京都大学)

    出身大学院・研究科等

    • 京都大学, 大学院工学研究科博士後期課程材料工学専攻, 修了
    • 京都大学, 大学院工学研究科修士課程材料工学専攻, 修了

    出身学校・専攻等

    • 京都大学, 工学部物理工学科, 卒業

    出身高等学校

    • 出身高等学校

      愛知県立新川高等学校

    使用言語

    • 英語

    ID,URL

    関連Webサイト

    researchmap URL

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      Last Updated :2022/05/14

      研究

      研究テーマ・研究概要

      • 研究テーマ

        三次元フォトニック結晶の作製技術の開発、アルミニウム電析に関する研究、水溶液プロセスによる半導体製膜

      研究分野

      • ナノテク・材料, 材料加工、組織制御

      論文

      • Tungsten(II) chloride hydrates with high solubility in chloroaluminate ionic liquids for the electrodeposition of Al–W alloy films
        Shota Higashino; Yoshikazu Takeuchi; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Masakazu Tane; Tetsuji Hirato
        Journal of Electroanalytical Chemistry, 2022年05月, 査読有り
      • Formation of Uniquely Oriented VO2 Thin Films by Topotactic Oxidation of V2O3 Epitaxial Films on R-Plane Al2O3
        Yuya Matamura; Makoto Kimura; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Crystal Growth & Design, 2022年04月12日, 査読有り, 責任著者
      • Columnar Grain Growth of Lead-Free Double Perovskite Using Mist Deposition Method for Sensitive X-ray Detectors
        Yuki Haruta; Shinji Wada; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Crystal Growth & Design, 2021年06月17日, 査読有り
      • Mist CVD of vanadium dioxide thin films with excellent thermochromic properties using a water-based precursor solution
        Yuya Matamura; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Solar Energy Materials and Solar Cells, 2021年, 査読有り, 責任著者
      • One-Step Coating of Full-Coverage CsPbBr3 Thin Films via Mist Deposition for All-Inorganic Perovskite Solar Cells
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        ACS Applied Energy Materials, 2020年12月28日, 査読有り
      • Mist chemical vapor deposition of MoO2 thin films
        Yuya Matamura; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Journal of Crystal Growth, 2020年10月, 査読有り, 責任著者
      • Iron(III) chloride and acetamide eutectic for the electrodeposition of iron and iron based alloys
        Shota Higashino; Andrew P. Abbott; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Electrochimica Acta, 2020年08月, 査読有り
      • Fabrication and mechanical properties of tungsten carbide thin films via mist chemical vapor deposition
        Takumi Ikenoue; Takuji Yoshida; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        Journal of Alloys and Compounds, 2020年07月15日, 査読有り
      • Epitaxial Growth and Bandgap Control of Ni1-xMgxO Thin Film Grown by Mist Chemical Vapor Deposition Method
        Takumi Ikenoue; Satoshi Yoneya; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        MRS Advances, 2020年04月, 査読有り
      • Fabrication of CsPbBr3 Thick Films by Using a Mist Deposition Method for Highly Sensitive X-ray Detection
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        MRS Advances, 2020年02月, 査読有り
      • Effect of laminated structure on mechanical properties of composition-modulated Co-Ni laminated plating
        Kohei ISHIDA; Takayuki NAGATAKI; Takuo NAKADE; Tsutomu MORIKAWA; Masao MIYAKE; Tetsuji HIRATO
        ISIJ International, 2019年12月, 査読有り
      • 銅電解アノードスライムからの高濃度塩酸および過酸化水素を用いた金の選択浸出
        三宅 正男; 石井 俊匡; 山上 慶; 平藤 哲司
        Journal of MMIJ, 2019年12月, 査読有り, 筆頭著者, 責任著者
      • Formation of a photocatalytic WO3 surface layer on electrodeposited Al–W alloy coatings by selective dissolution and heat treatment
        Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        Scientific Reports, 2019年11月, 査読有り, 責任著者
      • 乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
        三宅正男; 平田瑞樹; 岡本弘晃; 平藤哲司
        表面技術, 2019年10月, 査読有り
      • Fabrication of (101)-oriented CsPbBr3 thick films with high carrier mobility using a mist deposition method
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Applied Physics Express, 2019年08月01日, 査読有り
      • Hole mobility improvement in Cu2O thin films prepared by the mist CVD method
        Takumi Ikenoue; Yoshikazu Kawai; Ryo Wakashima; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Applied Physics Express, 2019年04月, 査読有り
      • 組成変調型積層Co-Ni合金めっきの機械的特性に及ぼす積層構造の影響
        石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
        鉄と鋼, 2019年04月, 査読有り
      • Epitaxial growth of undoped and Li-doped NiO thin films on α-Al2O3 substrates by mist chemical vapor deposition
        Takumi Ikenoue; Junki Inoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Journal of Crystal Growth, 2019年02月, 査読有り
      • アルミニウム材新製造プロセス技術開発
        兒島 洋一; 津田 哲哉; 宇井 幸一; 上田 幹人; 三宅 正男
        軽金属, 2019年01月, 査読有り, 招待有り
      • Growth and Electrical Properties of Epitaxial ZnO Films Prepared by Chemical Bath Deposition Using a Flow Reactor
        Masao Miyake; Ken Yamamoto; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        Materials Transactions, 2018年11月, 査読有り
      • Fe-W 合金めっきの電析挙動と鉄族金属電極への金属タングステン析出
        石田幸平; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術, 2018年11月, 査読有り
      • 組成変調型積層Co-Ni合金めっきの製鋼用連続鋳造鋳型への適用
        石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術, 2018年10月, 査読有り
      • Electrodeposition of aluminumtungsten alloy films using EMICAlCl3W6Cl12 ionic liquids of different compositions
        Shota Higashino; Masao Miyake; Hisashi Fujii; Ayumu Takahashi; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        Materials Transactions, 2018年, 査読有り
      • Low-Temperature Hydrothermal Synthesis of Colloidal Crystal Templated Nanostructured Single-Crystalline ZnO
        Masao Miyake; Makoto Suginohara; Naoto Narahara; Tetsuji Hirato; Paul V. Braun
        CHEMISTRY OF MATERIALS, 2017年11月, 査読有り
      • Evaluation of the hardness and Young's modulus of electrodeposited Al-W alloy films by nano-indentation
        Shota Higashino; Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Yuya Matamura; Hisashi Fujii; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2017年09月, 査読有り
      • Annealing to achieve lower resistivity in Ga-doped ZnO epitaxial films grown from low-temperature aqueous solution
        Masao Miyake; Shota Inudo; Toshiya Doi; Tetsuji Hirato
        MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 2017年04月, 査読有り
      • Electrodeposition and Anodization of Al-TiO2 Composite Coatings for Enhanced Photocatalytic Activity
        Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Tetsuji Hirato
        INTERNATIONAL JOURNAL OF ELECTROCHEMICAL SCIENCE, 2017年03月, 査読有り
      • イオン交換膜-複数陽極システムを用いたFe-W合金めっきの耐熱特性および耐溶融亜鉛侵食性
        石田 幸平; 中出 卓男; 森河 務; 三宅 正男; 平藤 哲司
        鉄と鋼, 2017年, 査読有り
      • Electrodeposition of Al-W Alloy Films in a 1-Ethyl-3-methyl-imidazolium Chloride-AlCl3 Ionic Liquid Containing W6Cl12
        Shota Higashino; Masao Miyake; Hisashi Fujii; Ayumu Takahashi; Tetuji Hirato
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2017年, 査読有り
      • Fe-W合金めっきにおけるFe(III)の影響とイオン交換膜-複数陽極システムを用いた連続めっき
        石田幸平; 森河務; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術, 2016年09月, 査読有り
      • 電気めっきによるアルミニウム皮膜の形成とその応用
        平藤哲司; 三宅正男
        UYEMURA TECHNICAL REPORTS, 2016年04月, 招待有り
      • 非水電解浴を用いるアルミニウム・アルミニウム合金電気めっき
        平藤哲司; 三宅正男
        防錆管理, 2015年12月, 招待有り
      • Electroplating of Al on Mg alloy in a dimethyl sulfone-aluminum chloride bath
        Masao Miyake; Hisashi Fujii; Tetsuji Hirato
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2015年09月, 査読有り
      • Electrodeposition of Aluminum from 1,3-Dimethyl-2-Imidazolidinone/AlCl3 baths
        Atsushi Endo; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        ELECTROCHIMICA ACTA, 2014年08月, 査読有り
      • Hull cell tests for evaluating the effects of polyethylene amines as brighteners in the electrodeposition of aluminum from dimethylsulfone-AlCl3 baths
        Masao Miyake; Yuki Kubo; Tetsuji Hirato
        ELECTROCHIMICA ACTA, 2014年02月, 査読有り
      • Preparation of Low-Resistivity Ga-Doped ZnO Epitaxial Films from Aqueous Solution Using Flow Reactor
        Masao Miyake; Hiroshi Fukui; Toshiya Doi; Tetsuji Hirato
