基本情報

協力講座

• 工学研究科, 原子核工学専攻 量子理工学講座, 准教授

学部兼担

• 工学部

所属学協会

• 米国真空学会(American Vaccum Society)
• 日本物理学会
• 応用物理学会

学位

• 博士（工学）(京都大学)

出身学校・専攻等

• 京都大学, 工学部電子工学科, 卒業

使用言語

• 英語

ID,URL

• J-Global ID

  200901098950845463

関連Webサイト

• http://sakura.nucleng.kyoto-u.ac.jp/index.html

researchmap URL

• https://researchmap.jp/jiro_matsuo

研究

研究キーワード

• 先端分析技術
• 表面衝突
• イオンビーム
• material analysis
• surface collision
• ion beam

研究分野

• ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学）, 電子デバイス、電子機器

論文

• Monte Carlo simulation of surface smoothing effect by cluster ions

  Norihisa Hagiwara; Noriaki Toyoda; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年

  
• Molecular dynamics study of implant and damage formation in low-energy boron cluster ion implantation

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Zinetulla Insepov; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年

  
• Formation of complex clusters in Ar/O2 gas cluster beams

  Masahiro Saito; Norihisa Hagiwara; Noriaki Toyoda; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年

  
• Characterization of damage induced by cluster ion implantation

  Aoki, T.; Matsuo, J.; Takaoka, G.

  Materials Research Society Symposium - Proceedings, 2001年03月

  
• Secondary ion mass spectrometry with gas cluster ion beams

  Toyoda, N.; Matsuo, J.; Aoki, T.; Chiba, S.; Yamada, I.; Fenner, D.B.; Torti, R.

  Materials Research Society Symposium - Proceedings, 2001年03月

  
• SIMS 測定のためのプラス α の研究技術

  松尾 二郎

  応用物理, 2023年04月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• COクラスターの生成および評価

  唐橋 一浩; 瀬木 利夫; 松尾 二郎; 浜口 智志

  応用物理学会学術講演会講演予稿集, 2014年03月03日

  
• High aspect (>20) etching with reactive gas cluster injection

  Toshio Seki; Hiroki Yamamoto; Kunihiko Koike; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2022年07月, 査読有り

  
• Photoinduced oxygen transport in cobalt double-perovskite crystal EuBaCo2O5.39

  Masaki Hada; Satoshi Ohmura; Tadahiko Ishikawa; Masaki Saigo; Naoya Keio; Wataru Yajima; Tatsuya Suzuki; Daisuke Urushihara; Kou Takubo; Yusuke Masaki; Makoto Kuwahara; Kenji Tsuruta; Yasuhiko Hayashi; Jiro Matsuo; Takayoshi Yokoya; Ken Onda; Fuyuki Shimojo; Muneaki Hase; Sumio Ishihara; Toru Asaka; Nobuyuki Abe; Taka-hisa Arima; Shin-ya Koshihara; Yoichi Okimoto

  APPLIED MATERIALS TODAY, 2021年09月, 査読有り

  
• Evaluation of damage depth on arginine films with molecular depth profiling by Ar cluster ion beam

  Yamamoto Yasuyuki; Ichiki Kazuya; Seki Toshio; Aoki Takaaki; Matsuo Jiro

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2011年

  
• 軟Ｘ線光電子分光法を用いた半導体表面層の評価

  松尾 二郎; 佐藤 章; 中山 範明

  表面科学, 1991年

  
• Effects on CO Oxidation Activity of Nano-Scale Au Islands and TiO2 Support Prepared by the Ionized Cluster Beam Method

  Fukushima Kazunori; Takaoka Gikan H.; Matsuo Jiro; Yamada Isao

  Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes, 1997年02月15日

  
• Study of the Etching Reaction by Atomic Chlorine Using Molecular Beam Scattering

  Karahashi Kazuhiro; Matsuo Jiro; Horiuchi Kei

  Japanese Journal of Applied Physics, 1994年04月30日

  
• Study on Chlorine Adsorbed Silicon Surface Using Soft-X-Ray Photoemission Spectroscopy

  Matsuo Jiro; Karahashi Kazuhiro; Sato Akira; Hijiya Shinpei

  Jpn J Appl Phys, 1992年06月20日

  
• Chemical States of Bromine Atoms on SiO2 Surface after HBr Reactive Ion Etching: Analysis of Thin Oxide

  Koshino Keiji; Matsuo Jiro; Nakamura Moritaka

  Jpn J Appl Phys, 1993年06月20日

  
• Observation of Liquid Water with Ambient SIMS

  Kusakari M.; Fujii M.; Seki T.; Aoki T.; Matsuo J.

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2016年

  
• Low Vacuum SIMS Measurements of Higher Alcohols with MeV-energy Heavy Ion Beam

  Kusakari Masakazu; Fujii Makiko; Seki Toshio; Aoki Takaaki; Matsuo Jiro

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2014年

  
• Phonon transport probed at carbon nanotube yarn/sheet boundaries by ultrafast structural dynamics

  Masaki Hada; Kotaro Makino; Hirotaka Inoue; Taisuke Hasegawa; Hideki Masuda; Hiroo Suzuki; Keiichi Shirasu; Tomohiro Nakagawa; Toshio Seki; Jiro Matsuo; Takeshi Nishikawa; Yoshifumi Yamashita; Shin-ya Koshihara; Vlad Stolojan; S. Ravi P. Silva; Jun-ichi Fujita; Yasuhiko Hayashi; Satoshi Maeda; Muneaki Hase

  CARBON, 2020年12月, 査読有り

  
• MeV-SIMS measurement of lithium-containing electrolyte

  Toshio Seki; Tomoya Nonomura; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2020年09月, 査読有り

  
• Secondary ion mass spectrometry measurements under ambient and humid conditions using MeV ions

  Toshio Seki; Kenta Ishii; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2020年05月, 査読有り

  
• Optimized Alkali-Metal Cationization in Secondary Ion Mass Spectrometry of Polyethylene Glycol Oligomers with up to m/z 10000: Dependence on Cation Species and Concentration

  Hubert Gnaser; Rika Oki; Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  ANALYTICAL CHEMISTRY, 2020年01月, 査読有り

  
• Effect of ramping up rate on end of range defect in multielement molecular-ion (CH3O)-implanted silicon wafers

  Ryo Hirose; Ayumi Onaka-Masada; Ryosuke Okuyama; Takeshi Kadono; Satoshi Shigematsu; Kouji Kobayashi; Akihiro Suzuki; Yoshihiro Koga; Jiro Matsuo; Kazunari Kurita

  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2019年12月, 査読有り

  
• Selective Reduction Mechanism of Graphene Oxide Driven by the Photon Mode versus the Thermal Mode.

  Masaki Hada; Kiyoshi Miyata; Satoshi Ohmura; Yusuke Arashida; Kohei Ichiyanagi; Ikufumi Katayama; Takayuki Suzuki; Wang Chen; Shota Mizote; Takayoshi Sawa; Takayoshi Yokoya; Toshio Seki; Jiro Matsuo; Tomoharu Tokunaga; Chihiro Itoh; Kenji Tsuruta; Ryo Fukaya; Shunsuke Nozawa; Shin-Ichi Adachi; Jun Takeda; Ken Onda; Shin-Ya Koshihara; Yasuhiko Hayashi; Yuta Nishina

  ACS nano, 2019年09月24日, 査読有り

  
• Gas cooling secondary ions emitted by gas cluster ion beam at the travelling wave ion guide of a Q-ToF-SIMS system

  P. Thopan; T. Seki; L. D. Yu; U. Tippawan; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2019年07月, 査読有り

  
• Cluster ion beam bombardment and Q-ToF-SIMS analysis of large biomolecules

  P. Thopan; T. Seki; L. D. Yu; U. Tippawan; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2019年06月, 査読有り

  
• In situ cationization of molecular ions sputtered from organic specimens under cluster bombardment

  Hubert Gnaser; Wolfgang Bock; Jiro Matsuo

  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2018年05月, 査読有り

  
• In situ cationization of molecular ions sputtered from organic specimens under cluster bombardment

  Hubert Gnaser; Wolfgang Bock; Jiro Matsuo

  Journal of Vacuum Science and Technology B: Nanotechnology and Microelectronics, 2018年05月01日, 査読有り

  
• 招待講演 新しいプローブイオンを用いたSIMSによる有機材料分析 (光・量子デバイス研究会 微細加工技術とバイオ・メディカル応用)

  瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  電気学会研究会資料. OQD = The papers of technical meeting on optical and quantum devices, IEE Japan, 2018年03月28日

  
• 大気圧SIMS法による固液界面の観察

  松尾 二郎

  表面科学学術講演会要旨集, 2018年01月

  
• Cationization and fragmentation of molecular ions sputtered from polyethylene glycol under gas cluster bombardment: An analysis by MS and MS/MS

  Thopan, Prutchayawoot; Gnaser, Hubert; Oki, Rika; Aoki, Takaaki; Seki, Toshio; Matsuo, Jiro

  International Journal of Mass Spectrometry, 2018年, 査読有り

  
• SIMS技術の飛躍的発展を支える新技術：新奇なイオンビーム開発から先端質量分析法まで

  松尾 二郎; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  表面と真空, 2018年

  
• Molecular imaging of alkaloids in khat (Catha edulis) leaves with MeV-SIMS

  Bostjan Jencic; Luka Jeromel; Nina Ogrinc Potocnik; Katarina Vogel-Mikus; Primoz Vavpetic; Zdravko Rupnik; Klemen Bucar; Matjaz Vencelj; Mitja Kelemen; Jiro Matsuo; Masakazu Kusakari; Zdravko Siketic; Muhammad A. Al-Jalali; Abdallah Shaltout; Primoz Pelicon

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2017年08月, 査読有り

  
• Angled etching of Si by ClF3-Ar gas cluster injection

  Seki, Toshio; Yamamoto, Hiroki; Kozawa, Takahiro; Shojo, Tadashi; Koike, Kunihiko; Aoki, Takaaki; Matsuo, Jiro

  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2017年06月, 査読有り

  
• 巻頭言：「イオン化」特集号に寄せて

  松尾 二郎

  質量分析, 2017年01月

  
• 時間分解電子線回折法を用いたEuBaCo₂O_5.38の構造ダイナミクス計測

  羽田 真毅; 鈴木 達也; 阿部 伸行; 有馬 孝尚; 沖本 洋一; 腰原 伸也; 慶尾 直哉; 村上 寛虎; 西川 亘; 山下 善文; 林 靖彦; 横谷 尚睦; 松尾 二郎; 浅香 透

  日本物理学会講演概要集, 2017年01月

  
• Fabrication of a Si lever structure made by double-angled etching with reactive gas cluster injection

  Seki, T.; Yamamoto, H.; Kozawa, T.; Koike, K.; Aoki, T.; Matsuo, J.

  Applied Physics Letters, 2017年, 査読有り

  
• Molecular dynamics simulations study of nano particle migration by cluster impact

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  Surface and Coatings Technology, 2016年11月, 査読有り

  
• Effects of molecular weight and cationization agent on the sensitivity of Bi cluster secondary ion mass spectrometry

  Makiko Fujii; Rie Shishido; Takaya Satoh; Shigeru Suzuki; Jiro Matsuo

  RAPID COMMUNICATIONS IN MASS SPECTROMETRY, 2016年07月, 査読有り

  
• Solvent-free silver-nanoparticle surface-assisted laser desorption/ionization imaging mass spectrometry of the Irganox 1010 coated on polystyrene

  Takaya Satoh; Hironobu Niimi; Naoki Kikuchi; Makiko Fujii; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  INTERNATIONAL JOURNAL OF MASS SPECTROMETRY, 2016年06月, 査読有り

  
• Reactive etching by ClF3–Ar neutral cluster beam with scanning

  Toshio Seki; Yu Yoshino; Takehiko Senoo; Kunihiko Koike; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Japanese Journal of Applied Physics, 2016年05月09日, 査読有り

  
• Reactive etching by ClF

  Seki Toshio; Yoshino Yu; Senoo Takehiko; Koike Kunihiko; Aoki Takaaki; Matsuo Jiro

  Jpn. J. Appl. Phys., 2016年05月09日

  
• Secondary ion emission from leucine and isoleucine under argon gas-cluster ion bombardment

  Hubert Gnaser; Masakazu Kusakari; Makiko Fujii; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Journal of Vacuum Science and Technology B: Nanotechnology and Microelectronics, 2016年05月01日, 査読有り

  
• Development of ambient SIMS using mega-electron-volt-energy ion probe

  Masakazu Kusakari; Makiko Fujii; Toshio Seki; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Journal of Vacuum Science and Technology B: Nanotechnology and Microelectronics, 2016年05月, 査読有り

  
• Peptide Fragmentation and Surface Structural Analysis by Means of ToF-SIMS Using Large Cluster Ion Sources

  Yuta Yokoyama; Satoka Aoyagi; Makiko Fujii; Jiro Matsuo; John S. Fletcher; Nicholas P. Lockyer; John C. Vickerman; Melissa K. Passarelli; Rasmus Havelund; Martin P. Seah

  ANALYTICAL CHEMISTRY, 2016年04月, 査読有り

  
• クラスタービーム技術の新展開

  松尾 二郎; 藤井 麻樹子; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  精密工学会誌, 2016年01月

  
• クラスターイオンビーム技術の最近の進展—ナノ加工からバイオ材料評価まで—

  松尾 二郎; 藤井 麻樹子; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  Journal of the Vacuum Society of Japan, 2016年01月

  
• レーザー脱離イオン化イメージング質量分析法による表面分析の可能性

  佐藤 貴弥; 藤井 麻樹子; 松尾 二郎

  Journal of Surface Analysis, 2016年01月

  
• クラスターSIMS法の新展開

  松尾 二郎

  表面科学学術講演会要旨集, 2016年01月

  
• Yields and images of secondary ions from organic materials by different primary Bi ions in time-of-flight secondary ion mass spectrometry

  Shishido, R.; Fujii, M.; Seki, T.; Aoki, T.; Matsuo, J.; Suzuki, S.

  Rapid Communications in Mass Spectrometry, 2016年, 査読有り

  
• Ambient analysis of liquid materials with Wet-SIMS

  Seki, T.; Kusakari, M.; Fujii, M.; Aoki, T.; Matsuo, J.

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2016年, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Development of ambient SIMS using mega-electron-volt-energy ion probe

  Masakazu Kusakari; Makiko Fujii; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena, 2016年, 査読有り

  
• Secondary ion emission from leucine and isoleucine under argon gas-cluster ion bombardment

  Gnaser, H.; Kusakari, M.; Fujii, M.; Seki, T.; Aoki, T.; Matsuo, J.

  Journal of Vacuum Science and Technology B: Nanotechnology and Microelectronics, 2016年, 査読有り

  
• Development of Low-vacuum SIMS instruments with large cluster Ion beam

  Suzuki, K.; Kusakari, M.; Fujii, M.; Seki, T.; Aoki, T.; Matsuo, J.

  Surface and Interface Analysis, 2016年, 査読有り

  
• High-aspect-ratio patterning by ClF3-Ar neutral cluster etching

  Hiroki Yamamoto; Toshio Seki; Jiro Matsuo; Kunihiko Koike; Takahiro Kozawa

  MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2015年06月, 査読有り

  
• Molecular cluster emission in sputtering of amino acids by argon gas-cluster ions

  Masakazu Kusakari; Hubert Gnaser; Makiko Fujii; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  INTERNATIONAL JOURNAL OF MASS SPECTROMETRY, 2015年05月, 査読有り

  
• Progress and applications of cluster ion beam technology

  I. Yamada; J. Matsuo; N. Toyoda; T. Aoki; T. Seki

  CURRENT OPINION IN SOLID STATE & MATERIALS SCIENCE, 2015年02月, 査読有り

  
• Mass analysis by Ar-GCIB-dynamic SIMS for organic materials

  Masato Suzuki; Masashi Nojima; Makiko Fujii; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2015年02月, 査読有り

  
• Mass analysis by Ar-GCIB-dynamic SIMS for organic materials (Retracted article. See vol. 48, pg. 383, 2016)

  Masato Suzuki; Masashi Nojima; Makiko Fujii; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2015年02月, 査読有り

  
• クラスターSIMS法を用いた生体試料分析の現状と課題

  藤井 麻樹子; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  表面科学学術講演会要旨集, 2015年01月

  
• クラスターSIMS法による生体分子の高空間分解能イメージング

  松尾 二郎; 鈴木 敢士; 草刈 将一; 藤井 麻樹子; 青木 学聡; 瀬木 利夫

  表面科学学術講演会要旨集, 2015年01月

  
• BiクラスターTOF-SIMSによる有機材料のイメージング分析に関する研究

  宍戸 理恵; 藤井 麻樹子; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎; 鈴木 茂

  表面科学学術講演会要旨集, 2015年01月

  
• Mass analysis by Ar-GCIB-dynamic SIMS for organic materials

  Masato Suzuki; Masashi Nojima; Makiko Fujii; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2014年12月, 査読有り

  
• Analysis of liquid materials in low vacuum with Wet-SIMS

  Toshio Seki; Makiko Fujii; Masakazu Kusakari; Shunichiro Nakagawa; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2014年12月, 査読有り

  
• Quantitative analysis of lipids with argon gas cluster ion beam secondary ion mass spectrometry

  Makiko Fujii; Shunichirou Nakagawa; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2014年12月, 査読有り

  
• Lipid compounds analysis with MeV-SIMS apparatus for biological applications

  Makiko Fujii; Masakazu Kusakari; Kazuhiro Matsuda; Naoki Man; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2014年11月, 査読有り

  
• Development of organic SIMS system with Ar-GCIB and IMS-4f

  Masashi Nojima; Masato Suzuki; Makiko Fujii; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2014年11月, 査読有り

  
• Development of a TOF SIMS setup at the Zagreb heavy ion microbeam facility

  Tonci Tadic; Iva Bogdanovic Radovic; Zdravko Siketic; Donny Domagoj Cosic; Natko Skukan; Milko Jaksic; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2014年08月, 査読有り

  
• Biomaterial imaging with MeV-energy heavy ion beams

  Toshio Seki; Yoshinobu Wakamatsu; Shunichiro Nakagawa; Takaaki Aoki; Akihiko Ishihara; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2014年08月, 査読有り

  
• Development of Au-GCIB dynamic SIMS and cluster size filtering system

  M. Nojima; M. Suzuki; T. Adachi; S. Hotta; M. Fujii; T. Seki; J. Matsuo

  Microscopy and Microanalysis, 2014年08月01日, 査読有り

  
• Novel SIMS system with focused massive cluster ion source for mass imaging spectrometry with high lateral resolution

  Jiro Matsuo; Souta Torii; Kazuki Yamauchi; Keisuke Wakamoto; Masakazu Kusakari; Shunichiro Nakagawa; Makiko Fujii; Takaaki Aoki; Toshio Seki

  APPLIED PHYSICS EXPRESS, 2014年05月, 査読有り

  
• Cold ablation driven by localized forces in alkali halides

  Masaki Hada; Dongfang Zhang; Kostyantyn Pichugin; Julian Hirscht; Micha A. Kochman; Stuart A. Hayes; Stephanie Manz; Regis Y. N. Gengler; Derek A. Wann; Toshio Seki; Gustavo Moriena; Carole A. Morrison; Jiro Matsuo; German Sciaini; R. J. Dwayne Miller

  NATURE COMMUNICATIONS, 2014年05月, 査読有り

  
• Study on the detection limits of a new argon gas cluster ion beam secondary ion mass spectrometry apparatus using lipid compound samples

  Makiko Fujii; Shunichirou Nakagawa; Kazuhiro Matsuda; Naoki Man; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  RAPID COMMUNICATIONS IN MASS SPECTROMETRY, 2014年04月, 査読有り

  
• Prolific cluster emission in sputtering of phenylalanine by argon-cluster ion bombardment

  Hubert Gnaser; Makiko Fujii; Shunichirou Nakagawa; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  INTERNATIONAL JOURNAL OF MASS SPECTROMETRY, 2014年03月, 査読有り

  
• クラスタイオンビームを用いる表面分析技術の新展開

  松尾 二郎

  応用物理, 2014年01月

  
• クラスターSIMS法による脂質分子の高感度検出とイメージングへの応用

  藤井 麻樹子; 宍戸 理恵; 鳥居 聡太; 中川 駿一郎; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 鈴木 茂; 松尾 二郎

  表面科学, 2014年01月

  
• An electrostatic quadrupole doublet focusing system for MeV heavy ions in MeV-SIMS

  T. Seki; S. Shitomoto; S. Nakagawa; T. Aoki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2013年11月, 査読有り

  
• Molecular dynamics simulation study of damage formation and sputtering with huge fluorine cluster impact on silicon

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2013年05月, 査読有り

  
• Ion-induced damage evaluation with Ar cluster ion beams

  Yasuyuki Yamamoto; Kazuya Ichiki; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2013年01月, 査読有り

  
• Development of gas cluster ion beam irradiation system with an orthogonal acceleration TOF instrument

  K. Ichiki; J. Tamura; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2013年01月, 査読有り

  
• Sputtered ion emission under size-selected Arn+ cluster ion bombardment

  Hubert Gnaser; Kazuya Ichiki; Jiro Matsuo

  Surface and Interface Analysis, 2013年01月, 査読有り

  
• Peptide dissociation patterns in secondary ion mass spectrometry under large argon cluster ion bombardment

  Hubert Gnaser; Makiko Fujii; Shunichirou Nakagawa; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Rapid Communications in Mass Spectrometry, 2013年, 査読有り

  
• Ultrafine particle removal using gas cluster ion beam technology

  Kazuya Dobashi; Kensuke Inai; Misako Saito; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 2013年, 査読有り

  
• Removal of Ion implanted Poly vinyl phenol using Wet Ozone

  Yousuke Goto; Yukihiro Angata; Masashi Yamamoto; Toshio Seki; Jiro Matsumoto; Hideo Horibe

  JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2013年, 査読有り

  
• Hot electron injection driven phase transitions

  Masaki Hada; Dongfang Zhang; Albert Casandruc; R. J. Dwayne Miller; Yusaku Hontani; Jiro Matsuo; Robert E. Marvel; Richard F. Haglund

  Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics, 2012年10月01日, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Hot electron injection driven phase transitions

  Masaki Hada; Dongfang Zhang; Albert Casandruc; R. J. Dwayne Miller; Yusaku Hontani; Jiro Matsuo; Robert E. Marvel; Richard F. Haglund

  PHYSICAL REVIEW B, 2012年10月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Ultrafast X-ray sources for time-resolved measurements

  Masaki Hada; Jiro Matsuo

  X-RAY SPECTROMETRY, 2012年07月, 査読有り

  
• Molecular dynamics study of crater formation by core-shell structured cluster impact

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2012年07月, 査読有り

  
• Depth profiling analysis of damaged arginine films with Ar cluster ion beams

  J. Matsuo; K. Ichiki; Y. Yamamoto; T. Seki; T. Aoki

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2012年06月, 査読有り

  
• Femtosecond electron diffraction: Preparation and characterization of (110)-oriented bismuth films

  Gustavo Moriena; Masaki Hada; German Sciaini; Jiro Matsuo; R. J. Dwayne Miller

  JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2012年02月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Strongly reduced fragmentation and soft emission processes in sputtered ion formation from amino acid films under large Ar-n(+) (n <= 2200) cluster ion bombardment

  Hubert Gnaser; Kazuya Ichiki; Jiro Matsuo

  RAPID COMMUNICATIONS IN MASS SPECTROMETRY, 2012年01月, 査読有り

  
• Low-damage milling of an amino acid thin film with cluster ion beam

  Masaki Hada; Sachi Ibuki; Yusaku Hontani; Yasuyuki Yamamoto; Kazuya Ichiki; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2011年11月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Etching of metallic materials with Cl-2 gas cluster ion beam

  T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2011年11月, 査読有り

  
• Highly sensitive molecular detection with swift heavy ions

  Yoshinobu Wakamatsu; Hideaki Yamada; Satoshi Ninomiya; Brian N. Jones; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Roger Webb; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2011年10月, 査読有り

  
• The effects of cluster size on sputtering and surface smoothing of PMMA with gas cluster ion beams

  Kazuya Ichiki; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2011年09月, 査読有り

  
• Photo-induced lattice softening of excited-state VO2

  Masaki Hada; Kunio Okimura; Jiro Matsuo

  APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011年08月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics simulations of large fluorine cluster impact on silicon with supersonic velocity

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2011年07月, 査読有り

  
• The effect of incident energy on molecular depth profiling of polymers with large Ar cluster ion beams

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Hideaki Yamada; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2011年01月, 査読有り

  
• Analysis of organic semiconductor multilayers with Ar cluster secondary ion mass spectrometry

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Hideaki Yamada; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2011年01月, 査読有り

  
• Characterization of vapor-deposited L-leucine nanofilm

  Masaki Hada; Kazuya Ichiki; Jiro Matsuo

  THIN SOLID FILMS, 2011年01月, 査読有り

  
• Comparison of MeV monomer ion and keV cluster ToF-SIMS

  Brian N. Jones; Jiro Matsuo; Yoshihiko Nakata; Hideaki Yamada; John Watts; Steven Hinder; Vladimir Palitsin; Roger Webb

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2011年01月, 査読有り

  
• Surface morphology of PMMA surfaces bombarded with size-selected gas cluster ion beams

  K. Ichiki; S. Ninomiya; Y. Nakata; H. Yamada; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2011年01月, 査読有り

  
• MeV-energy probe SIMS imaging of major components in washed and fractured animal cells

  H. Yamada; Y. Nakata; S. Ninomiya; T. Seki; T. Aoki; J. Tamura; J. Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2011年01月, 査読有り

  
• Using ellipsometry for the evaluation of surface damage and sputtering yield in organic films with irradiation of argon cluster ion beams

  Masaki Hada; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2011年01月, 査読有り

  
• Evaluation of lattice motion in CdTe single crystal using in-air tabletop time-resolved X-ray diffractometer

  Masaki Hada; Jiro Matsuo

  BURIED INTERFACE SCIENCES WITH X-RAYS AND NEUTRONS 2010, 2011年, 査読有り

  
• Simultaneous Sterilization With Surface Modification Of Plastic Bottle By Plasma-Based Ion Implantation

  N. Sakudo; N. Ikenaga; F. Ikeda; Y. Nakayama; Y. Kishi; Z. Yajima; Jiro Matsuo; Masataka Kase; Takaaki Aoki; Toshio Seki

  2011年

  
• Processing Techniques of Biomaterials: Using Gas Cluster Ion Beam for Imaging Mass Spectrometry

  H Yamada; K Ichiki; Y Nakata; S Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2010年12月, 査読有り

  
• SIMS Depth Profiling of Organic Materials with Ar Cluster Ion Beam

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Hideaki Yamada; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2010年12月, 査読有り

  
• Sputtering Properties of Si by Size-Selected Ar Gas Cluster Ion Beam

  K Ichiki; S Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2010年12月, 査読有り

  
• Nano processing with gas cluster ion beams

  Jiro Matsuo; Teruyuki Kitagawa; Toshio Seki; Takaaki Aoki

  Toraibarojisuto/Journal of Japanese Society of Tribologists, 2010年12月01日

  
• Anisotropic etching using reactive cluster beams

  Kunihiko Koike; Yu Yoshino; Takehiko Senoo; Toshio Seki; Satoshi Ninomiya; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Applied Physics Express, 2010年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術