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2014年, 査読有り
      • ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす水分濃度の影響
        岡本弘晃; 三宅 正男; 平藤哲司
        Journal of MMIJ, 2014年, 査読有り
      • Electrical properties of CuI films prepared by spin coating
        Shota Inudo; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, 2013年11月, 査読有り
      • Electrodeposition of Bright Al Coatings from Dimethylsulfone-AlCl₃ Baths with the Addition of Tetraethylenepentamine
        Masao Miyake; Yuki Kubo; Tetsuji Hirato
        表面技術 = Journal of the Surface Finishing Society of Japan, 2013年06月, 査読有り
      • 常温付近でのアルミニウム電析技術
        塩見卓; 三宅正男; 平藤哲司
        軽金属, 2013年, 査読有り, 招待有り
      • Preparation of Polycrystalline CdTe Films by Annealing of Amorphous Films Electrodeposited from Ammoniacal Alkaline Baths
        Masao Miyake; Takashi Sugiura; Tetsuji Hirato
        HIGH TEMPERATURE MATERIALS AND PROCESSES, 2012年10月, 査読有り
      • Radiative Lifetime Modification of LaF3:Nd Nanoparticles Embedded in 3D Silicon Photonic Crystals
        Hailong Ning; Agustin Mihi; Joseph B. Geddes; Masao Miyake; Paul V. Braun
        ADVANCED MATERIALS, 2012年06月, 査読有り
      • Electrodeposition of purified aluminum coatings from dimethylsulfone-AlCl3 electrolytes with trimethylamine hydrochloride
        Masao Miyake; Hiroshi Motonami; Suguru Shiomi; Tetsuji Hirato
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2012年05月, 査読有り
      • Preparation of Al-doped ZnO films by aqueous solution process using a continuous circulation reactor
        Masao Miyake; Hiroshi Fukui; Tetsuji Hirato
        PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, 2012年05月, 査読有り
      • Electrodeposition of Bright Al-Zr Alloy Coatings from Dimethylsulfone-Based Baths
        Suguru Shiomi; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2012年, 査読有り
      • Iron Aluminide Coatings by Electrodeposition of Aluminum from an Organic Bath and Subsequent Annealing
        Masao Miyake; Hiroshi Motonami; Tetsuji Hirato
        ISIJ INTERNATIONAL, 2012年, 査読有り
      • 干渉リソグラフィと電析技術を用いた三次元フォトニック結晶の作製
        三宅 正男
        表面技術, 2012年, 査読有り, 招待有り
      • 非水溶媒を用いるアルミニウム電気めっき
        平藤哲司; 三宅 正男
        めっき技術, 2012年, 査読有り, 招待有り
      • Epitaxial growth of three-dimensionally architectured optoelectronic devices
        Erik C. Nelson; Neville L. Dias; Kevin P. Bassett; Simon N. Dunham; Varun Verma; Masao Miyake; Pierre Wiltzius; John A. Rogers; James J. Coleman; Xiuling Li; Paul V. Braun
        NATURE MATERIALS, 2011年09月, 査読有り
      • Fabrication of TiAl3 coating on TiAl-based alloy by Al electrodeposition from dimethylsulfone bath and subsequent annealing
        Masao Miyake; Seiya Tajikara; Tetsuji Hirato
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2011年08月, 査読有り
      • TiAl3 Coating on Ti Substrate by Al Electrodeposition from DMSO2 Bath and Annealing
        Masao Miyake; Seiya Tajikara; Tetsuji Hirato
        HIGH TEMPERATURE MATERIALS AND PROCESSES, 2011年08月, 査読有り
      • Cu2O Inverse Woodpile Photonic Crystals by Prism Holographic Lithography and Electrodeposition
        Sung-Gyu Park; Masao Miyake; Seung-Man Yang; Paul V. Braun
        ADVANCED MATERIALS, 2011年06月, 査読有り
      • Aluminide Coatings Fabricated on Nickel by Aluminium Electrodeposition from DMSO2-Based Electrolyte and Subsequent Annealing
        Suguru Shiomi; Masao Miyake; Tetsuji Hirato; Akihiro Sato
        MATERIALS TRANSACTIONS, 2011年06月, 査読有り
      • Dissolution of cerium oxide in sulfuric acid
        Namil Um; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Green Energy and Technology, 2011年, 査読有り
      • Potentiostatic Electrodeposition of Pt Nanoparticles on Carbon Black
        Masao Miyake; Takeshi Ueda; Tetsuji Hirato
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2011年, 査読有り
      • Enhanced Dissolution Rate of Pt from a Pt-Zn Compound Measured by Channel Flow Double Electrode
        Hideaki Sasaki; Masao Miyake; Masafumi Maeda
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2010年, 査読有り
      • Measurements of Vapor Pressures of Sc, La, and Ce by Multi-Knudsen Cell Mass Spectrometry
        Woong-Hee Han; Takashi Nagai; Masao Miyake; Masafumi Maeda
        METALLURGICAL AND MATERIALS TRANSACTIONS B-PROCESS METALLURGY AND MATERIALS PROCESSING SCIENCE, 2009年10月, 査読有り
      • Thermodynamic Measurement of Calcium Phosphates by Double Knudsen Cell Mass Spectrometry
        Takashi Nagai; Masao Miyake; Masafumi Maeda
        METALLURGICAL AND MATERIALS TRANSACTIONS B-PROCESS METALLURGY AND MATERIALS PROCESSING SCIENCE, 2009年08月, 査読有り
      • Fabrication of Three-Dimensional Photonic Crystals Using Multibeam Interference Lithography and Electrodeposition
        Masao Miyake; Ying-Chieh Chen; Paul V. Braun; Pierre Wiltzius
        ADVANCED MATERIALS, 2009年08月, 査読有り
      • Measurements of vapor pressure of Y and activity of Y in Y-O alloy by multi-Knudsen cell mass spectrometry
        W. H. Han; M. Miyake; T. Nagai; M. Maeda
        JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2009年07月, 査読有り
      • Determination of Gibbs free energy of formation of Cr3P by double Knudsen cell mass spectrometry
        T. Nagai; M. Miyake; H. Kimura; M. Maeda
        JOURNAL OF CHEMICAL THERMODYNAMICS, 2008年03月, 査読有り
      • Mass spectrometric study on phosphorus in molten carbonsaturated iron
        Takashi Nagai; Masao Miyake; Yoshitaka Mitsuda; Hisao Kimura; Masafumi Maeda
        ISIJ INTERNATIONAL, 2007年, 査読有り
      • 電子材料・触媒スクラップからの貴金属回収
        佐々木秀顕; 三宅正男; 前田正史
        分離技術, 2007年, 査読有り, 招待有り
      • Dissolution of nickel hydroxide in arnmoniacal aqueous solutions
        M Miyake; M Maeda
        METALLURGICAL AND MATERIALS TRANSACTIONS B-PROCESS METALLURGY AND MATERIALS PROCESSING SCIENCE, 2006年04月, 査読有り
      • 低真空下における電子ビーム溶解法によるシリコン中リンおよびアンチモンの除去
        三宅正男; 平松智明; 前田正史
        日本金屬學會誌 = Journal of the Japan Institute of Metals, 2006年01月, 査読有り
      • Comparison of microstructures of CdTe layers electrodeposited from basic ammoniacal and acidic sulfate electrolytes
        M Miyake; H Inui; K Murase; T Hirato; Y Awakura
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2004年03月, 査読有り
      • Hall effect measurements on CdTe layers electrodeposited from acidic aqueous electrolyte
        M Miyake; K Murase; T Hirato; Y Awakura
        JOURNAL OF ELECTROANALYTICAL CHEMISTRY, 2004年02月, 査読有り
      • Vapor pressure measurements of phosphorus in Cu-P alloys by Knudsen cell mass spectrometry
        WH Han; M Miyake; Y Mitsuda; M Maeda
        HIGH TEMPERATURE MATERIALS AND PROCESSES, 2004年, 査読有り
      • Analytical TEM study of CdTe layer electrodeposited from basic ammoniacal aqueous electrolyte
        M Miyake; H Inui; K Murase; T Hirato; Y Awakura
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2004年, 査読有り
      • Effect of anions on electrodeposition of CdTe from ammoniacal basic solutions
        M Miyake; K Murase; T Hirato; Y Awakura
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2003年06月, 査読有り
      • Electrical properties of CdTe layers electrodeposited from ammoniacal basic electrolytes
        M Miyake; K Murase; T Hirato; Y Awakura
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2003年06月, 査読有り
      • Photoassisted electrodeposition of CdTe layer from ammoniacal basic aqueous solutions
        K Murase; M Matsui; M Miyake; T Hirato; Y Awakura
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2003年01月, 査読有り
      • Evidence for the diffusion of Au atoms into the TeUPD layer formed on a Au(111) substrate
        H Kawamura; M Takahasi; N Hojo; M Miyake; K Murase; K Tamura; K Uosaki; Y Awakura; J Mizuki; E Matsubara
        JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2002年02月, 査読有り
      • Development of apparatus for multiple energy X-ray holography at SPring-8
        Kouichi Hayashi; Masao Miyake; Tomoaki Tobioka; Yasuhiro Awakura; Motohiro Suzuki; Shinjiro Hayakawa
        Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment, 2001年, 査読有り