  松尾 二郎; 北川 晃幸; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  トライボロジスト, 2010年11月15日, 査読有り

  
• Characterization of structural dynamics of VO2 thin film on c-Al2O3 using in-air time-resolved x-ray diffraction

  Masaki Hada; Kunio Okimura; Jiro Matsuo

  PHYSICAL REVIEW B, 2010年10月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• SIMS with highly excited primary beams for molecular depth profiling and imaging of organic and biological materials

  Jiro Matsuo; Satoshi Ninomiya; Hideaki Yamada; Kazuya Ichiki; Yoshinobu Wakamatsu; Masaki Hada; Toshio Seki; Takaaki Aoki

  SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, 2010年10月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• MeV-energy probe SIMS imaging of major components in animal cells etched using large gas cluster ions

  Hideaki Yamada; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2010年06月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• 高密度励起ビームによる二次イオン質量分析法の有機・生体材料への新展開

  松尾 二郎

  應用物理, 2010年04月, 査読有り

  
• Effects of ambient pressure on Cu K alpha X-ray radiation with millijoule and high-repetition-rate femtosecond laser

  M. Hada; J. Matsuo

  APPLIED PHYSICS B-LASERS AND OPTICS, 2010年04月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics simulations for gas cluster ion beam processes

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  VACUUM, 2010年03月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Organic Depth Profiling of a Nanostructured Delta Layer Reference Material Using Large Argon Cluster Ions

  J. L. S. Lee; S. Ninomiya; J. Matsuo; I. S. Gilmore; M. P. Seah; A. G. Shard

  ANALYTICAL CHEMISTRY, 2010年01月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Evaluation of Damage Layer in an Organic Film with Irradiation of Energetic Ion Beams

  Masaki Hada; Sachi Ibuki; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2010年, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Development of Ultrafast Pulse X-ray Source in Ambient Pressure with a Millijoule High Repetition Rate Femtosecond Laser

  Masaki Hada; Jiro Matsuo

  Green Energy and Technology, 2010年, 査読有り

  
• Luminescence studies of residual damage in low-dose arsenic implanted silicon after high-temperature annealing

  Akihiko Sagara; Miori Hiraiwa; Satoshi Shibata; Ryuichi Sugie; Keiichi Yamada

  AIP Conference Proceedings, 2010年, 査読有り

  
• Molecular depth profiling of multilayer structures of organic semiconductor materials by secondary ion mass spectrometry with large argon cluster ion beams

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Hideaki Yamada; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  RAPID COMMUNICATIONS IN MASS SPECTROMETRY, 2009年10月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Study of density effect of large gas cluster impact by molecular dynamics simulations

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2009年09月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• The emission process of secondary ions from solids bombarded with large gas cluster ions

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2009年08月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Precise and fast secondary ion mass spectrometry depth profiling of polymer materials with large Ar cluster ion beams

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Hideaki Yamada; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  RAPID COMMUNICATIONS IN MASS SPECTROMETRY, 2009年06月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Imaging mass spectrometry with nuclear microprobes for biological applications

  Y. Nakata; H. Yamada; Y. Honda; S. Ninomiya; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2009年06月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Study of crater formation and sputtering process with large gas cluster impact by molecular dynamics simulations

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2009年05月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• High-speed processing with Cl-2 cluster ion beam

  T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2009年05月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Low Damage Etching of Polymer Materials for Depth Profile Analysis Using Large Ar Cluster Ion Beam

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Hideaki Yamada; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Journal of Surface Analysis, 2009年02月, 査読有り

  
• Matrix-free high-resolution imaging mass spectrometry with high-energy ion projectiles

  Yoshihiko Nakata; Yoshiro Honda; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  JOURNAL OF MASS SPECTROMETRY, 2009年01月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• A Processing Technique for Cell Surfaces Using Gas Cluster Ions for Imaging Mass Spectrometry

  Hideaki Yamada; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Journal of the Mass Spectrometry Society of Japan, 2009年01月, 査読有り

  
• Study of damage accumulation and annealing process at low energy boron implantation using molecular dynamics simulations

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Extended Abstracts of the 9th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2009, 2009年, 査読有り

  
• Stress measurement of carbon cluster implanted layers with in-plane diffraction technique

  Jiro Matsuo; Kazuya Ichiki; Masaki Hada; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Tsutomu Nagayama; Masayasu Tanjyo

  Extended Abstracts of the 9th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2009, 2009年, 査読有り

  
• What size of cluster is most appropriate for SIMS?

  Jiro Matsuo; Satoshi Ninomiya; Yoshihiko Nakata; Yoshiro Honda; Kazuya Ichiki; Toshio Seki; Takaaki Aoki

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2008年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Low Damage Etching and SIMS Depth Profiling with Large Ar Cluster Ions

  Satoshi Ninomiya; Jiro Matsuo; Kazuya Ichiki; Hideaki Yamada; Yoshihiko Nakata; Yoshiro Honda; Toshio Seki; Takaaki Aoki

  Transactions of the MRS-J, 2008年12月, 査読有り

  
• High-Speed Nano-Processing with Cluster Ion Beams

  Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Transactions of the MRS-J, 2008年12月, 査読有り

  
• A fragment-free ionization technique for organic mass spectrometry with large Ar cluster ions

  Satoshi Ninomiya; Yoshihiko Nakata; Yoshiro Honda; Kazuya Ichiki; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2008年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Yield enhancement of molecular ions with MeV ion-induced electronic excitation

  Y. Nakata; Y. Honda; S. Ninomiya; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2008年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• SIMS Analysis of Biological Mixtures with Fast Heavy Ion Irradiation

  Yoshiro Honda; Yoshihiko Nakata; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Transactions of the MRS-J, 2008年12月, 査読有り

  
• High sputtering yields of organic compounds by large gas cluster ions

  K. Ichiki; S. Ninomiya; Y. Nakata; Y. Honda; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2008年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• MD simulation study of the sputtering process by high-energy gas cluster impact

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Satoshi Ninomiya; Jiro Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2008年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Secondary ion emission from Si bombarded with large Ar cluster ions under UHV conditions

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Yoshiro Honda; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2008年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Carbon nanotubes from a divided catalyst: the carbon transmission method

  Takeshi Hikata; Kazuhiko Hayashi; Tomoyuki Mizukoshi; Yoshiaki Sakurai; Itsuo Ishigami; Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  APPLIED PHYSICS EXPRESS, 2008年03月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Summary of Industry-Academia Collaboration Projects on Cluster Ion Beam Process Technology

  Yamada Isao; Matsuo Jiro; Toyoda Noriaki

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2008, 2008年, 査読有り

  
• Low damage smoothing of magnetic materials using off-nonnal gas cluster ion beam irradiation

  S. Kakuta; S. Sasaki; K. Furusawa; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2007年08月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics study of monomer and dimer emission processes with high energy gas cluster ion impact

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Satoshi Ninomiya; Jiro Matsuo

  SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2007年08月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics study of glancing angle gas cluster irradiation on irregular-structured surfaces

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年08月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Energy distribution of high-energy cluster ion beams

  T. Seki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年08月

  この論文にアクセスする：

  
• Surface processing with high-energy gas cluster ion beams

  Toshio Seki; Jiro Matsuo

  SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2007年08月

  この論文にアクセスする：

  
• High-speed processing with high-energy SF6 cluster ion beam

  T. Seki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月

  この論文にアクセスする：

  
• Effect of oblique irradiation of gas cluster ion beam on surface properties of gold mirrors

  A. Suzuki; E. Bourelle; A. Sato; T. Seki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月

  この論文にアクセスする：

  
• Low-damage surface smoothing of laser crystallized polycrystalline silicon using gas cluster ion beam

  H. Tokioka; H. Yamarin; T. Fujino; M. Inoue; T. Seki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics simulations of surface smoothing and sputtering process with glancing-angle gas cluster ion beams

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Low damage smoothing of magnetic material films using a gas cluster ion beam

  S. Kakuta; S. Sasaki; T. Hirano; K. Ueda; T. Seki; S. Ninomiya; M. Hada; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月

  この論文にアクセスする：

  
• Size effect in cluster collision on solid surfaces

  Jiro Matsuo; Satoshi Ninomiya; Yoshihiko Nakata; Kazuya Ichiki; Takaaki Aoki; Toshio Seki

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Secondary ion emission from bio-molecular thin films under ion bombardment

  Yoshihiko Nakata; Satoshi Ninomiya; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年03月

  この論文にアクセスする：

  
• Measurements of secondary ions emitted from organic compounds bombarded with large gas cluster ions

  Satoshi Ninomiya; Yoshihiko Nakata; Kazuya Ichiki; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年03月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Surface oxidation of Si assisted by irradiation with large gas cluster ion beam in an oxygen atmosphere

  K. Ichiki; S. Ninomiya; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年03月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• The effect of incident cluster ion energy and size on secondary ion yields emitted from Si

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年03月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics study of surface modification with a glancing angle gas cluster ion beam

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年02月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Ion-induced emission of amino acid molecular ions from thin films

  Y. Nakata; Y. Honda; S. Ninomiya; J. Matsuo

  TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 32, NO 4, 2007年

  この論文にアクセスする：

  
• The effect of incident cluster ion size on secondary ion yields produced from Si

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 32, NO 4, 2007年, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Secondary ion measurements for oxygen cluster ion SIMS

  Satoshi Ninomiya; Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2006年07月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics study of particle emission by reactive cluster ion impact

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2006年07月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• High-intensity Si cluster ion emission from a silicon target bombarded with large Ar cluster ions

  Satoshi Ninomiya; Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  APPLIED SURFACE SCIENCE, 2006年07月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• ITO surface smoothing with argon cluster ion beam

  C Heck; T Seki; T Oosawa; M Chikamatsu; N Tanigaki; T Hiraga; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2006年01月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• High-Speed Nano-Processing with Cluster Ion Beams

  瀬木 利夫; 松尾 二郎

  AIP Conference Proceedings, 2006年01月, 査読有り

  
• Cluster size dependence of sputtering yield by cluster ion beam irradiation

  T Seki; T Murase; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2006年01月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics simulations of surface modification and damage formation by gas cluster ion impacts

  T Aoki; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2006年01月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics simulations of the cluster-size effect on the sputtering process with reactive gas cluster ions

  T. Aoki; J. Matsuo

  Materials Research Society Symposium Proceedings, 2006年, 査読有り

  
• Sidewall polishing with a gas cluster ion beam for photonic device applications

  E Bourelle; A Suzuki; A Sato; T Seki; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Energy distributions of high current cluster ion beams

  T Seki; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics study of the angular dependence of reactive cluster impacts

  T Aoki; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年12月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Development of 1 mA cluster ion beam source

  T Seki; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年08月, 査読有り

  
• Size and energy distribution of gas cluster ion beam measured by energy resolved time of flight mass spectroscopy

  S Kakuta; T Seki; S Sasaki; K Furusawa; T Aoki; J Matsuo

  SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2005年06月, 査読有り

  
• A Comparison of Ions with Neutrals Emitted from Semiconductors Bombarded by MeV Si Ions

  Yoshihiko Nakata; Satoshi Ninomiya; Takaaki Aoki; Hidetsugu Tsuchida; Jiro Matsuo; Akio Itoh

  Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2005年06月, 査読有り

  
• Molecular dynamics study of suface structure and sputtering process by sequencial fluorine cluster impacts

  T. Aoki; J. Matsuo

  Materials Research Society Symposium Proceedings, 2005年, 査読有り

  
• Organic electroluminescent device on ITO smoothed with Ar cluster ion beam

  Claire Heck; Takeru Oosawa; Masayuki Chikamatsu; Nobu Tanigaki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  Nonlinear Optics Quantum Optics, 2005年, 査読有り

  
• Comparison of irradiation effects between cluster and monomer for DLC film deposition

  Teruyuki Kitagawa; Noriaki Toyoda; Harushige Tsubakino; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources, 2005年, 査読有り

  
• Glancing angle fluorescence XAFS study on metal oxide thin films obtained by oxygen gas cluster ion beam assisted deposition techniques

  H. Kageyama; T. Asanuma; T. Takeuchi; K. Kadono; J. Matsuo; T. Seki; T. Kitagawa; N. Toyoda; Y. Shimizugawa; T. Uruga

  Physica Scripta T, 2005年, 査読有り

  
• Glancing angle fluorescence XAFS study on metal oxide thin films obtained by oxygen gas cluster ion beam assisted deposition techniques

  Kageyama H; Asanuma T; Takeuchi T; Kadono K; Matsuo J; Seki T; Kitagawa T; Toyoda N; Shimizugawa Y; Uruga T

  PHYSICA SCRIPTA, 2005年, 査読有り

  
• Polishing of sidewall surfaces using a gas cluster ion beam

  E Bourelle; A Suzuki; A Sato; T Seki; J Matsuo

  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS, 2004年10月, 査読有り

  
• A new secondary ion mass spectrometry (SIMS) system with high-intensity cluster ion source

  J Matsuo; C Okubo; T Seki; T Aoki; N Toyoda; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2004年06月, 査読有り

  
• Surface smoothing with large current cluster ion beam

  T Seki; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2004年02月, 査読有り

  
• Surface modification with gas cluster ion beams from fundamental characteristics to applications

  N. Toyoda; J. Matsuo; I. Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2004年02月, 査読有り

  
• Molecular Dynamics Study Of Surface Morphological Evolution By Cluster Impacts

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  MRS Proceedings, 2004年, 査読有り

  
• Molecular effect on projected range in ultralow-energy ion implantation

  K. Kimura; Y. Oota; K. Nakajima; M. Suzuki; T. Aoki; J. Matsuo; A. Agarwal; B. Freer; A. Stevenson; M. Ameen

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年10月

  この論文にアクセスする：

  
• METI/NEDO Projects on Cluster Ion Beam Process Technology

  Isao Yamada; Jiro Matsuo; Noriaki Toyoda

  AIP Conference Proceedings, 2003年08月26日, 査読有り

  
• Near edge X-ray absorption fine structure study for optimization of hard diamond-like carbon film formation with Ar cluster ion beam