      MISC

      • イオン液体を用いたアルミニウム電解精製
        津田 哲哉; 細矢 佳; 上田 幹人; 宇井 幸一; 三宅 正男; 布村 順司; 大谷 良行; 兒島 洋一
        電気化学, 2021年03月05日, 査読有り, 招待有り
      • 有機溶媒からのめっき
        平藤哲司; 三宅正男
        表面技術, 2020年12月, 査読有り, 招待有り
      • ミストデポジション法を用いたCs2AgBiBr6膜の作製
        和田愼史; 春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2020年
      • ミスト CVD 法による六方晶 MoO3 薄膜の作製
        池之上卓己; 滝野天琴; 三宅正男; 平藤哲司
        第11回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会, 2019年06月14日
      • 乾燥空気中でのクロロアルミネート系イオン液体を用いたアルミニウム電析
        三宅正男; 平田瑞樹; 池之上卓己; 平藤哲司
        表面技術協会講演大会講演要旨集, 2019年03月19日
      • ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長
        股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会講演大会講演要旨集, 2019年03月18日
      • ミストデポジション法による CsPbBr3 厚膜の作製
        春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年03月11日
      • ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長
        木村信; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年03月09日
      • ミストデポジション法で作製したCsPbBr3厚膜とその放射線検出特性
        春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年
      • ミストCVD法によるMoO2薄膜の作製と電気特性の評価
        股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2019年
      • Formation of a photocatalytic WO3 layer on electrodeposited Al-W alloy films by selective leaching and heat treatment
        Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        Joint International Symposium on Energy Science between Kyoto University and Indian Institute of Science, 2018年12月03日
      • ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長
        股村雄也; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        表面技術協会 第 20 回関西表面技術フォーラム, 2018年11月22日
      • Growth of dense CsPbBr3 thin films by mist deposition method for all-inorganic perovskite solar cells
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Electronic Materials Symposium, 2018年10月11日
      • Growth and conductivity control of epitaxial Li-doped NiO thin film by mist chemical vapor deposition method
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Electronic Materials Symposium, 2018年10月10日
      • ミストデポジション法を用いた全無機型ペロブスカイト太陽電池の作製
        春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2018年09月05日
      • Epitaxial growth of NiO thin ?lms on alpha-Al2O3 substrates by using mist CVD method
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy, 2018年06月07日
      • Electrodeposition of Al?W Alloys and Surface Modification by Anodization
        Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        22nd Topical Meeting of the International Society of Electrochemistry, 2018年04月17日, 査読有り
      • 銅電解アノードスライムの湿式塩化処理における金の浸出挙動
        石井俊匡; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        資源・素材(Web), 2018年
      • Effect of substrate and growth temperature on fabrication of CH3NH3PbI3 thin films by the mist deposition Method
        Yuki Haruta; Masaru Ui; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Electronic Materials Symposium, 2017年11月09日
      • High Mobility p-type Cu2O Thin Films Grown by Mist Chemical Vapor Deposition Method
        Takumi Ikenoue; Toshikazu Kawai; Ryo Wakashima; Masao Miyake; TetsujiHirato
        Electronic Materials Symposium, 2017年11月09日
      • Electrodeposition and Anodization of Al-W Alloy Films
        平藤 哲司
        232nd ECS Meeting National Harbor, 2017年10月
      • Electrodeposition of Al film from Dimethyl Sulfone-Aluminum Chloride Baths Under Dry Air
        平藤 哲司
        232nd ECS Meeting National Harbor, 2017年10月
      • ミストCVD法によるα-Al2O3基板上NiO成長の面方位依存性
        池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 78 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2017年09月
      • ミスト CVD 法による炭化タングステン薄膜の作製と機械的特性の評価
        吉田拓司; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第136回講演大会, 2017年09月
      • Evaluation of mechanical properties of W compound films
        吉田拓司; 池之上卓己; 三宅正男; 笠田竜太; 平藤 哲司
        The 8th International Symposium of Advanced Science, 2017年09月
      • Preparation of WC1-x thin films by mist chemical vapor deposition method
        平藤 哲司
        IUMRS-ICAM 2017, 2017年08月
      • ミストCVD法によるα‐Al2O3基板へのNiO薄膜の成長
        池之上卓己; 井上純輝; 三宅正男; 平藤哲司
        第 64 回応用物理学会春季学術講演会, 2017年03月
      • 組成変調型積層合金めっきの金型への適用
        石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 森河 務; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会第135回講演大会, 2017年03月
      • ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
        吉田拓司; 上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 18 回関西表面技術フォーラム, 2016年11月
      • Low Temperature Growth of Cu2ZnSnS4 Thin Films By Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition Method
        Takumi Ikenoue; Yuichiro Watanabe; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        PRiME 2016, Honolulu, Hawaii, USA, 2016年10月
      • Mechanical Properties of Electrodeposited Al-W Alloy Films and the Effects of Subsequent Heat Treatment
        Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Ryuta Kasada; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        PRiME 2016, Honolulu, Hawaii, USA,, 2016年10月
      • 超音波噴霧法による CH3NH3PbI3 薄膜の作製
        宇井賢; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 77 回応用物理学会秋季学術講演会, 2016年09月
      • Nano-indentation study of electrodeposied Al-W alloy films
        Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        The 7th International Symposium of Advanced Energy Science, 2016年09月
      • イオン交換膜-複数陽極システムを用いた Fe-W 合金めっきの特性
        石田幸平; 森河務; 中出卓男; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 134 回講演大会, 2016年09月
      • Fabrication of Photocatalytic Al-TiO2 Coatings By Composite Electrodeposition and Anodization
        Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        229th ECS Meeting San Diego, CA, USA, June 1, 2016 (Oral), 2016年06月
      • Electrodeposition of Al-W Alloy Films from Ionic Liquid and Evaluation of Their Corrosion Resistance and Mechanical Properties
        Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        229th ECS Meeting San Diego, CA, USA, May 31, 2016 (Poster), 2016年05月
      • ミストCVD法による準安定hcp‐Ni薄膜の作製とその諸特性
        池之上卓己; 上野仁希; 小森祥央; 掛谷一弘; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会講演大会講演要旨集, 2016年03月10日
      • hcp構造を有するNi膜の成長と熱処理の影響
        池之上卓己; 上野仁希; 小森祥央; 掛谷一弘; 三宅正男; 平藤哲司
        応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 2016年03月03日
      • 2 価のタングステンイオン源を添加したイオン液体からのアルミニウム-タングステン合金電析
        東野昭太; 高橋歩; 藤井久史; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 133 回講演大会, 2016年03月
      • DMSO2 溶媒における Al イオンの溶存状態の分子動力学計算による予測
        形部聖; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会 合同研究会, 2015年12月
      • ミスト CVD 法を用いた CZTS 薄膜の作製における前駆体原料の検討
        渡辺勇一郎; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会 合同研究会, 2015年12月
      • 銅アノードスライムの塩化浸出に及ぼす酸化還元電位の影響
        山上慶; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材学会関西支部 第 12 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2015年12月
      • ミスト CVD 法による銅系材料の成膜
        池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        ナノテク研シンポジウム 2015, 2015年11月
      • 管状炉型ミスト CVD 法を用いて作製した Cu2O 薄膜の成長温度依存性と熱処理の効果
        河合俊和; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 17 回関西表面技術フォーラム, 2015年10月
      • ミスト CVD 法による塩素フリー原料からの Cu2ZnSnS4 薄膜の成長
        池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
        第 76 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年09月
      • 水溶液からエピタキシャル成長した Ga ドープ ZnO 透明導電膜の熱処理による低抵抗化
        三宅正男; 犬童翔太; 土井俊哉; 平藤哲司
        表面技術協会 第 132 回講演大会, 2015年09月
      • ジメチルスルホン浴からの Al 電析に及ぼす複数の添加剤の同時添加の影響
        嵜村麻子; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 132 回講演大会, 2015年09月
      • Evaluation of mechanical properties of electrodeposited Al-W films
        Ayumu Takahashi; Shota Higashino; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        The 6th International Symposium of Advanced Energy Science, 2015年09月