  Kitagawa T; Miyauchi K; Kanda K; Shimizugawa Y; Toyoda N; Tsubakino H; Matsui S; Matsuo J; Yamada I

  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 2003年06月, 査読有り

  
• Cluster species and cluster size dependence of damage formation by cluster ion impact

  T Aoki; J Matsuo; G Takaoka; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2003年05月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Atomistic study of cluster collision on solid surfaces

  J Matsuo; T Seki; T Aoki; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2003年05月, 査読有り

  
• Cluster ion beam process technology

  Yamada, I; J Matsuo; N Toyoda

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2003年05月, 査読有り

  
• Gold nanoparticles sputtered by single ions and clusters

  R. C. Birtcher; A. W. McCormick; P. M. Baldo; N. Toyoda; I. Yamada; J. Matsuo

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年05月, 査読有り

  
• Influence of residual Ar+ in Ar cluster ion beam for DLC film formation

  Teruyuki Kitagawa; Kazuya Miyauchi; Noriaki Toyoda; Kazuhiro Kanda; Tokumi Ikeda; Harushige Tsubakino; Jiro Matsuo; Shinji Matsui; Isao Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年05月, 査読有り

  
• Defect characteristics by boron cluster ion implantation

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Gikan Takaoka; Noriaki Toyoda; Isao Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年05月

  この論文にアクセスする：

  
• Modeling of surface smoothing process by cluster ion beam irradiation

  A. Nakai; T. Aoki; T. Seki; J. Matsuo; G. H. Takaoka; I. Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年05月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Generation of the large current cluster ion beam

  T. Seki; J. Matsuo; G. H. Takaoka; I. Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年05月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Titanium-dioxide film formation using gas cluster ion beam assisted deposition technique

  O. Nakatsu; J. Matsuo; K. Omoto; T. Seki; G. Takaoka; I. Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年05月

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics study of damage formation characteristics by large cluster ion impacts

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Gikan Takaoka

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年04月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Hard DLC film formation by gas cluster ion beam assisted deposition

  Teruyuki Kitagawa; Isao Yamada; Noriaki Toyoda; Harushige Tsubakino; Jiro Matsuo; G. H. Takaoka; Allen Kirkpatrick

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2003年02月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用

  松尾 二郎; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  高温学会誌, 2003年, 査読有り

  
• Difference of irradiation effects between Ar cluster ion and Ar+ for DLC film formation

  Kitagawa T; Miyauchi K; Kanda K; Matsui S; Toyoda N; Tsubakino H; Matsuo J; Yamada I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, 2003年, 査読有り

  
• Secondary ion mass spectrometry with gas cluster ion beams

  Noriaki Toyoda; Jiro Matsuo; Takaaki Aoki; Isao Yamada; David B. Fenner

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2002年05月, 査読有り

  
• Scanning tunneling microscope observations of Ge deposition on Si(111)-7 × 7 surfaces irradiated by Xe ions

  G. H. Takaoka; T. Seki; K. Tsumura; J. Matsuo

  Thin Solid Films, 2002年02月22日

  この論文にアクセスする：

  
• High quality ITO film formation by the simultaneous use of cluster ion beam and laser irradiation

  G. H. Takaoka; D. Yamazaki; J. Matsuo

  Materials Chemistry and Physics, 2002年02月01日, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• NEXAFS study for optimization of hard DLC films formation with Ar cluster ion beam

  T. Kitagawa; K. Miyauchi; K. Kanda; Y. Shimizugawa; N. Toyoda; H. Tsubakino; S. Matsui; T. Gego; J. Matsuo; I. Yamada

  2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002, 2002年, 査読有り

  
• Cluster ion beam processing - METI/NEDO projects and recent progress

  Isao Yamada; Jiro Matsuo; Noriaki Toyoda

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 2002年, 査読有り

  
• Interaction of SF6 cluster ion beams with Si surface

  GH Takaoka; S Nakamura; T Seki; J Matsuo

  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 2001年12月

  この論文にアクセスする：

  
• Modification of polycarbonate and polypropylene surfaces by argon ion cluster beams

  H. Biederman; D. Slavinska; H. Boldyreva; H. Lehmberg; G. Takaoka; J. Matsuo; H. Kinpara; J. Zemek

  Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 2001年11月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Materials processing by gas cluster ion beams

  Yamada I; Matsuo J; Toyoda N; Kirkpatrick A

  MATERIALS SCIENCE & ENGINEERING R-REPORTS, 2001年10月30日, 査読有り

  
• Cluster size effect on reactive sputtering by fluorine cluster impact using molecular dynamics simulation

  T Aoki; J Matsuo; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2001年06月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Molecular dynamics simulation of fluorine ion etching of silicon

  S Chiba; T Aoki; J Matsuo

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2001年06月, 査読有り

  
• Molecular dynamics and Monte-Carlo simulation of sputtering and mixing by ion irradiation

  T Aoki; S Chiba; J Matsuo; Yamada, I; JP Biersack

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2001年06月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• O-2 cluster ion assisted deposition for tin doped indium oxide (ITO) films

  J Matsuo; G Takaoka; Yamada, I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, 2001年, 査読有り

  
• Nano-processing with gas cluster ion beams

  Yamada, I; J Matsuo; Z Insepov; T Aoki; T Seki; N Toyoda

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2000年04月, 査読有り

  
• STM observation of surface vacancies created by ion impact

  T Seki; T Aoki; J Matsuo; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2000年04月, 査読有り

  
• Molecular dynamics simulation of fluorine cluster ion impact

  T Aoki; J Matsuo; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2000年04月, 査読有り

  
• UHV-STM study on ion-assisted deposition

  T Seki; J Matsuo; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2000年03月, 査読有り

  
• Shallow junction formation by decaborane molecular ion implantation

  Majeed A. Foad; Roger Webb; Roger Smith; Jiro Matsuo; Amir Al-Bayati; T-Sheng-Wang; Tony Cullis

  Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 2000年01月, 査読有り

  
• Proposal for a hardness measurement technique without indentor by gas-cluster-beam bombardment

  Zinetulla Insepov; Rafael Manory; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics, 2000年, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• O2 cluster ion-assisted deposition for tin-doped indium oxide films

  Jiro Matsuo; Hiroshi Katsumata; Eiji Minami; Isao Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2000年, 査読有り

  
• Surface smoothing mechanism of gas cluster ion beams

  Noriaki Toyoda; Norihisa Hagiwara; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2000年, 査読有り

  
• Etching, smoothing, and deposition with gas-cluster ion beam technology

  J. A. Greer; D. B. Fenner; J. Hautala; L. P. Allen; V. DiFilippo; N. Toyoda; I. Yamada; J. Matsuo; E. Minami; H. Katsumata

  Surface and Coatings Technology, 2000年, 査読有り

  
• Polycarbonate surface modified by argon cluster ion beams

  J Zemek; I Yamada; G Takaoka; J Matsuo

  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1999年11月, 査読有り

  この論文にアクセスする：

  
• Cluster size dependence of the impact process on a carbon substrate

  T Aoki; T Seki; J Matsuo; Z Insepov; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1999年06月, 査読有り

  
• Decaborane (B10H14) ion implantation technology for sub-0.1-mu m PMOSFET's

  K Goto; J Matsuo; Y Tada; T Sugii; Yamada, I

  IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 1999年04月, 査読有り

  
• Optical thin film formation by gas-cluster ion beam assisted deposition

  H Katsumata; J Matsuo; T Nishihara; T Tachibana; K Yamada; M Adachi; E Minami; Yamada, I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, PTS 1 AND 2, 1999年, 査読有り

  
• Ultra low energy boron implantation using cluster ions for decananometer MOSFETs

  T Sugii; K Goto; T Tanaka; J Matsuo; Yamada, I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, PTS 1 AND 2, 1999年, 査読有り

  
• Applications of cluster ion implantation in microelectronics devices

  Yamada I; Matsuo J; Toyoda N; Aoki T

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, PTS 1 AND 2, 1999年, 査読有り

  
• High-intensity oxygen cluster ion beam generation and its application to cluster ion-assisted deposition

  J. Matsuo; E. Minami; M. Saito; N. Toyoda; H. Katsumata; I. Yamada

  European Physical Journal D, 1999年, 査読有り

  
• Surface treatment of diamond films with Ar and O2 cluster ion beams

  N. Toyoda; N. Hagiwara; J. Matsuo; I. Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 1999年, 査読有り

  
• Surface smoothing of CVD-diamond membrane for X-ray lithography by gas cluster ion beam

  Nishiyama A; Adachi M; Toyoda N; Hagiwara N; Matsuo J; Yamada I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, PTS 1 AND 2, 1999年, 査読有り

  
• Non-linear processes in the gas cluster ion beam modification of solid surfaces

  Yamada I; Matsuo J; Toyoda N; Aoki T; Jones E; Insepov Z

  MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A-STRUCTURAL MATERIALS PROPERTIES MICROSTRUCTURE AND PROCESSING, 1998年09月30日, 査読有り

  
• Cluster ion bombardment on atomically flat Au(111) solid surfaces

  D Takeuchi; T Seki; T Aoki; J Matsuo; Yamada, I

  MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 1998年07月, 査読有り

  
• Molecular dynamics simulation of a carbon cluster ion impacting on a carbon surface

  T Aoki; T Seki; J Matsuo; Z Insepov; Yamada, I

  MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 1998年07月, 査読有り

  
• Energy dependence of a single trace created by C-60 ion impact

  T Seki; T Aoki; M Tanomura; J Matsuo; Yamada, I

  MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 1998年07月, 査読有り

  
• Indium oxide film formation by O-2 cluster ion-assisted deposition

  W Qin; RP Howson; M Akizuki; J Matsuo; G Takaoka; Yamada, I

  MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 1998年07月, 査読有り

  
• Reduction of boron transient enhanced diffusion in silicon by low-energy cluster ion implantation

  N Shimada; T Aoki; J Matsuo; Yamada, I; K Goto; T Sugui

  MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 1998年07月, 査読有り

  
• Low-temperature formation of perovskite PbTiO3 films by O-2 cluster ion-assisted deposition

  M Akizuki; J Matsuo; W Qin; T Aoki; M Harada; S Ogasawara; K Yodoshi; Yamada, I

  MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 1998年07月, 査読有り

  
• Cluster ion beam processing

  Isao Yamada; Jiro Matsuo

  Materials Science in Semiconductor Processing, 1998年04月01日, 査読有り

  
• ガスクラスタイオンビームの生成と応用

  山田 公; 松尾 二郎

  電気学会誌 = The journal of the Institute of Electrical Engineers of Japan, 1998年03月01日

  
• High performance 0.04 mu m PMOSFET

  K Goto; T Sugii; J Matsuo

  FUJITSU SCIENTIFIC & TECHNICAL JOURNAL, 1998年, 査読有り

  
• Smoothing of YBa2Cu3O7-δ films by ion cluster beam bombardment

  W. K. Chu; Y. P. Li; J. R. Liu; J. Z. Wu; S. C. Tidrow; N. Toyoda; J. Matsuo; I. Yamada

  Applied Physics Letters, 1998年, 査読有り

  
• Angular distributions of the particles sputtered with Ar cluster ions

  Noriaki Toyoda; Hiroaki Kitani; Norihisa Hagiwara; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Materials Chemistry and Physics, 1998年, 査読有り

  
• Surface smoothing effects with reactive cluster ion beams

  Noriaki Toyoda; Hiroaki Kitani; Norihisa Hagiwara; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Materials Chemistry and Physics, 1998年, 査読有り

  
• Gas cluster ion beam processing

  Yamada I; Matsuo J; Toyoda N; Aoki T; Jones E; Insepov Z

  SIMILARITIES AND DIFFERENCES BETWEEN ATOMIC NUCLEI AND CLUSTERS, 1998年, 査読有り

  
• STM observation of HOPG surfaces irradiated with Ar cluster ions

  T Seki; T Kaneko; D Takeuchi; T Aoki; J Matsuo; Z Insepov; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1997年01月, 査読有り

  
• クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロララスターの類似性と異質性,研究会報告)

  瀬木 利夫; 田能村 昌宏; 松尾 二郎; 山田 公

  素粒子論研究, 1997年, 査読有り

  
• Preparation and catalytic activity of nano-scale Au islands supported on TiO2

  GH Takaoka; T Hamano; K Fukushima; J Matsuo; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1997年01月, 査読有り

  
• Molecular dynamics simulation of damage formation by cluster ion impact

  T Aoki; J Matsuo; Z Insepov; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1997年01月, 査読有り

  
• Non-linear effects in high energy cluster ion implantation

  D Takeuchi; T Aoki; J Matsuo; Yamada, I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY - PROCEEDINGS OF THE FOURTEENTH INTERNATIONAL CONFERENCE, PTS 1 AND 2, 1997年, 査読有り

  
• Cluster ion assisted thin film formation

  J Matsuo; M Akizuki; Yamada, I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY - PROCEEDINGS OF THE FOURTEENTH INTERNATIONAL CONFERENCE, PTS 1 AND 2, 1997年, 査読有り

  
• Fullerene ion irradiation to silicon

  M Tanomura; D Takeuchi; J Matsuo; GH Takaoka; Yamada, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1997年01月, 査読有り

  
• A high performance 50nm PMOSFET using decaborane (B10H14) ion implantation and 2-step activation annealing process

  K Goto; J Matsuo; Y Tada; T Tanaka; Y Momiyama; T Sugii; Yamada, I

  INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING - 1997, TECHNICAL DIGEST, 1997年, 査読有り

  
• The sputtering effects of cluster ion beams

  Toyoda N; Matsuo J; Yamada I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY - PROCEEDINGS OF THE FOURTEENTH INTERNATIONAL CONFERENCE, PTS 1 AND 2, 1997年, 査読有り

  
• Reactive sputtering by SF6 cluster ion beams

  N. Toyoda; H. Kitani; J. Matsuo; I. Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 1997年, 査読有り

  
• Incident angle dependence of the sputtering effect of Ar-cluster-ion bombardment

  H. Kitani; N. Toyoda; J. Matsuo; I. Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 1997年, 査読有り

  
• Sputtering of elemental metals by Ar cluster ions

  Jiro Matsuo; Noriaki Toyoda; Makoto Akizuki; Isao Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 1997年, 査読有り

  
• Nanofabrication technology by gas cluster ion beams

  Matsuo J; Toyoda N; Yamada I

  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1996年11月, 査読有り

  
• Fundamental aspects of the ionized cluster-beam deposition process

  GH Takaoka; J Matsuo; CE Ascheron; Yamada, I

  SURFACE REVIEW AND LETTERS, 1996年02月, 査読有り

  
• Sputtering with gas cluster-ion beams

  J Matsuo; M Akizuki; J Northby; GH Takaoka; Yamada, I

  SURFACE REVIEW AND LETTERS, 1996年02月, 査読有り

  
• Cluster ion bombardment-induced surface damage of Si

  CE Ascheron; M Akizuki; J Matsuo; Z Insepov; GH Takaoka; Yamada, I

  SURFACE REVIEW AND LETTERS, 1996年02月, 査読有り

  
• Low-Temperature Oxidation of Silicon by O2 Cluster Ion Beams.

  Akizuki Makoto; Matsuo Jiro; Ogasawara Satoru; Harada Mitsuaki; Doi Atsumasa; Yamada Isao

  Japanese Journal of Applied Physics, 1996年

  
• Surface processing by gas cluster ion beams at the atomic (molecular) level

  I. Yamada; J. Matsuo; Z. Insepov; D. Takeuchi; M. Akizuki; N. Toyoda

  Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 1996年, 査読有り

  
• Atomic level smoothing of CVD diamond films by gas cluster ion beam etching

  Akihisa Yoshida; Masahiro Deguchi; Makoto Kitabatake; Takashi Hirao; Jiro Matsuo; Noriaki Toyoda; Isao Yamada

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 1996年, 査読有り

  
• Surface modifications by gas cluster ion beams

  Yamada, I; J Matsuo; Z Insepov; M Akizuki

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1995年12月, 査読有り

  
• GAS CLUSTER ION-BEAM EQUIPMENTS FOR INDUSTRIAL APPLICATIONS

  J MATSUO; H ABE; GH TAKAOKA; YAMADA, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1995年05月, 査読有り

  
• SPUTTERING EFFECT OF GAS CLUSTER ION-BEAMS

  T YAMAGUCHI; J MATSUO; M AKIZUKI; CE ASCHERON; GH TAKAOKA; YAMADA, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1995年05月, 査読有り

  
• LOW-DAMAGE SURFACE PROCESSING BY GAS CLUSTER ION-BEAMS

  M AKIZUKI; J MATSUO; M HARADA; S OGASAWARA; A DOI; K YONEDA; T YAMAGUCHI; GH TAKAOKA; CE ASCHERON; YAMADA, I

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1995年05月, 査読有り

  

MISC

• ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)

  松尾 二郎; 山田 公

  素粒子論研究, 1996年02月20日

  
• ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)

  松尾 二郎; 山田 公

  物性研究, 1996年

  このMISCにアクセスする：

  
• 31p-PSB-6 クラスターイオンの表面散乱

  松尾 二郎; 山田 公

  日本物理学会講演概要集. 年会, 1996年03月15日

  
• 21aYD-3 フェムト秒レーザーを用いた超高速現象の実時間観測(超高速現象・格子振動・緩和励起子,領域5(光物性))

  羽田 真毅; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2005年08月19日

  
• 25aYJ-8 固体からの高速イオン衝撃誘起正負クラスターイオンのサイズ分布から見る放出機構解明(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  土田 秀次; 中田 由彦; 永野 葵樹子; 北垣 卓; 二宮 啓; 小川 英巳; 坂本 直樹; 今井 誠; 柴田 裕実; 松尾 二郎; 伊藤 秋男

  日本物理学会講演概要集, 2005年03月04日

  
• 12aTG-6 MeV 重イオン照射により固体から放出された中性粒子の運動エネルギー分布測定(放射線物理, 領域 1)

  中田 由彦; 二宮 啓; 松尾 二郎; 伊藤 秋男

  日本物理学会講演概要集, 2004年08月25日

  
• 29p-PSA-5 クラスターイオン衝突による格子欠陥

  松尾 次郎; 山田 公

  日本物理学会講演概要集. 年会, 1995年03月16日

  
• フェムト秒X線プローブで探索する超高速格子ダイナミクス (八木章先生退任記念号)

  羽田 真毅; 松尾 二郎

  商経学叢, 2012年12月

  
• Etching Characteristics with Ar-Cl₂ Gas Mixed Cluster Ion Beam

  Seki Toshio; Aoki Takaaki; Matsuo Jiro

  兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室論文集, 2010年

  
• 29p-PSB-30 クラスターイオンによるスパッタリング

  松尾 二郎; 山田 公

  日本物理学会講演概要集. 秋の分科会, 1995年09月12日

  
• ガスクラスターイオンビームを用いた半導体表面処理技術の開発

  豊田 紀章; 金子 剛; 吉澤 哲; 秋月 誠; 松尾 二郎; 高岡 義寛; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1994年11月25日

  
• 200kVArガスクラスターイオンビームによる浅い注入層の形成

  竹内 大輔; 北井 敦; 豊田 紀章; 松尾 二郎; 高岡 義寛; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1994年11月24日

  
• ガスクラスターイオンビームによるSiC表面平坦化

  豊田 紀章; 木谷 博昭; 松尾 二郎; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1996年12月05日

  
• 反応性クラスターイオンビームによるエッチング

  豊田 紀章; 木谷 博昭; 松尾 二郎; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1995年12月08日

  
• ポリアトミッククラスターイオン注入による浅い接合形成

  竹内 大輔; 豊田 紀章; 島田 規広; 松尾 二郎; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1995年12月08日

  
• 26pWD-8 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出II(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  中田 由彦; 二宮 啓; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2006年08月18日

  
• 26aWB-1 フェムト秒X線回折法を用いた超高速現象の実時間観測(26aWB 超高速現象,領域5(光物性))

  羽田 真毅; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2006年08月18日

  
• 28pTA-9 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出(28pTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  中田 由彦; 二宮 啓; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2006年03月04日

  
• 19aXJ-5 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出III(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)

  中田 由彦; 本田 善郎; 二宮 啓; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2007年02月28日

  
• 3D molecular imaging of organic multilayer film by Ar gas cluster ion beam SIMS

  Wakamoto K.; Seki T.; Aoki T.; Matsuo J.

  Annual report of Quantum Science and Engineering Center, 2014年04月

  
• Lipid Compounds Analysis with MeV-SIMS Apparatus

  Fujii M.; Kusakari M.; Seki T.; Aoki T.; Matsuo J.

  Annual report of Quantum Science and Engineering Center, 2014年04月

  
• Depth analysis of DSPC by SIMS, using gas cluster ion beam

  Nakagawa S.; Seki T.; Aoki T.; Matsuo J.

  Annual report of Quantum Science and Engineering Center, 2013年04月

  
• X-ray Diffraction Measurements for a Diarylethene Single Crystal for Time-resolved Femtosecond X-ray Diffraction

  Hontani Yusaku; Hada Masaki; Seki Toshio; Aoki Takaaki; Matsuo Jiro

  Annual report of Quantum Science and Engineering Center, 2013年04月

  
• Preface

  K. Tsutsui; B. Z. Li; I. Mizushima; H. Wakabayashi; K. Suguro; J. Matsuo; Y. L. Jinag; T. Skotnicki; K. Ohuchi; S. Shibata; X. P. Qu; Y. Erokhin; T. Skotnicki

  15th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2015, 2016年05月09日

  
• Development of ambient SIMS using MeV-energy ion probe

  Kusakari M.; Fujii M.; Seki T.; Aoki T.; Matsuo J.

  Annual report of Quantum Science and Engineering Center, 2016年04月

  
• Development of Low-Vacuum SIMS Instruments with Large Cluster Ion Beam

  Suzuki K.; Kusakari M.; Seki T.; Aoki T.; Matsuo J.

  Annual report of Quantum Science and Engineering Center, 2016年04月

  
• クラスターSIMS法による脂質分子の高感度検出とイメージングへの応用

  松尾 二郎; 中川 俊一郎; 鳥居 聡太; 藤井 麻樹子; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  表面科学学術講演会要旨集, 2013年

  
• Ultrafast Hot Electron Induced Phase Transitions in Vanadium Dioxide

  M. Hada; Y. Hontani; R. E. Marvel; R. F. Haglund; J. Matsuo

  XVIIITH INTERNATIONAL CONFERENCE ON ULTRAFAST PHENOMENA, 2013年, 査読有り

  
• Beam Interactions with Materials and Atoms Section B of: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research

  Kai Nordlund; John Baglin; Maria-Grazia Grimaldi; Jiro Matsuo; Jan Meijer

  NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2012年07月

  
• クラスターSIMS法による脂質薄膜の構造評価

  松尾 二郎; 中川 駿一郎; 志戸本 祥; 鳥居 聡太; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  表面科学学術講演会要旨集, 2012年

  
• 2次イオン質量分析法(SIMS法）によるバイオイメー ジング

  松尾 二郎; 市木 和弥; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  表面科学学術講演会要旨集, 2011年

  
• Sputtering yield measurements with size-selected gas cluster ion beams

  Ichiki, Kazuya; Ninomiya, Satoshi; Seki, Toshio; Aoki, Takaaki; Matsuo, Jiro

  MRS Proceedings,1181, pp. 135-140, 2011年01月, 査読有り

  
• Preface

  K. Tsutsui; B.-Z. Li; I. Mizushima; K. Suguro; Y. Kawasaki; Y.-L. Jiang; T. Skotnicki; S. Shishiguchi; J. Matsuo; H. Wakabayashi; X.-P. Qu; Y. Erokhin; T. Skotnicki

  Extended Abstracts of the 11th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2011, 2011年, 査読有り

  
• Evaluation of lattice motion in CdTe single crystal using in-air tabletop time-resolved X-ray diffractometer

  Masaki Hada; Jiro Matsuo

  BURIED INTERFACE SCIENCES WITH X-RAYS AND NEUTRONS 2010, 2011年, 査読有り

  
• クラスターイオンビーム技術の最近の進展 (特集 クラスタービームとその応用技術)

  松尾 二郎; 瀬木 利夫; 青木 学聡

  表面科学,31 (11), pp. 564-571, 2010年11月, 査読有り

  
• Characteristics of organic depth profiling using large cluster ion beams

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Extended Abstracts of 10th Workshop on Cluster Ion Beam Technology, 2010年06月

  
• MD simulation of small boron cluster implantation

  Aoki, Takaaki; Seki, Toshio; Matsuo, Jiro

  2010 International Workshop on Junction Technology Extended Abstracts,, pp. 1-2, 2010年05月

  
• クラスタイオンビームによる平坦化加工技術

  松尾 二郎; 瀬木 利夫; 二宮 啓; 青木 学聡

  砥粒加工学会誌 = Journal of the Japan Society of Grinding Engineers, 2010年05月01日, 査読有り

  
• 高密度励起ビームによる二次イオン質量分析法の有機・生体材料への新展開

  松尾二郎; 松尾二郎

  応用物理, 2010年04月10日, 査読有り

  
• 高速重イオンによるラット脳組織内の脂質イメージング

  若松 慶信; 山田 英丙; 二宮 啓; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 石原 昭彦; 松尾 二郎

  表面科学学術講演会要旨集, 2010年

  
• ArクラスターSIMSを用いたToF型質量イメージング装置の開発

  山本 恭千; 市木 和弥; 二宮 啓; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  表面科学学術講演会要旨集, 2010年

  
• 二次イオン質量分析法を用いた生体組織の観察

  松尾 二郎; 市木 和弥; 山本 恭千; 若松 慶喜; 青木 学聡; 瀬木 利夫

  表面科学学術講演会要旨集, 2010年

  
• Coherent acoustic phonons in highly oriented bismuth films monitored by femtosecond electron diffraction

  G. Sciaini; M. Hada; J. Matsuo; A. Karantza; G. Moriena; R.J. Dwayne Mi

  Optics InfoBase Conference Papers, 2010年, 査読有り

  
• 18^th International Conference on Ion Implantation Technology

  J. Matsuo; M. Kase; T. Aoki; T. Seki

  AIP Conference Proceedings, 2010年, 査読有り

  
• IWJT-2010: Extended Abstracts - 2010 International Workshop on Junction Technology: Foreword

  Y.-L. Jiang; S. Shishiguchi; J. Matsuo; H. Wakabayashi; Y.-C. Yeo; S. Deleonibus

  IWJT-2010: Extended Abstracts - 2010 International Workshop on Junction Technology, 2010年, 査読有り

  
• MD simulation of small boron cluster implantation

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  IWJT-2010: Extended Abstracts - 2010 International Workshop on Junction Technology, 2010年, 査読有り

  
• High Speed Si Etching with ClF3 Cluster Injection

  T. Seki; Y. Yoshino; T. Senoo; K. Koike; S. Ninomiya; T. Aoki; J. Matsuo

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り

  
• Energy effects on the sputtering yield of Si bombarded with gas cluster ion beams

  K. Ichiki; S. Ninomiya; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り

  
• Evaluation of Surface Damage of Organic Films due to Irradiation with Energetic Ion Beams