      • 銅電解スライムの塩化浸出に及ぼす塩酸、過酸化水素およびスライム濃度の影響
        山上慶; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材学会 平成27年度春季大会, 2015年03月
      • TiO2 分散 Al めっき皮膜の作製とその陽極酸化処理
        高橋歩; 三宅正男; 平藤哲司
        電気化学会第 82 回大会, 2015年03月
      • ミスト CVD 法による光透過性銅薄膜の作製
        上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年03月
      • ミスト CVD 法による Cu2ZnSnS4 薄膜の作製と評価
        渡辺勇一郎; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年03月
      • ナノインプリントと干渉フォトリソグラフィを用いた三次元周期多孔構造体の作製
        鷲田一博; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年03月
      • ミストCVD法によるp型Cu2O薄膜の作製における溶媒の検討
        池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        平成 26 年度第4回半導体エレクトロニクス部門委員会 第1回講演会・見学会, 2015年01月
      • 低融点溶媒を用いた高耐食性 Al 合金電析
        藤井久史; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        平成 26 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2014年12月
      • 水溶液プロセスにより作製した As 添加 ZnO 膜の電気的特性
        酒巻聡; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月
      • 超音波噴霧法による Cu2O 薄膜の作製に及ぼす溶媒の影響
        池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月
      • 水溶液プロセスによる三次元周期多孔構造をもつエピタキシャル ZnO 膜の作製
        楢原直人; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月
      • 水溶液プロセスによる Nb ドープ TiO2 エピタキシャル薄膜の作製
        山田博文; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月
      • ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす酸素の影響
        岡本弘晃; 三宅正男; 平藤哲司
        日本金属学会 2014秋期講演大会, 2014年09月
      • ジメチルスルホン浴を用いた TiO2 分散 Al めっき皮膜の作製及びその光触媒能評価
        高橋歩; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 130 回講演大会, 2014年09月
      • 超音波噴霧法による Cu2O および Cu2ZnSnS4 の成長
        池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 130 回講演大会, 2014年09月
      • ミスト CVD 法による Cu2ZnSnS4 薄膜の作製とミスト硫化法の効果
        池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
        第75回応用物理学会秋季学術講演会, 2014年09月
      • Fabrication of Cu2ZnSnS4 Thin Films by Mist Chemical Vapor Deposition for Photovoltaic Applications
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        33rd Electronic Materials Symposium, 2014年07月
      • ナノインプリントを利用した三次元周期構造の作製
        森川健二; 三宅正男; 宮地悟代; 宮崎健創; 平藤哲司
        平成 25 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2013年11月
      • 水溶液プロセスにより作製した Ga 添加エピタキシャル ZnO 膜に及ぼす熱処理の影響
        犬童翔太; 三宅正男; 土井俊哉; 平藤哲司
        第 15 回関西表面技術フォーラム, 2013年11月
      • 電析積層膜の熱処理による ZnTe 薄膜の作製
        永田拓朗; 三宅正男; 平藤哲司
        第 15 回関西表面技術フォーラム, 2013年11月
      • 低融点有機溶媒浴からのアルミニウム電析
        遠藤厚志; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 128 回講演大会, 2013年09月
      • ジメチルスルホン浴を用いたマグネシウム合金上へのアルミニウム電析
        藤井久史; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 128 回講演大会, 2013年09月
      • 酸性溶液を用いた化学浴析出法による ZnS 製膜
        伊藤和紀; 赤坂一行; 三宅正男; 平藤哲司
        第 74 回応用物理学会学術講演会, 2013年09月
      • ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす水分濃度の影響
        岡本弘晃; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材 2013 (札幌), 2013年09月
      • 水溶液プロセスによる TiO2 エピタキシャル薄膜の作製
        山田博文; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材 2013 (札幌), 2013年09月
      • Nb ドープ SrTiO3 を中間層とした {100}<001> 集合組織 Cu テープ上への YBa2 Cu3 O7 -δ 薄膜の作製
        渡邊健; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
        第 60 回応用物理学会学術講演会, 2013年03月
      • 水溶液プロセスによる Ga 添加 ZnO エピタキシャル膜の作製
        三宅正男; 福井宏史; 土井俊哉; 平藤哲司
        第 60 回応用物理学会春季学術講演会, 2013年03月
      • Preparation of Silver Core/TiO2 Shell Nano-Wires via Glycothermal Process Assisted by Photochemical Process
        Duck-hyun Song; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        平成 24 年度 鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会 合同研究会, 2012年12月
      • フローリアクターを用いた化学浴析出法による高配向 CdS 薄膜の作製
        赤坂一行; 伊藤和紀; 三宅正男; 土井俊哉; 平藤哲司
        第 14 回関西表面技術フォーラム, 2012年11月
      • 水溶液プロセスによる不純物添加 ZnO エピタキシャル膜の作製
        福井宏史; 三宅正男; 土井俊哉; 平藤哲司
        資源・素材学会関西支部 第 9 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2012年11月
      • Fe テープ上への酸化物中間層の 2 軸配向化の試み
        成田諭一郎; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
        第 86 回 2012 年度秋季低温工学・超電導学会研究発表会, 2012年11月
      • Al およびジュラルミンテープ上への MgB2 薄膜の作製とその超伝導特性
        常松裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
        第 86 回 2012 年度秋季低温工学・超電導学会研究発表会, 2012年11月
      • ジメチルスルホン浴からの光沢アルミニウム電析のハルセル試験
        久保雄輝; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 126 回講演大会, 2012年09月
      • 硫酸ナトリウム粉末をテンプレートに用いたジメチルスルホン浴からの多孔質アルミニウムの電析
        山下瑛; 塩見卓; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 126 回講演大会, 2012年09月
      • 湿式プロセスを用いたマクロポーラス材料の作製
        三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材 2012 (秋田), 2012年09月, 招待有り
      • 表面粗さの異なる Al 基板上への MgB2 薄膜の作製
        秋月直人; 常松裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
        第 73 回応用物理学会学術講演会, 2012年09月
      • {100}〈001〉 集合組織 Cu テープ上への Nb ドープ SrTiO3 薄膜の作製
        渡邊健; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
        第 73 回応用物理学会学術講演会, 2012年09月
      • {110}〈001〉 集合組織鉄テープ上への 2 軸配向中間層作製の試み
        成田諭一郎; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司
        第 73 回応用物理学会学術講演会, 2012年09月
      • 電析積層膜の熱処理による CdTe 薄膜の作製
        松本 尚人; 三宅正男; 平藤哲司
        資源素材学会 平成 24 年度春季大会, 2012年03月
      • 表面粗さの異なる Al 合金基板上への MgB2 薄膜の作製
        常松 裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司; 一木洋太; 田中和英; 岡本和孝
        第 59 回応用物理学会, 2012年03月
      • 圧延再結晶集合組織テープ上への酸化物中間層のエピタキシャル成長
        成田諭一郎; 土井俊哉; 渡邊健; 三宅正男; 平藤哲司
        平成 23 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2011年12月
      • 電析と熱処理による CdTe 薄膜の作製
        松本尚人; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材学会関西支部 第 8 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2011年12月
      • テンプレート電析法による多孔質アルミニウムの作製と孔径制御
        西尾峻一; 三宅正男; 平藤哲司
        第 13 回関西表面技術フォーラム, 2011年11月
      • 水溶液プロセスによるエピタキシャル ZnO 膜の電気的特性
        福井宏史; 三宅正男; 平藤哲司
        第 13 回関西表面技術フォーラム, 2011年11月
      • Al 合金基板上への MgB2 薄膜の作製
        常松 裕史; 土井俊哉; 三宅正男; 平藤哲司; 田中和英; 岡本和孝
        秋季低温工学・超電導学会 2011, 2011年11月
      • Preparation of Al-doped ZnO Films by Aqueous Solution Process
        Masao Miyake; Hiroshi Fukui; Tetsuji Hirato
        ICTF-15, 15th International Conference on Thin Films, 2011年11月
      • Electrodeposition of Purified Aluminum Coatings from AlCl3-dimethylsulfone Electrolyte with an Additive
        Hiroshi Motonami; Suguru Shiomi; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        220th ECS Meeting, 2011年10月
      • Formation of Aluminide Coatings by Al Electrodeposition from Dimethylsulfone-Based Electrolyte and Subsequent Annealing
        Suguru Shiomi; Seiya Tajikara; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        220th ECS Meeting, 2011年10月
      • ルチル型 TiO2 からなる逆オパール・フォトニック結晶の電析
        杉之原 真; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月
      • 電析による三次元周期多孔質アルミニウムの作製
        西尾峻一; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月
      • 逆オパール構造をもつ酸化亜鉛膜の化学浴析出法による作製
        内田晋右; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月
      • 湿式法で作る CdTe 太陽電池
        平藤哲司; 三宅正男
        資源・素材学会 2011 (堺), 2011年09月, 招待有り
      • エチレンアミン添加ジメチルスルホン浴からの光沢アルミニウム電析
        久保雄輝; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 124 回講演大会, 2011年09月
      • ジメチルスルホン溶液を用いる Al-Zr 合金電析
        塩見 卓; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 124 回講演大会, 2011年09月
      • ジメチルスルホン浴からのアルミニウムめっきを用いる新しい鋼材のアルミナイズ処理法の開発
        元波 洸; 三宅正男; 平藤哲司
        日本鉄鋼協会 第 162 回秋季講演大会, 2011年09月
      • 白金亜鉛化合物の溶解速度
        佐々木 秀顕; 三宅 正男; 伊藤 順一; 前田 正史
        春季大会講演集. I, 資源編, 2006年03月27日
      • 酸性および塩基性水溶液からの電析CdTe半導体薄膜の微細組織
        三宅 正男; 乾 晴行; 邑瀬 邦明; 平藤 哲司; 粟倉 泰弘
        まてりあ : 日本金属学会会報, 2003年12月, 招待有り
      • Structure of Zn-Cr alloy electrodeposited on steel at high current densities
        M Miyake; T Hirato; E Matsubara; Y Awakura
        SECOND INTERNATIONAL CONFERENCE ON PROCESSING MATERIALS FOR PROPERTIES, 2000年, 査読有り
      • Zn-Cr合金皮膜の組成と構造解析
        三宅 正男; 中谷 厳; 松原 英一郎; 平藤 哲司; 粟倉 泰弘
        資源・素材, 1999年11月01日

      講演・口頭発表等

      • ミスト CVD 法による高 Mg 組成 Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長
        孫 芸華; 池之上 卓己; 三宅 正男; 平藤 哲司
        第68回応用物理学会春季学術講演会, 2021年03月18日
      • スマートウィンドウに向けた二酸化バナジウム膜のミスト CVD 法による作製と光学特性評価
        股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第68回応用物理学会春季学術講演会, 2021年03月17日
      • ミストデポジション法で作製した Cs2AgBiBr6 厚膜を用いた X 線検出
        和田 愼史; 春田 優貴; 池之上 卓己; 三宅 正男; 平藤 哲司
        第68回応用物理学会春季学術講演会, 2021年03月16日
      • 乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
        三宅 正男; 平田 瑞樹; 岡本 弘晃; 平藤 哲司
        表面技術協会 第 143 回講演大会, 2021年03月04日, 招待有り
      • タングステン水和物塩および無水塩を添加したイオン液体からのアルミニウム – タングステン合金電析
        竹内 芳州; 東野 昭太; 池之上 卓己; 三宅 正男; 平藤 哲司
        表面技術協会 第 143 回講演大会, 2021年03月04日
      • イオン液体を用いた Al バレルめっき
        北 尭; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 22 回関西表面技術フォーラム, 2020年12月03日
      • 選択エッチング法による多孔質アルミニウム箔の作製
        田中優也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        2020 年度第 3 回関西電気化学研究会, 2020年11月28日
      • 乾燥空気下のアセトアミド AcAm–AlCl3 深共晶溶媒と EMImCl–AlCl3 イオン液体からのアルミニウム電析
        山上晶暉; 東野昭太; 池之上 卓己; 三宅 正男; 平藤 哲司
        2020 年度第 3 回関西電気化学研究会, 2020年11月28日
      • Eutectic Mixture of Iron(III) Chloride and Acetamide — Physicochemical Properties, Chemical Speciation, and Electrodeposition of Iron
        Shota Higashino; Andrew Abbott; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        PRiME 2020, 2020年10月08日
      • Measurement of dissolved oxygen concentrations of chloroaluminate ionic liquids in dry air
        Masaki Yamagami; Mizuki Hirata; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        PRiME 2020, 2020年10月07日
      • ミストデポジション法を用いた Cs2AgBiBr6 膜の作製
        和田愼史; 春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 81 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2020年09月10日
      • ミスト CVD 法による MgO 基板上への NiO 薄膜のエピタキシャル成長
        滝野天琴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会, 2019年12月13日
      • 溶液成長法による CsPbBr3 膜成長における基板温度の影響
        市田智士; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会, 2019年12月13日
      • Fabrication of Cesium Lead Bromide Thick Films with Closely-Packed Columnar Crystals and High Carrier Mobility by Using a Mist Deposition Method
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        2019 Materials Research Symposium Fall Meeting, 2019年12月03日
      • Epitaxial Growth and Band-Gap Control of Ni1-xMgxO Thin Film by Using Mist CVD Method
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        2019 Materials Research Symposium Fall Meeting, 2019年12月03日
      • 乾燥空気中でのイオン液体からの平滑アルミニウム電析
        山上晶暉; 平田瑞樹; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        第 21 回関西表面技術フォーラム, 2019年11月21日
      • Successive Formation of Metal Oxide and Cesium Lead Halide Perovskites Thin Films Using a Mist Deposition Method for All-Inorganic Perovskite Solar Cells
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        The 9th Asis-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 2019年11月14日
      • Carrier density control of epitaxial NiO thin films grown using mist CVD method
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        The 9th Asis-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, 2019年11月14日
      • Electrodeposition of Al–W Alloy Films Using W(II) Salts Synthesized Using Different Methods
        Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        236th ECS Meeting, 2019年10月15日
      • All-inorganic perovskite thick film formed by using mist deposition method and its X-ray detection properties
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        38th Electronic Materials Symposium, 2019年10月11日
      • Effect of temperature on the preparation of MoO2 thin films by a mist CVD method
        Yuya Matamura; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        38th Electronic Materials Symposium, 2019年10月09日
      • Bandgap control of epitaxial Ni1-xMgxO thin film by using mist chemical vapor deposition method
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        38th Electronic Materials Symposium, 2019年10月09日
      • Growth and characterization of p-type oxide semiconductor thin films by using mist CVD method
        Takumi Ikenoue; Toshikazu Kawai; Ryo Wakashima; Junki Inoue; Satoshi Yoneya; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        20th International Union of Materials Research Societies-International Conference in Asia, 2019年09月24日, 招待有り
      • ミストデポジション法で作製した CsPbBr3 厚膜とその放射線検出特性
        春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 80 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月21日
      • ミスト CVD 法による MoO2 薄膜の作製と電気特性の評価
        股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 80 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2019年09月21日
      • Electrodeposition of Aluminum Using Chloroaluminate Ionic Liquids Under Dry Air Conditions
        Masao MiyakeMasao Miyake; Mizuki Hirata; Tetsuji Hirato
        235th ECS Meeting, 2019年05月29日
      • 乾燥空気中でのクロロアルミネート系イオン液体を用いたアルミニウム電析
        三宅正男; 平田瑞樹; 池之上卓己; 平藤哲司
        表面技術協会 第 139 回講演大会, 2019年03月19日
      • ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長
        股村雄也; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 139 回講演大会, 2019年03月18日
      • ミスト CVD 法による c面 Al2O3 基板への Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長とバンドギャップ制御
        米谷怜; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会, 2019年03月12日
      • ミストデポジション法による CsPbBr3 厚膜の作製
        春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会, 2019年03月11日
      • ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長
        木村信; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会, 2019年03月09日
      • Formation of a photocatalytic WO3 layer on electrodeposited Al-W alloy films by selective leaching and heat treatment
        Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        Joint International Symposium on Energy Science between Kyoto University and Indian Institute of Science, 2018年12月03日
      • ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長
        股村雄也; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        第 20 回関西表面技術フォーラム, 2018年11月22日
      • Growth of dense CsPbBr3 thin films by mist deposition method for all-inorganic perovskite solar cells
        Yuki Haruta; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        37th Electronic Materials Symposium, 2018年10月11日
      • Growth and conductivity control of epitaxial Li-doped NiO thin film by mist chemical vapor deposition method
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        37th Electronic Materials Symposium, 2018年10月11日
      • ミストデポジション法を用いた全無機型ペロブスカイト太陽電池の作製
        春田優貴; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 79 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2018年09月21日
      • 電析アルミニウム-タングステン合金膜の表面脱合金による光触媒層の形成
        東野 昭太; 三宅 正男; 池之上 卓己; 平藤 哲司
        表面技術協会 第 138 回講演大会, 2018年09月14日
      • 乾燥空気中でのイオン液体からのアルミニウム電析
        平田 瑞樹; 三宅 正男; 池之上 卓己; 平藤 哲司
        表面技術協会 第 138 回講演大会, 2018年09月14日
      • 銅電解アノードスライムの湿式塩化処理における金の浸出挙動
        石井 俊匡; 三宅 正男; 池之上 卓己; 平藤 哲司
        資源・素材 2018(福岡), 2018年09月12日
      • Epitaxial growth of NiO thin films on alpha-Al2O3 substrates by using mist CVD method
        Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy, 2018年06月07日
      • Electrodeposition of Al–W Alloys and Surface Modification by Anodization
        Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        22nd Topical Meeting of the International Society of Electrochemistry, 2018年04月17日
      • ミスト CVD 法によるエピタキシャル NiO 薄膜の成長と導電性制御
        池之上 卓己; 三宅 正男; 平藤 哲司
        第 65 回応用物理学会春季学術講演会, 2018年03月18日
      • 組成変調型Co-Ni合金めっきの積層構造が及ぼす物性への影響
        石田幸平; 長瀧敬行; 中出卓男; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第137回講演大会, 2018年03月13日
      • テンプレート法による機能性ポーラス材料の作製
        三宅 正男
        第8回ポーラス材料研究討論会, 2017年11月12日, 招待有り
      • Effect of substrate and growth temperature on fabrication of CH3NH3PbI3 thin films by the mist deposition Method
        Masao MiyakeYuki Haruta; Masaru Ui; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        36th Electronic Materials Symposium, 2017年11月09日
      • Electrodeposition and Anodization of Al-W Alloy Films
        Shota Higashino; Masao Miyake; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        232nd ECS Meeting, 2017年10月03日
      • Electrodeposition of Al film from Dimethyl Sulfone-Aluminum Chloride Baths Under Dry Air
        Masao Miyake; Hiroaki Okamoto; Mizuki Hirata; Tetsuji Hirato
        232nd ECS Meeting, 2017年10月02日
      • ミスト CVD 法による炭化タングステン薄膜の作製と機械的特性の評価
        吉田拓司; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第136回講演大会, 2017年09月15日
      • ミストCVD法によるCu2O薄膜の作製と評価
        若島涼; 河合俊和; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 78 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2017年09月08日
      • ミストCVD法によるα-Al2O3基板上NiO成長の面方位依存性
        池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 78 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 2017年09月06日
      • Evaluation of mechanical properties of W compound films
        Takuji Yoshida; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        The 8th International Symposium of Advanced Science, 2017年09月06日
      • Preparation of WC1-x thin films by mist chemical vapor deposition method
        Takuji Yoshida; Takumi Ikenoue; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        IUMRS-ICAM 2017, 2017年08月30日
      • ミストCVD法によるα‐Al2O3基板へのNiO薄膜の成長
        池之上卓己; 井上純輝; 三宅正男; 平藤哲司
        第 64 回応用物理学会春季学術講演会, 2017年03月14日
      • ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
        吉田拓司; 上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 18 回関西表面技術フォーラム, 2016年11月17日
      • Mechanical Properties of Electrodeposited Al-W Alloy Films and the Effects of Subsequent Heat Treatment
        Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Ryuta Kasada; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        PRiME 2016, 2016年10月05日
      • Low Temperature Growth of Cu2ZnSnS4 Thin Films By Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition Method
        Takumi Ikenoue; Yuichiro Watanabe; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        PRiME 2016, 2016年10月04日
      • 超音波噴霧法による CH3NH3PbI3 薄膜の作製
        宇井賢; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 77 回応用物理学会秋季学術講演会, 2016年09月16日
      • Nano-indentation study of electrodeposied Al-W alloy films
        Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        The 7th International Symposium of Advanced Energy Science, 2016年09月05日
      • イオン交換膜-複数陽極システムを用いた Fe-W 合金めっきの特性
        石田幸平; 森河務; 中出卓男; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 134 回講演大会, 2016年09月02日
      • Fabrication of Cu2ZnSnS4 Thin Films from Cl--free solution by Mist CVD Method for Photovoltaic Applications
        Takumi Ikenoue; Yuichiro Watanabe; Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        35th Electronic Materials Symposium, 2016年07月06日
      • Fabrication of Photocatalytic Al-TiO2 Coatings By Composite Electrodeposition and Anodization
        Masao Miyake; Ayumu Takahashi; Takumi Ikenoue; Tetsuji Hirato
        229th ECS Meeting San Diego, 2016年06月01日
      • Electrodeposition of Al-W Alloy Films from Ionic Liquid and Evaluation of Their Corrosion Resistance and Mechanical Properties
        Shota Higashino; Ayumu Takahashi; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        229th ECS Meeting San Diego, 2016年05月31日
      • hcp 構造を有する Ni 薄膜の成長と熱処理の影響
        池之上卓己; 上野仁希; 小森祥央; 掛谷一弘; 三宅正男; 平藤哲司
        第 63 回応用物理学会春季学術講演会, 2016年03月22日
      • 銅アノードスライムの塩化浸出に及ぼす酸化還元電位の影響
        山上慶; 三宅正男; 平藤哲司
        資源・素材学会関西支部 第 12 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2015年12月11日
      • ミスト CVD 法を用いた CZTS 薄膜の作製における前駆体原料の検討
        渡辺勇一郎; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会 合同研究会, 2015年12月07日
      • DMSO2 溶媒における Al イオンの溶存状態の分子動力学計算による予測
        形部聖; 三宅正男; 池之上卓己; 平藤哲司
        材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会 合同研究会, 2015年12月07日
      • 管状炉型ミスト CVD 法を用いて作製した Cu2O 薄膜の成長温度依存性と熱処理の効果
        河合俊和; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 17 回関西表面技術フォーラム, 2015年11月26日
      • ミスト CVD 法による準安定 hcp 構造を有した Ni 薄膜の作製
        上野仁希; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        第 17 回関西表面技術フォーラム, 2015年11月26日
      • ミスト CVD 法による銅系材料の成膜
        池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        ナノテク研シンポジウム 2015, 2015年11月14日, 招待有り
      • ミスト CVD 法による塩素フリー原料からの Cu2ZnSnS4 薄膜の成長
        池之上卓己; 渡辺勇一郎; 三宅正男; 平藤哲司
        第 76 回応用物理学会春季学術講演会, 2015年09月15日
      • ジメチルスルホン浴からの Al 電析に及ぼす複数の添加剤の同時添加の影響
        嵜村麻子; 池之上卓己; 三宅正男; 平藤哲司
        表面技術協会 第 132 回講演大会, 2015年09月10日
      • 水溶液からエピタキシャル成長した Ga ドープ ZnO 透明導電膜の熱処理による低抵抗化
        三宅正男; 犬童翔太; 土井俊哉; 平藤哲司
        表面技術協会 第 132 回講演大会, 2015年09月10日
      • Evaluation of mechanical properties of electrodeposited Al-W films
        Ayumu Takahashi; Shota Higashino; Masao Miyake; Ryuta Kasada; Tetsuji Hirato
        The 6th International Symposium of Advanced Energy Science, 2015年09月01日
      • Electrodeposition of aluminum coatings from dimethylsulfone-AlCl3 electrolytes
        Tetsuji Hirato; Masao Miyake
        Scientific Research Community of the F.W.O., 2015年02月05日, 招待有り
      • ZnO epitaxial films and three-dimensional porous layers deposited from aqueous solution using a flow reactor
        Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        Workshop organized by the Surface Modification of Materials, Scientific Research Community of the F.W.O., 2015年02月05日, 招待有り
      • ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析
        三宅正男; 平藤哲司
        軽金属学会 部会報告会「新機能発現・化学プロセス部会」, 2014年11月14日
      • 非水溶媒を用いたアルミニウム電析
        三宅 正男
        軽金属学会 参与会, 2012年12月07日
      • テンプレート電析法による機能性ポーラス材料の作製
        三宅 正男
        関西電気化学研究会, 2012年09月29日
      • 有機溶媒を用いたアルミニウム電析
        三宅 正男
        軽金属学会 新機能発現・化学プロセス部会, 2012年04月23日
      • Electrodeposition of bright Al coatings and macroporous Al layers from organic baths
        Masao Miyake; Tetsuji Hirato
        International Workshop on Advanced Materials, 2012年04月16日, 招待有り
      • 光沢アルミニウムめっきとマクロポーラスアルミニウム電析
        三宅 正男
        大学シーズ説明会, 2012年01月27日
      • 銅電解製錬における陽極中 Pb, As, Sb, Bi の溶解およびスライム生成挙動
        三宅 正男
        日本学術振興会 素材プロセシング第 69 委員会, 2011年12月13日
      • Fabrication of three-dimensional photonic crystals using interference lithography and electrodeposition
        Masao Miyake
        KU-NTHU Joint Workshop on Materials Science for Sensing, Photonics and Electronics, 2011年11月27日
      • 光沢アルミニウムめっきとポーラスアルミニウム電析
        三宅 正男
        2011 年度関西 TLO 技術情報クラブ例会, 2011年11月17日
      • 光沢アルミニウムめっきとポーラスアルミニウム電析
        三宅 正男
        京都大学新技術説明会, 2011年08月05日
      • 干渉リソグラフィと電析法を利用した三次元フォトニック結晶の作製
        三宅 正男
        豊橋科学技術大学 ナノフォトニクス情報テクノロジーリサーチセンター 第5 回研究交流会, 2010年05月19日