  Masaki Hada; Yusaku Hontani; Sachi Ibuki; Kazuya Ichiki; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り

  
• Biomolecular Emission by Swift Heavy Ion Bombardment

  Yoshinobu Wakamatsu; Hideaki Yamada; Satoshi Ninomiya; Brian N. Jones; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Roger Webb; Jiro Matsuo

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り

  
• Evaluation of surface damage on organic materials irradiated with Ar cluster ion beam

  Y. Yamamoto; K. Ichiki; S. Ninomiya; T. Seki; T. Aoki; J. Matsuo

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り

  
• SIMS depth profiling of organic films with Ar cluster ion beams

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Hideaki Yamada; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Extended Abstracts of 9th Workshop on Cluster Ion Beam Technology, 2009年

  
• 高速重イオンを用いた低真空SIMSの開発

  若松 慶信; 山田 英丙; 中田 由彦; 二宮 啓; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  表面科学学術講演会要旨集, 2009年

  
• Stress measurement of carbon cluster implanted layers with in-plane diffraction technique

  Jiro Matsuo; Kazuya Ichiki; Masaki Hada; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Tsutomu Nagayama; Masayasu Tanjyo

  Extended Abstracts of the 9th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2009, 2009年, 査読有り

  
• Study of damage accumulation and annealing process at low energy boron implantation using molecular dynamics simulations

  T. Aoki; J. Matsuo

  Extended Abstracts of the 9th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2009, 2009年, 査読有り

  
• 高速重イオンを利用したイメージング質量分析

  中田 由彦; 山田 英丙; 本田 善郎; 二宮 啓; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  質量分析 = Mass spectroscopy, 2008年08月01日

  
• 24aRB-2 高分解能イメージング質量分析へ向けたイオン入射条件の探索(原子分子・放射線融合(イオン-表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)

  中田 由彦; 本田 善郎; 二宮 啓; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2008年

  
• 23aRB-2 巨大Arクラスター衝突によりSiから生成される二次イオンにおける入射速度効果(放射線物理(散乱素過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)

  二宮 啓; 市木 和弥; 中田 由彦; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2008年

  
• クラスターイオンの新しい展開:～ナノプロセスから先端分析応用～

  松尾 二郎; 二宮 啓; 青木 学聡; 瀬木 利夫

  Journal of Surface Analysis, 2008年

  
• クラスターイオン衝突の密度効果

  青木 学聡; Seki Toshio; Matsuo Jiro

  兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室論文集, 2008年

  
• 塩素クラスターによる高速加工

  瀬木 利夫; Aoki Takaaki; Matsuo Jiro

  兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室論文集, 2008年

  
• Investigation of Damage with Cluster Ion Beam Irradiation Using HR-RBS

  Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsu

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2008, 2008年, 査読有り

  
• Computer modeling of cluster ion impacts

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  EXTENDED ABSTRACTS 2008 INTERNATIONAL WORKSHOP ON JUNCTION TECHNOLOGY, 2008年, 査読有り

  
• Ionization and low damage etching of soft materials with slow Ar cluster ions

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Yoshiro Honda; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Extended Abstracts of 8th Workshop on Cluster Ion Beam Technology, 2007年

  
• 19aXJ-4 サイズ選別されたクラスターイオン照射における二次イオン収率測定(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)

  二宮 啓; 市木 和弥; 中田 由彦; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2007年

  
• Cluster ion implantation - Prospects and challenges

  Jiro Matsuo; Takaaki Aoki; Toshio Seki

  Extended Abstracts of the 7th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2007, 2007年, 査読有り

  
• MD study of damage structures with poly-atomic boron cluster implantation

  Takaaki Aoki; Toshio Seki; Jiro Matsuo

  Extended Abstracts of the 7th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2007, 2007年, 査読有り

  
• Surface oxidation of Si assisted by irradiation with large gas cluster ion beam in an oxygen atmosphere

  Kazuya Ichiki; Satoshi Ninomiya; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Extended Abstracts of 7th Workshop on Cluster Ion Beam and Advanced Quantum Beam Process Technology, 2006年

  
• The effect of incident cluster ion size on secondary ion yields emitted from Si

  Satoshi Ninomiya; Kazuya Ichiki; Yoshihiko Nakata; Toshio Seki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Extended Abstracts of 7th Workshop on Cluster Ion Beam and Advanced Quantum Beam Process Technology, 2006年

  
• 28aTA-6 スパッタリングにおけるイオン化確率の入射クラスターイオン種依存性(28aTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  二宮 啓; 青木 学聡; 瀬木 利夫; 中田 由彦; 市木 和弥; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2006年

  
• 26pWD-7 サイズ選別されたクラスターイオンにより生成される二次イオンの測定(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  二宮 啓; 市木 和弥; 中田 由彦; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2006年

  
• Arクラスターイオン衝撃により生体高分子薄膜から放出される二次イオン収率の入射サイズ依存性

  二宮 啓; 市木 和弥; 中田 由彦; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  表面科学講演大会講演要旨集, 2006年

  
• クラスターイオン照射における二次イオン収率の入射サイズ依存性

  市木 和弥; 二宮 啓; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎

  表面科学講演大会講演要旨集, 2006年

  
• High-speed nano-processing with cluster ion beams

  T. Seki; J. Matsuo

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY, 2006年, 査読有り

  
• Large Cluster Ions as Projectiles for SIMS-Opportunities and Challenges

  Matsuo, Jiro; Aoki, Takaaki; Seki, Toshio

  Proceedings of 18th Annual Workshop on SIMS,, pp. 29-32, 2005年05月, 査読有り

  
• Total sputtering yields of solids under MeV-energy Si ion bombardment

  Satoshi Ninomiya; Chikage Imada; Masafumi Nagai; Yoshihiko Nakata; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Nobutsugu Imanishi

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2005年04月

  
• Secondary neutral and ionized particle measurements under MeV-energy ion bombardment

  Yoshihiko Nakata; Satoshi Ninomiya; Chikage Imada; Masafumi Nagai; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Nobutsugu Imanishi

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2005年04月

  
• 25aYJ-6 複数の方法で測定した全スパッタリング収率の比較(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  二宮 啓; 中田 由彦; 青木 学聡; 松尾 二郎; 伊藤 秋男

  日本物理学会講演概要集, 2005年

  
• 25aYJ-9 高速イオン衝撃スパッタリングによる中性粒子の収量及び放出エネルギー測定(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  中田 由彦; 二宮 啓; 青木 学聡; 土田 秀次; 松尾 二郎; 伊藤 秋男

  日本物理学会講演概要集, 2005年

  
• 19pYR-5 巨大ガスクラスターイオン衝突による半導体材料からの二次イオン放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  二宮 啓; 青木 学聡; 瀬木 利夫; 松尾 二郎

  日本物理学会講演概要集, 2005年

  
• 19pYR-9 MeV重イオン衝撃スパッタリングによる励起状態分子放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

  中田 由彦; 二宮 啓; 青木 学聡; 土田 秀次; 松尾 二郎; 伊藤 秋男

  日本物理学会講演概要集, 2005年

  
• Molecular dynamics simulations of sequential cluster ion impacts

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2005年01月

  
• Surface structure dependence of impact processes of gas cluster ions

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources, 2005年

  
• Gas cluster ion beam source for secondary ion emission measurements

  L. K. Ono; T. Aoki; T. Seki; J. Matsuo; A. Itoh

  Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources, 2005年

  
• Molecular dynamics simulations of the cluster-size effect on the sputtering process with reactive gas cluster ions

  T. Aoki; J. Matsuo

  Materials Research Society Symposium Proceedings, 2005年, 査読有り

  
• Molecular dynamics study of suface structure and sputtering process by sequencial fluorine cluster impacts

  T Aoki; J Matsuo

  Surface Engineering 2004 - Fundamentals and Applications, 2005年, 査読有り

  
• Low damage smoothing of magnetic materials using oblique irradiation of gas cluster ion beam

  S Kakuta; S Sasaki; K Furusawa; T Seki; T Aoki; J Matsuo

  Surface Engineering 2004 - Fundamentals and Applications, 2005年, 査読有り

  
• High-speed processing with reactive cluster ion beams

  T Seki; J Matsuo

  Surface Engineering 2004 - Fundamentals and Applications, 2005年, 査読有り

  
• Surface structure dependence of impact processes of gas cluster ions

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2004年02月

  
• Fast Neutral Ar Penetration during Gas Cluster Ion Beam Irradiation into Magnetic Thin Films

  Shigeru Kakuta; Toshio Seki; Shinji Sasaki; Kenji Furusawa; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo

  MRS Proceedings, 2004年, 査読有り

  
• 12aTG-5 MeV エネルギー領域での絶縁体及び金属の全スパッタリング収率測定(放射線物理, 領域 1)

  二宮 啓; 中田 由彦; Aoki T; 松尾 二郎; 伊藤 秋男

  日本物理学会講演概要集, 2004年

  
• High-speed processing with cluster ion beams

  T Seki; J Matsuo

  RADIATION EFFECTS AND ION-BEAM PROCESSING OF MATERIALS, 2004年, 査読有り

  
• Fast neutral Ar penetration during gas cluster ion beam irradiation into magnetic thin films

  S Kakuta; T Seki; S Sasaki; K Furusawa; T Aoki; J Matsuo

  RADIATION EFFECTS AND ION-BEAM PROCESSING OF MATERIALS, 2004年, 査読有り

  
• Molecular dynamics study of surface morphological evolution by cluster impacts

  Takaaki Aoki; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Isao Yamada; Isao Yamada

  Materials Research Society Symposium - Proceedings, 2003年12月01日

  
• XAFS study of thin films fabricated with cluster ion assisted deposition technique

  Matsuo, Jiro; Kitagawa, Teruyuki; Shimizugawa, Yutaka; Kageyama, Hiroyuki; Kanda, Kazuhiro; Seki, Toshio; Aoki, Takaaki; Matsui, Shinji

  Trans. Mat. Res. Soc. Jpn.,28, pp. 101-106, 2003年12月, 査読有り

  
• Secondary ion mass spectrometry with gas cluster ion beams

  Noriaki Toyoda; Jiro Matsuo; Takaaki Aoki; Isao Yamada; David B. Fenner

  Applied Surface Science, 2003年01月15日

  
• High current cluster ion beam source

  T Seki; J Matsuo; GH Takaoka

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, 2003年, 査読有り

  
• Study of cluster-size effect on damage formation

  T Aoki; T Seki; A Nakai; J Matsuo; G Takaoka

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, 2003年, 査読有り

  
• Cluster Size Effect on Surface Modification Process using Cluster Ion Beam

  Aoki, Takaaki; Seki, Toshio; Nakai, Atsuko; Matsuo, Jiro; Takaoka; Gikan H

  Trans. Mat. Res. Soc. Jpn.,28 (2), pp. 485-488, 2003年01月, 査読有り

  
• Threshold energy for generating damage with cluster ion irradiation

  T Seki; T Aoki; A Nakai; J Matsuo; GH Takaoka

  MORPHOLOGICAL AND COMPOSITIONAL EVOLUTION OF THIN FILMS, 2003年, 査読有り

  
• Study of surface morphological evolution by cluster ion irradiation on solid targets

  T Aoki; A Nakai; J Matsuo; G Takaoka

  MORPHOLOGICAL AND COMPOSITIONAL EVOLUTION OF THIN FILMS, 2003年, 査読有り

  
• 低エネルギーホウ素イオン注入におけるホウ素の蓄積・脱離過程のシミュレーション

  青木 学聡; 松尾 二郎; 高岡 義寛

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 2002年12月13日

  
• Study of damage formation by low-energy boron cluster ion implantation

  Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Gikan Takaoka

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 2002年

  
• Development of the large current cluster ion beam technology

  Toshio Seki; Jiro Matsuo; Gikan H. Takaoka

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 2002年, 査読有り

  
• クラスターイオンビーム照射による表面反応過程

  高岡 義寛; 瀬木 利夫; 松尾 二郎

  Proceedings of the 12th Symposium on Beam Engineering of Advanced Material Syntheses, 2001年11月, 査読有り

  
• Photoluminescence study of defects induced by B₁₀H₁₄ ions

  N. Toyoda; T. Aoki; J. Matsuo; I. Yamada; K. Wada; L.C. Kimerling

  Materials Research Society Symposium - Proceedings, 2001年, 査読有り

  
• Materials Research Society Symposium - Proceedings: Preface

  E.C. Jones; K.S. Jones; M.D. Giles; P. Stolk; J. Matsuo

  Materials Research Society Symposium - Proceedings, 2001年, 査読有り

  
• Molecular dynamics simulations of cluster ion impact on diamond surface

  T. Aoki; J. Matsuo; G. Takaoka; I. Yamada

  Materials Research Society Symposium - Proceedings, 2001年, 査読有り

  
• STM observation of a Si surface irradiated with a single Ar cluster ion

  Seki, Toshio; Matsuo, Jiro; Takaoka, Gikan H; Yamada, Isao

  AIP Conference Proceedings,576, pp. 1003-1006, 2001年, 査読有り

  
• Ar Cluster Ion Bombardment Effects on Semiconductor Surfaces

  Seki, Toshio; Tsumura, Takaaki; Aoki, Takaaki; Matsuo, Jiro; Takaoka, Gikan H; Yamada, Isao

  Mat. Res. Soc. Symp. Proceedings,647, pp. O9.4.1-O9.4.6, 2001年, 査読有り

  
• ガスクラスターイオンビームの大電流化及び表面高機能化

  金原 啓道; 瀬木 利夫; 松尾 二郎; 高岡 義寛

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 2000年12月14日

  
• 分子動力学法を用いたFイオン照射によるSi表面エッチングのシミュレーション

  千葉 俊一; 青木 学聡; 松尾 二郎; 高岡 義寛

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 2000年12月14日

  
• Si(111)上Ge極薄膜へのイオン照射効果

  瀬木 利夫; 津村 一道; 松尾 二郎; 高岡 義寛

  Proceedings of the 11th Symposium on Beam Engineering of Advanced Material Syntheses,, pp. 41-44, 2000年11月