      産業財産権

      • 放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
        阿部桂治; 井澤利之; 牧野健二; 水野誠一郎; 池之上卓己; 春田優貴; 三宅正男; 平藤哲司
      • 電解アルミニウム箔の製造方法及び製造装置
        布村 順司; 本川幸翁; 兒島洋一; 平藤哲司; 三宅正男
      • 金の溶解方法
        平藤 哲司; 三宅 正男; 吉武 俊一; 時津 総一郎
      • 電解液
        三宅 正男; 遠藤厚志; 平藤哲司
      • 多孔質アルミニウム材料の製造方法
        三宅正男; 塩見卓; 平藤哲司
      • 光沢アルミニウム材料の製造方法
        三宅正男; 塩見卓; 久保雄輝; 平藤哲司

      受賞

      • 2021年02月26日
        一般社団法人 表面技術協会, 論文賞
      • 2015年03月28日
        資源・素材学会, 奨励賞

      外部資金:科学研究費補助金

      • ミストCVD法による岩塩構造ワイドバンドギャップ半導体パワーデバイスの実現
        基盤研究(C)
        小区分21050:電気電子材料工学関連
        京都大学
        池之上 卓己
        自 2020年04月01日, 至 2023年03月31日, 交付
        ミストCVD法;岩塩構造;NiMgO;ZnMgO;ワイドバンドギャップ半導体;酸化物半導体;パワーデバイス
      • 無機単結晶/高分子ナノネットワーク複合材料の合成とその機械的・電気的特性評価
        挑戦的研究(萌芽)
        中区分26:材料工学およびその関連分野
        京都大学
        平藤 哲司
        自 2018年06月29日, 至 2020年03月31日, 完了
        複合材料;結晶成長
      • アルミニウム電池における根源的課題への”めっき”からのアプローチ
        基盤研究(B)
        小区分26050:材料加工および組織制御関連
        京都大学
        平藤 哲司
        自 2018年04月01日, 至 2021年03月31日, 完了
        電析;イオン液体;めっき;深共晶溶媒;溶存酸素;アルミニウム;非水溶媒;アルミニウム電析;二次電池;溶解
      • 高移動度を有するナノポーラス半導体単結晶膜の作製技術の開発
        挑戦的研究(萌芽)
        京都大学
        三宅 正男
        自 2017年06月30日, 至 2019年03月31日, 完了
        ポーラス材料;エピタキシャル成長;エピタキシー
      • イオン液体を用いた超高融点金属の中温域電析
        基盤研究(B)
        京都大学
        三宅 正男
        自 2017年04月01日, 至 2020年03月31日, 完了
        イオン液体;電析;めっき;高融点金属
      • 非水溶媒からの電析による非平衡金属相析出を利用する新規多層膜作製法
        挑戦的萌芽研究
        京都大学
        平藤 哲司
        自 2016年04月01日, 至 2018年03月31日, 完了
        電析;非水電解液;非平衡相;多層薄膜
      • 単結晶からなる三次元サブミクロン周期構造体のエピタキシャル成長技術の開発(国際共同研究強化)
        国際共同研究加速基金(国際共同研究強化)
        京都大学
        三宅 正男
        自 2016年05月13日, 至 2018年03月31日, 完了
        エピタキシャル成長;フォトニック結晶;ナノポーラス;多孔質;ナノ構造;水熱合成;結晶成長;エピタキシャル;材料加工・処理
      • 単結晶からなる三次元サブミクロン周期構造体のエピタキシャル成長技術の開発
        若手研究(B)
        京都大学
        三宅 正男
        自 2015年04月01日, 至 2017年03月31日, 完了
        フォトニック結晶;水熱合成;水溶液プロセス;多孔質材料;エピタキシャル成長
      • 溶液ソース大気開放ミストCVD法によるリフラクトリーメタルの成膜
        挑戦的萌芽研究
        京都大学
        池之上 卓己
        自 2015年04月01日, 至 2017年03月31日, 完了
        リフラクトリーメタル;タングステン;モリブデン;炭化物;ミストCVD法
      • グローブボックス不要の新規常温アルミニウム電析浴の開発
        基盤研究(B)
        京都大学
        平藤 哲司
        自 2015年04月01日, 至 2018年03月31日, 完了
        めっき;非水溶媒;電析;電解
      • 水溶液からのアルミニウム電析への挑戦
        挑戦的萌芽研究
        京都大学
        平藤 哲司
        自 2014年04月01日, 至 2016年03月31日, 完了
        アルミニウム;電析;水溶液;合金析出;ハルセル試験;薄膜プロセス
      • リフラクトリーメタルの有機溶媒浴を用いた電析
        挑戦的萌芽研究
        京都大学
        三宅 正男
        自 2013年04月01日, 至 2015年03月31日, 完了
        電析;めっき;電解
      • 微量成分添加による有機溶媒浴からの電析アルミニウム膜の光沢化および高純度化
        基盤研究(B)
        京都大学
        平藤 哲司
        自 2012年04月01日, 至 2015年03月31日, 完了
        めっき;添加剤;金属薄膜;電気化学プロセス;表面・界面制御;電気化学
      • 貴金属の溶解速度の電気化学測定
        若手研究(B)
        東京大学
        三宅 正男
        完了
        白金-亜鉛化合物;チャネルフロー二重電極法;溶解速度;アノード溶解;金;白金;亜鉛;金属間化合物
      • リサイクルによる半導体級シリコンの製造
        基盤研究(A)
        東京大学
        前田 正史
        完了
        シリコン;電子ビーム溶解;真空;半導体;精製;クヌーセンセル質量分析法;リサイクル, Silicon;Electron beam melting;Vacuum
      • 大気開放下での非水電解液を用いたアルミニウム電気めっき技術の開発
        基盤研究(B)
        小区分26050:材料加工および組織制御関連
        京都大学
        三宅 正男
        自 2022年04月01日, 至 2025年03月31日, 採択

      外部資金:その他

      • 三次元多孔質アルミニウムの電析法の開発とリチウムイオン電池正極集電体への応用
        (財)カシオ科学振興財団 研究助成
        自 2011年, 至 2012年
        三宅正男
      • 有機溶媒からの電析による三次元ポーラスアルミニウムの作製
        (財)関西エネルギーリサイクル科学研究振興財団 若手奨励研究助成
        自 2011年, 至 2012年
        三宅正男
      • 三次元フォトニック結晶の干渉リソグラフィとエピタキシーによる形成と高特性化
        京都大学, 若手研究者ステップアップ研究費
        自 2011年, 至 2012年
        三宅正男
      • 粉末塩テンプレート電析法によるポーラスアルミニウムの作製
        (独)科学技術振興機構,A-STEP(探索タイプ)
        自 2011年, 至 2012年
        三宅正男
      • チオシアン酸銅薄膜の電析とその電気的・光学的特性の評価
        (財)日本鉱業振興会 研究助成
        自 2011年, 至 2013年
        三宅正男
      list
        Last Updated :2022/05/14

        教育

        担当科目

        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          計測学
          前期, 工学部
        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          統計熱力学
          後期, 工学部
        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          エネルギー材料学概論
          後期, 全学共通科目
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          計測学
          前期, 工学部
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          統計熱力学
          後期, 工学部
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          薄膜ナノデバイス論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          エネルギー材料学概論
          後期, 全学共通科目
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          エネルギー問題と科学技術
          後期, 全学共通科目
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          エネルギー応用科学通論
          前期, エネルギー科学研究科
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          統計熱力学
          後期, 工学部
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          薄膜ナノデバイス論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          計測学
          前期, 工学部
        • 自 2016年04月, 至 2017年03月
          エネルギー応用科学通論
          前期, エネルギー科学研究科
        • 自 2016年04月, 至 2017年03月
          薄膜ナノデバイス論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2016年04月, 至 2017年03月
          計測学
          前期, 工学部
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          エネルギー応用科学通論
          前期, エネルギー科学研究科
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          統計熱力学
          後期, 工学部
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          薄膜ナノデバイス論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2018年04月, 至 2019年03月
          エネルギー応用科学通論
          前期, エネルギー科学研究科
        • 自 2018年04月, 至 2019年03月
          統計熱力学
          後期, 工学部
        • 自 2018年04月, 至 2019年03月
          薄膜ナノデバイス論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          エネルギー応用工学設計演習・実験1
          前期, 工学部
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          エネルギー応用工学設計演習・実験2
          後期, 工学部
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          エネルギー応用科学通論
          前期, エネルギー科学研究科
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          統計熱力学
          後期, 工学部
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          薄膜ナノデバイス論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          計測学
          前期, 工学部
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          エネルギー応用工学設計演習・実験1
          前期, 工学部
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          エネルギー応用工学設計演習・実験2
          後期, 工学部
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          エネルギー応用科学通論
          前期, エネルギー科学研究科
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          統計熱力学(材エネ)
          後期, 工学部
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          薄膜ナノデバイス論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          計測学(機エネ原:学番偶数)
          前期, 工学部
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          計測学(機エネ原:学番奇数)
          前期, 工学部
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          半導体デバイス工学論
          後期, エネルギー科学研究科
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          エネルギー応用工学設計演習・実験1
          前期, 工学部
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          エネルギー応用工学設計演習・実験2
          後期, 工学部
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          統計熱力学(材エネ)
          後期, 工学部
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          計測学(機エネ原:学番偶数)
          前期, 工学部
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          計測学(機エネ原:学番奇数)
          前期, 工学部

        指導学生の業績:受賞

        • 研究奨励賞
          和田愼史, 第23回関西表面技術フォーラム, 2021年11月12日
        • 放射線分科会学生ポスター賞
          川上 未央子, 応用物理学会, 2021年11月19日
        • 学生優秀講演賞
          和田愼史, 応用物理学会放射線分科会, 2021年06月16日
        • Poster Award
          股村雄也, 応用物理学会, 2021年03月17日
        • 学術奨励講演賞
          竹内 芳州, 表面技術協会, 2021年03月04日
        • 優秀講演賞
          山上晶暉, 第21回関西表面技術フォーラム, 2019年11月22日
        • 研究奨励賞
          股村雄也, 第 20 回関西表面技術フォーラム, 2018年11月22日
        • 優秀ポスター発表賞
          吉田拓司, 第 18 回関西表面技術フォーラム, 2016年11月17日
        • 優秀発表賞
          藤井久史, 平成 26 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2014年12月25日
        • 優秀ポスター発表賞
          楢原直人, 表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 2014年11月27日
        • 優秀講演賞
          遠藤厚志, 表面技術協会, 2014年03月
        • 優秀発表賞
          森川健二, 平成 25 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2013年11月28日
        • 優秀講演賞
          赤坂一行, 第14回関西表面技術フォーラム, 2012年11月30日
        • 優秀発表賞
          福井宏史, 資源・素材学会関西支部 第9回若手研究者・学生のための研究発表会, 2012年11月27日
        • 優秀発表賞
          成田諭一郎, 平成23年度材料科学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 2011年12月16日
        • 優秀発表賞
          松本尚人, 資源・素材学会関西支部 第8回若手研究者・学生のための研究発表会, 2011年12月12日
        • 研究奨励賞
          西尾峻一, 第13回関西表面技術フォーラム, 2011年11月29日
        • 優秀ポスター発表賞
          福井宏史, 第13回関西表面技術フォーラム, 2011年11月29日
        • 優秀発表賞
          田力誠也, 平成22年度第2回鉄鋼プロセス研究会・第3回材料化学研究会 合同研究会, 2010年12月17日
        list
          Last Updated :2022/05/14

          大学運営

          部局運営(役職等)

          • 自 2013年04月01日, 至 2015年03月31日
            安全衛生委員会 委員
          • 自 2014年04月01日, 至 2015年03月31日
            入試委員会 委員
          • 自 2020年04月01日, 至 2021年03月31日
            入試委員会 委員
          • 自 2020年04月01日, 至 2021年03月31日
            広報委員会 委員
          • 自 2021年04月01日, 至 2022年03月31日
            国際交流委員会 委員

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