  
• Novel analysis techniques using cluster ion beams

  J Matsuo; N Toyoda; M Saito; T Aoki; T Seki; Yamada, I

  APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, PTS 1 AND 2, 1999年, 査読有り

  
• Cluster size measurement of large Ar cluster ions with Time of Flight

  Noriaki Toyoda; Masahiro Saito; Norihisa Hagiwara; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• Development of multi-beam gas cluster ion beam equipment for high quality ITO film formation at low temperatures

  E. Minami; W. Qin; M. Akizuki; H. Kastumata; J. Matsuo; I. Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• Boron diffusion in ultra low-energy (<1 keV/atom) decaborane (B₁₀H₁₄) ion implantation

  Takuya Kusaba; Norihiro Shimada; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Isao Yamada; Kenichi Goto; Toshihiro Sugii

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• Fullerene ion (C₆₀⁺) implantation in GaAs(100) substrate

  Takashi Nishihara; Hiroshi Katsumata; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• Formation of oxide thin films for optical applications by O₂-cluster ion beam assisted deposition

  H. Katsumata; J. Matsuo; T. Nishihara; T. Tachibana; E. Minami; K. Yamada; M. Adachi; I. Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• Computer simulation of decaborane implantation and rapid thermal annealing

  Zinetulla Insepov; Takaaki Aoki; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• Formation of shallow junctions using decaborane molecular ion implantation; Comparison with molecular dynamics simulation

  Majeed A. Foad; Roger Webb; Roger Smith; Erin Jones; Amir Al-Bayati; Mark Lee; Vikas Agrawal; Sanjay Banerjee; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• STM observations of the annealing process of the damage caused by ion impact

  Toshio Seki; Jiro Matsuo; Isao Yamada

  Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り

  
• イオン衝突によるシリコン表面欠陥の高温STM観察

  瀬木 利夫; 松尾 二郎; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1998年12月10日

  
• デカボランイオン注入による損傷の形成とその増速拡散への影響

  草場 拓也; 瀬木 利夫; 青木 学聡; 松尾 二郎; 加勢 正隆; 後藤 賢一; 杉井 寿博; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1998年12月10日

  
• クラスターイオン注入とデバイスプロセス

  山田 公; 松尾 二郎; 豊田 紀章; 青木 学聡

  真空, 1998年

  
• High quality oxide film formation by O-2 cluster ion assisted deposition technique

  J Matsuo; W Qin; M Akizuki; T Yodoshi; Yamada, I

  ATOMISTIC MECHANISMS IN BEAM SYNTHESIS AND IRRADIATION OF MATERIALS, 1998年, 査読有り

  
• Channel engineering using B₁₀H₁₄ ion implantation for low Vth and high SCE immunity of buried-channel PMOSFETs in 4-Gbit DRAMs and beyond

  T. Tanaka; H. Ogawa; K. Goto; K. Itabashi; T. Yamazaki; J. Matsuo; T. Sugii; I. Yamada

  Digest of Technical Papers - Symposium on VLSI Technology, 1998年, 査読有り

  
• Computer simulation of annealing after cluster ion implantation

  Z Insepov; T Aoki; J Matsuo; Yamada, I

  SILICON FRONT-END TECHNOLOGY-MATERIALS PROCESSING AND MODELLING, 1998年, 査読有り

  
• Ultra shallow junction formation by cluster ion implantation

  J Matsuo; T Aoki; K Goto; T Sugii; Yamada, I

  SILICON FRONT-END TECHNOLOGY-MATERIALS PROCESSING AND MODELLING, 1998年, 査読有り

  
• Size dependence of bombardment characteristics produced by cluster ion beams

  T Seki; M Tanomura; T Aoki; J Matsuo; Yamada, I

  ATOMISTIC MECHANISMS IN BEAM SYNTHESIS AND IRRADIATION OF MATERIALS, 1998年, 査読有り

  
• Molecular dynamics simulation of fullerene cluster ion impact

  T Aoki; T Seki; M Tanomura; J Matsuo; Z Insepov; Yamada, I

  ATOMISTIC MECHANISMS IN BEAM SYNTHESIS AND IRRADIATION OF MATERIALS, 1998年, 査読有り

  
• ガスクラスターイオンビームによる表面エッチング

  山田 公; 松尾 二郎; 豊田 紀章; 青木 学聡; INSEPOV Zinetulla

  表面科学, 1997年12月10日

  
• ガスクラスターイオンビームプロセッシング

  山田 公; 松尾 二郎; 豊田 紀章; 青木 学聡

  電気学会研究会資料. MC, 金属・セラミックス研究会, 1997年11月18日

  
• クラスタ-衝突における非線形効果 (原子核とマイクロクラスタ-の類似性と異質性)

  瀬木 利夫; 田能村 昌宏; 松尾 二郎; 山田 公

  物性研究, 1997年05月

  
• Surface processing by gas cluster ion beams

  N Toyoda; J Matsuo; Yamada, I

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY - 96, 1997年, 査読有り

  
• Range and damage distribution in cluster ion implantation

  Yamada, I; J Matsuo; EC Jones; D Takeuchi; T Aoki; K Goto; T Sugii

  MATERIALS MODIFICATION AND SYNTHESIS BY ION BEAM PROCESSING, 1997年, 査読有り

  
• Cluster ion implantation for shallow junction formation

  J Matsuo; D Takeuchi; T Aoki; Yamada, I

  ION IMPLANTATION TECHNOLOGY - 96, 1997年, 査読有り

  
• 分子動力学法によるホウ素クラスターイオン注入のシミュレーション

  青木 学聡; 島田 規広; 竹内 大輔; 松尾 二郎; Insepov Zinetulla; 山田 公

  電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス, 1996年12月06日

  
• Nanoscale processing by gas cluster ion beams - Novel technique in ion beam processing

  Yamada, I; J Matsuo

  THIRD INTERNATIONAL CONFERENCE ON INTELLIGENT MATERIALS - THIRD EUROPEAN CONFERENCE ON SMART STRUCTURES AND MATERIALS, 1996年, 査読有り

  
• Lateral sputtering by gas cluster ion beams and its applications to atomic level surface modification

  Yamada, I; J Matsuo

  ION-SOLID INTERACTIONS FOR MATERIALS MODIFICATION AND PROCESSING, 1996年, 査読有り

  
• Bombarding effects of gas cluster ion beams on sapphire surfaces: Characteristics of modified layers and their mechanical and optical properties

  D Takeuchi; J Matsuo; Yamada, I

  ION-SOLID INTERACTIONS FOR MATERIALS MODIFICATION AND PROCESSING, 1996年, 査読有り

  
• 分子線散乱法による表面反応過程の評価 - シリコン上の塩素の反応過程 -

  松尾 二郎; 唐橋 一浩

  應用物理, 1993年11月10日

  
• REACTION-KINETICS OF ATOMIC CHLORINE ON SI(100)2X1

  K KARAHASHI; J MATSUO; K HORIUCHI

  EVOLUTION OF SURFACE AND THIN FILM MICROSTRUCTURE, 1993年, 査読有り

  

書籍等出版物

• Ultra-Hard DLC formation at low temperture by gas cluster in beam assisted deposition

  松尾 二郎

  Mass and Change transprt in inorganic matcrials,/,957-964, 2000年, 査読無し

  
• Clustor size Measurment of Large Ar Cluster Ins with Time of Flight

  松尾 二郎

  IEEE, Proc. of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1234-1237, 1999年, 査読無し

  
• AIP, Application of Cluster In Implantation Micro electronic Devices

  松尾 二郎

  AIP, Application of Accelaratars in Research and Industry,/,379-382, 1999年, 査読無し

  
• Borm Diffusiun in Ultra Low Enery Decaboranc Im Implantation

  松尾 二郎

  IEEE, Proc, of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1258-1261, 1999年, 査読無し

  
• Monte Curlo Simolation of Surfaces Smoothing Effect by Closter Ions

  松尾 二郎

  IEEE, Proc. of the 12th Infornatinal Canferecnce on Im Implantation Technology,/,1230-1233, 1999年, 査読無し

  
• Development of Multi Been Gas Cluster In Bean Egipment for High Quality ITO Film Formation at Low temperatune

  松尾 二郎

  IEEE, Proc, of the 12th In fornatinal Canferecnce on Im Inplantation Technology,/,1191-1194, 1999年, 査読無し

  
• Formation of Complex Cluster in Ar/O₂ Gas Closter Beams

  松尾 二郎

  IEEE, Proc, of the 12th International Conferencecn Im Implantation Technology,/,1226-1229, 1999年, 査読無し

  
• STM-Observatins of the Amealiy Process of the Damage Caosel by Im Impact

  松尾 二郎

  IEEE, Proc, of the 12th Internatinal Canference on Im Implantation Technology,/,1262-1265, 1999年, 査読無し

  
• Formation of oxide thir Films for Optical Applications by Oz cluster Im Assited Depusitim

  松尾 二郎

  IEEE, Proc. of the 12th International Conferercecn Im Inplantation Technology,/,1195-1198, 1999年, 査読無し

  
• Moleculen Dynamic Study of Inplat and Damge Furmation in Low Energy Borm Cluster Im Implantation

  松尾 二郎

  IEEE, Proc, of the 12th Internatinal Canference on Im Implantation Technology,/,1254-1257, 1999年, 査読無し

  
• Surface Smoothing of CVD Diamond Membrane for X-ray Lithography by Gcs Cluster In Beam

  松尾 二郎

  RIP, Application of Accelarutors in Research and Industry,/,421-424, 1999年, 査読無し

  
• Novel Analysis Technigue using Gas Closter Becns

  松尾 二郎

  AIP, Applicatin of Accelertirs in Research and Industry,/,429-432, 1999年, 査読無し

  
• Optical Thin Film Formation by Gas Closter In Becn Assisted Depositin

  松尾 二郎

  AIP, Application of Accelertors in Research and Industry,/,409-412, 1999年, 査読無し

  
• Fulleren Im Implantation in GaAs(100)substrate

  松尾 二郎

  IEEE, Proc, of the 12th Infornatinal Canferecnce on Im Implantation Technology,/,1203-1206, 1999年, 査読無し

  
• Oxide Film Deposition by Gas Cluster Im Assisted Depusitin

  松尾 二郎

  AIP, Application of Acceleratons in Research and Industry,/,425-428, 1999年, 査読無し

  
• Cluster Ion Beam Processing

  松尾 二郎

  Materials Science in Semiconductor Procesing,/,27-41, 1998年, 査読無し

  
• "Range and Damage Distribution in Cluster Ion Implantation"

  松尾 二郎

  Materials Research Society Symposium Proceedings,438/,363-374, 1997年, 査読無し

  
• "Fundamental Aspects of the Ionized Cluster-Beam Deposition Process"

  松尾 二郎

  Surface Review and Letters,3/1,1013-1016, 1996年, 査読無し

  
• "Surface Processing by Gas Cluster Ion Beams"

  松尾 二郎

  International Conference on Ion Implantation Technology, IIT'96,, 1996年, 査読無し

  
• "Shallow Junction Formation by Polyatomic Cluster Ion Implantation"

  松尾 二郎

  International Conference on Ion Implantation Technology, IIT'96,, 1996年, 査読無し

  
• "Gas-Cluster Ion Collisions on Solid Surfaces"

  松尾 二郎

  Proceedings of the International Symposium on Material Chemistry in Nuclear Enviroment,/,517-525, 1996年, 査読無し

  
• "Shallow Junction Formation by Polyatomic Cluster Ion Implantation"

  松尾 二郎

  IEEE Proceedings of the 11th INT'L Conference on Ion Implantation Technology,1/,772-775, 1996年, 査読無し

  
• "Cluster Ion Implantation for Shallow Junction Formation"

  松尾 二郎

  International Conference on Ion Implantation Technology, IIT'96,, 1996年, 査読無し

  
• "Bombarding Effects of Gas Cluster Ion Beams on Sapphire Surfaces : Characteristics of Modified Layers and Their Mechanical and Optical Properties"

  松尾 二郎

  Materials Research Society Symposium Proceedings,396/,279-284, 1996年, 査読無し

  
• "Low-Damage Surface Treatment by Gas Cluster-Ion Beams"

  松尾 二郎

  Surface Review and Letters,3/1,891-895, 1996年, 査読無し

  
• "Sputtering with Gas Cluster-Ion Beams"

  松尾 二郎

  Surface Review and Letters,3/1,1017-1021, 1996年, 査読無し

  
• "Lateral Sputtering by Gas Cluster Ion Beams and Its Applications to Atomic Level Surface Modification"

  松尾 二郎

  Materials Research Society Symposium Proceedings,396/,149-154, 1996年, 査読無し

  
• "Cluster Ion Bombardment-Induced Surface Damage of Si"

  松尾 二郎

  Surface Review and Letters,3/1,1045-1049, 1996年, 査読無し

  
• "Gas Cluster Ion Beam Processing for ULSI Fabrication"

  松尾 二郎

  Material Research Society Symposium Proceedings,427/,265-276, 1996年, 査読無し

  
• "Novel Shallow Junction Technology Using Decaborane(B10H14)"

  松尾 二郎

  Proceedings of IEDM,, 1996年, 査読無し

  
• "Cluster Ion Implantation for Shallow Junction Formation"

  松尾 二郎

  IEEE Proceedings of the 11th INT'L Conference on Ion Implantation Technology,1/,768-771, 1996年, 査読無し

  
• "Nanoscale Processing by Gas Cluster Ion Beams-Novel Technique in Ion Beam Processing-"

  松尾 二郎

  Proceedings of the 3rd International Conference on Intelligent Materials,, 1996年, 査読無し

  
• "Cluster Ion Beam Processing of Materials"

  松尾 二郎

  Ion Implantation Technology-IIT'94, (Elsevier Science B. V. ),/,1002-1005, 1995年, 査読無し

  
• "Improvement of Diamond X-Ray Mask Membrane : Optical Transmittance, Surface Roughness and Irradiation Durability"

  松尾 二郎

  Proceedings of Micro-and Nano-Engineering '95,/,1-5, 1995年, 査読無し

  

Works（作品等）

• クラスターイオンビームプロセスの研究

  自 2000年

  

受賞

• 2018年09月23日

  日本応用物理学会, 日本応用物理学会フェロー

外部資金：科学研究費補助金

• 大気圧SIMS法の開発とその固液界面評価への応用

  基盤研究(A)

  京都大学

  松尾 二郎

  自 2017年04月01日, 至 2021年03月31日, 完了

  固液;2次イオン;高速重イオン;クラスター;大気圧SIMS法;SIMS;イオン;表面分析;固液界面;二次イオン;大気圧分析;質量分析

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-17H01058/
• ステロイドホルモンの質量分析イメージングによる組織細胞上の直接可視化法の開発

  挑戦的萌芽研究

  奈良県立医科大学

  秦野 修

  自 2014年04月01日, 至 2017年03月31日, 完了

  ステロイドホルモン;質量分析イメージング;副腎皮質;On-Tissue 誘導体化;SALDI;Nano-PALDI;誘導体化試薬;On Tissue 誘導体化;副腎;質量分析;MALDI;nano-PALDI;イオン化;ナノ粒子

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-26670461/
• 巨大クラスターイオンによる機能性有機材料評価技術の研究

  基盤研究(A)

  京都大学

  松尾 二郎

  自 2011年04月01日, 至 2014年03月31日, 完了

  SIMS;クラスターイオン;分析;バイオ;高分子;クラスター;イオン;二次イオン

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23246012/
• コンパクトフェムト秒X線源の探査研究

  挑戦的萌芽研究

  京都大学

  松尾 二郎

  自 2010年04月01日, 至 2012年03月31日, 完了

  フェムト秒;X線回折;相転移;レーザー;結晶

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22656008/
• 水溶液ジェットヘの高速イオン衝突により生成される二次電子・二次イオンの精密測定

  基盤研究(B)

  京都大学

  伊藤 秋男

  自 2004年04月01日, 至 2007年03月31日, 完了

  液体分子線;二次イオン;二次電子;イオン照射;生体細胞;放射線応答;エネルギー損失;非弾性衝突;液体ジェット;高速イオン衝突;エネルギ阻止能;ブラッグピーク;生体高分子;平均自由行程, LIQUID MOLECULAR BEAM;SECONDARY ION;SEDONCDARY ELECTRON;ION IRRADIATION;BIOMOLECULE;RADIATION RESPONSE;ENERGY LOSS;STOPPING POWER

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16360474/
• クラスターイオン分析法

  基盤研究(C)

  京都大学

  松尾 二郎

  自 2002年04月01日, 至 2004年03月31日, 完了

  クラスター;SIMS;分析;2次イオン;非線形;半導体;イオンビーム;多体衝突, ion;cluster;secondary ion;SIMS;simulation;many-body collision;oxygen;sputtering

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-14550025/
• 高機能酸化物薄膜形成方法の研究

  基盤研究(C)

  京都大学

  松尾 二郎

  自 2000年04月01日, 至 2002年03月31日, 完了

  イオン;クラスター;酸化;酸化物;シミュレーション;多体衝突;薄膜;機能性薄膜;酸化膜;酸素クラスター;多体衝突効果;高密度照射効果;薄膜形成;酸化物薄膜, ion;cluster;oxidation;oxide;simulation;many-body collision;thin film

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-12650697/
• 高エネルギー多原子イオンビーム照射による超硬度被膜形成の研究

  基盤研究(B)

  京都大学

  高岡 義寛

  自 1998年04月01日, 至 2001年03月31日, 完了

  多原子イオンビーム;フラーレン;アルゴンクラスター;多体衝突効果;高密度照射効果;薄膜形成;炭素薄膜;クラスター;イオンビーム;Arクラスター;非線形照射効果;ビッカース硬度, macroparticle;fullerene;Argon cluster;multicollisions;high density irradiation;film formation;carbon film

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-10450119/
• クラスターイオンビームと固体との非線形相互作用の研究

  基盤研究(A)

  京都大学

  山田 公

  自 1997年04月01日, 至 2000年03月31日, 完了

  クラスターイオン;2次イオン;非線形;アルゴンクラスター;イオン注入;分子動力学;SIMS;浅い接合;フラーレン;ホウ素クラスター;損傷形成;TOF;多価イオン;スパッタリング;多体衝突;質量分析, cluster ion;secondary ion;non-linear;Ar cluster;ion implantation;molecular dynamics;SIMS;shallow junction

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-09305004/
• ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究

  重点領域研究

  京都大学

  山田 公

  自 1997年04月01日, 至 1998年03月31日, 完了

  クラスターイオン;表面反応;エッチング;スパッタリング;反応生成物;質量分析;化学スパッタリング

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-09216214/
• クラスターイオンビームによる材料プロセスの研究

  国際学術研究

  京都大学

  山田 公

  自 1997年04月01日, 至 1999年03月31日, 完了

  クラスターイオン;透過電子顕微鏡;増速拡散;多体衝突;STM;励起反応;格子間原子, cluster ion;TEM;enhaned reaction;multiple collision;STM;induced reaction;interstitial

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-09044157/
• 超高密度イオンビーム照射による表面改質の研究

  基盤研究(C)

  京都大学

  松尾 二郎

  自 1996年04月01日, 至 1998年03月31日, 完了

  クラスターイオン;酸化反応;エッチング;スパッタリング;SiC;薄膜形成;InO_x;導電性透明薄膜;InOx, CLUSTER ION;OXIDIZATION;ETCHING;SPUTTERING;SiC;FILM FORMATION;InOx;TRANSPARENT CONDUCTING FILM

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08650843/
• ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究

  重点領域研究

  京都大学

  山田 公

  自 1996年04月01日, 至 1997年03月31日, 完了

  クラスターイオン;表面反応;エッチング;スパッタリング;反応生成物;質量分析;化学スパッタリング

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08230222/
• ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究

  重点領域研究

  京都大学

  山田 公

  自 1995年04月01日, 至 1996年03月31日, 完了

  クラスターイオン;表面反応;エッチング;スパッタリング;非線形

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-07240222/
• 次世代高集積回路(LSI)用クラスターイオン注入装置の試作研究

  試験研究(B)

  京都大学

  山田 公

  自 1992年04月01日, 至 1995年03月31日, 完了

  ガスクラスター;高密度照射効果;低エネルギーイオンビーム;ラテラルスパッタ;イオン注入;表面クリーニング;薄膜形成;LSI;イオンビーム;クラスターイオン;ラテラルスパッタ効果;多体衝突効果;クラスターイオン注入;クラスターイオンビーム技術;ラバルノズル;フリージェットノズル;スパッタ;高密度照射;極浅接合形成, gas cluster;high density irradiation effect;low energy ion beam;lateral sputtering;ion implantation;surface cleaning;film formation;LSI

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-04555003/
• 全エピタキシャル金属/絶縁体積層構造形成とデバイスの研究

  一般研究(B)

  京都大学

  山田 公

  自 1992年04月01日, 至 1995年03月31日, 完了

  ICB;エピタキシャル成長;真空一貫プロセス;A1;A1_2O_3積層構造;量子効果デバイス;共鳴トンネルデバイス;トンネル電流;Al;Al_2O_3積層構造;エピタキシー;積層構造;共鳴トンネルダイオード;超薄膜;低温成長;ICB法;反応性ICB法;走査トンネル顕微鏡;トンネルデバイス, ICB;epitaxial growth;on-line vacuum process;Al;Al_2O_3 multilayr structure;quantum effect device;resonant tunnel device;tunnel current

  https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-04452202/

外部資金：その他

• 高速粒子の表面衝突ダイナミクスの研究
• クラスターイオンビームプロセスの研究
• ソフトナノマテリアル３Ｄ分子イメージン グ法の開発

  独立行政法人科学技術振興機構理事長　北澤宏一
• クラスターイオンを用いる固液界面評価技術の開

  研究成果展開事業（先端計測分析技術・機器開発プログラム）

  自 2014年12月01日, 至 2018年03月30日

  松尾二郎

教育

担当科目

• 自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日

  量子物性基礎論

  5148, 後期, 工学部, 2
• 自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日

  量子科学

  C074, 後期, 工学研究科, 2
• 自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日

  量子ビーム科学特論

  R001, 前期, 工学研究科, 2
• 自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日

  電磁気学続論

  N233, 前期, 国際高等教育院, 2
• 自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日

  量子物性基礎論

  5148, 後期, 工学部, 2
• 自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日

  量子科学

  C074, 後期, 工学研究科, 2
• 自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日

  量子ビーム科学特論

  R001, 前期, 工学研究科, 2
• 自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日

  電磁気学続論

  N233, 前期, 国際高等教育院, 2
• 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日

  電磁気学続論

  N233, 前期, 国際高等教育院, 2
• 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日

  量子科学

  C074, 後期, 工学研究科, 2
• 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日

  量子物性基礎論

  5148, 後期, 工学部, 2
• 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日

  インターンシップＭ（原子核）

  C050, 後期集中, 工学研究科, 2
• 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日

  量子ビーム科学特論

  R001, 前期, 工学研究科, 2
• 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日

  インターンシップＤ（原子核）

  R017, 後期集中, 工学研究科, 2
• 自 2011年04月, 至 2012年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2011年04月, 至 2012年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2011年04月, 至 2012年03月

  量子物性基礎論（原）

  後期, 工学部
• 自 2011年04月, 至 2012年03月

  原子物理学（材エネ原宇）

  後期, 工学部
• 自 2012年04月, 至 2013年03月

  原子物理学

  後期, 工学部
• 自 2012年04月, 至 2013年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2012年04月, 至 2013年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2012年04月, 至 2013年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2013年04月, 至 2014年03月

  原子物理学

  後期, 工学部
• 自 2013年04月, 至 2014年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2013年04月, 至 2014年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2013年04月, 至 2014年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2014年04月, 至 2015年03月

  原子物理学

  後期, 工学部
• 自 2014年04月, 至 2015年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2014年04月, 至 2015年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2014年04月, 至 2015年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2015年04月, 至 2016年03月

  原子物理学

  後期, 工学部
• 自 2015年04月, 至 2016年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2015年04月, 至 2016年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2015年04月, 至 2016年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2016年04月, 至 2017年03月

  先端科学通論

  後期, 総合生存学館
• 自 2016年04月, 至 2017年03月

  原子物理学

  後期, 工学部
• 自 2016年04月, 至 2017年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2016年04月, 至 2017年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2016年04月, 至 2017年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2017年04月, 至 2018年03月

  先端科学通論

  後期, 総合生存学館
• 自 2017年04月, 至 2018年03月

  原子物理学

  後期, 工学部
• 自 2017年04月, 至 2018年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2017年04月, 至 2018年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2017年04月, 至 2018年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2018年04月, 至 2019年03月

  原子物理学

  後期, 工学部
• 自 2018年04月, 至 2019年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2018年04月, 至 2019年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2018年04月, 至 2019年03月

  量子ビーム科学特論

  前期, 工学研究科
• 自 2018年04月, 至 2019年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2019年04月, 至 2020年03月

  量子物性基礎論

  後期, 工学部
• 自 2019年04月, 至 2020年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2019年04月, 至 2020年03月

  量子ビーム科学特論

  前期, 工学研究科
• 自 2019年04月, 至 2020年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2020年04月, 至 2021年03月

  量子物性基礎論（原）

  後期, 工学部
• 自 2020年04月, 至 2021年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2020年04月, 至 2021年03月

  量子ビーム科学特論

  前期, 工学研究科
• 自 2020年04月, 至 2021年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  インターンシップ（原）

  後期集中, 工学部
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  インターンシップＤ（原子核）

  後期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  インターンシップＭ（原子核）

  後期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学セミナーA

  前期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学セミナーB

  後期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別セミナーＡ

  前期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別セミナーＢ

  後期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別セミナーＣ

  前期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別セミナーＤ

  後期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別セミナーＥ

  前期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別セミナーＦ

  後期集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別実験及演習第一

  通年集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  原子核工学特別実験及演習第二

  通年集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  物理工学英語（原）

  前期集中, 工学部
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  特別研究2（原）

  後期集中, 工学部
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  特別研究１（原）

  前期集中, 工学部
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  特別研究１（原）

  後期集中, 工学部
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  特別研究２（原）

  前期集中, 工学部
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  研究論文（修士）

  通年集中, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  量子物性基礎論（原）

  後期, 工学部
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  量子科学

  後期, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  量子ビーム科学特論

  前期, 工学研究科
• 自 2021年04月, 至 2022年03月

  電磁気学続論

  前期, 全学共通科目

博士学位審査

• 高速クラスター粒子の配向と構造が二次イオン放出に及ぼす効果に関する研究

  村瀬　龍, 工学研究科, 副査

  2022年03月23日

非常勤講師

• 自 2013年04月11日, 至 2014年03月31日

  名古屋大学, 大学院生命農学研究科
• 自 2015年04月09日, 至 2016年03月31日

  国立大学法人大阪大学

大学運営

部局運営(役職等)

• 自 2018年04月01日, 至 2019年03月31日

  工学研究科・工学部図書委員会　委員
• 自 2019年04月01日, 至 2020年03月31日

  宇治キャンパス公開２０１９実行委員会委員
• 自 2019年04月01日, 至 2021年03月31日

  宇治地区総合環境安全管理センター運営委員会委員