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後藤 康仁

ゴトウ ヤスヒト

工学研究科 電子工学専攻集積機能工学講座 准教授

後藤 康仁
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    Last Updated :2025/05/02

    基本情報

    学部兼担

    • 工学部

    所属学協会

    • 自 2018年, 至 現在
      公益社団法人日本表面真空学会
    • 自 2017年, 至 現在
      IEEE (Institute of Electrical and Electronics Engineers)
    • 自 2011年, 至 現在
      原子衝突研究協会/原子衝突学会
    • 自 2005年, 至 現在
      AVS (American Vacuum Society)
    • 自 1988年, 至 現在
      社団法人電子情報通信学会/一般社団法人電子情報通信学会
    • 自 1985年, 至 現在
      社団法人応用物理学会/公益社団法人応用物理学会
    • 自 1994年, 至 2017年
      日本真空協会/一般社団法人日本真空協会/一般社団法人日本真空学会
    • International Field Emission Society

    学位

    • 工学修士(京都大学)
    • 博士（工学）(京都大学)

    出身大学院・研究科等

    • 京都大学, 大学院工学研究科修士課程電子工学専攻, 修了

    出身学校・専攻等

    • 京都大学, 工学部電子工学科, 卒業

    経歴

    • 自 2007年04月, 至 現在
      京都大学, 大学院工学研究科 電子工学専攻, 准教授（職名変更）
    • 自 2003年04月, 至 2007年03月
      京都大学, 大学院工学研究科 電子工学専攻（組織名変更）, 助教授
    • 自 2003年03月, 至 2003年03月
      京都大学, 大学院工学研究科 電子物性工学専攻, 助教授
    • 自 1995年04月, 至 2003年02月
      京都大学, 大学院工学研究科 電子物性工学専攻, 助手
    • 自 1990年06月, 至 1995年03月
      京都大学, 工学部, 助手
    • 自 1987年04月, 至 1990年05月
      株式会社豊田中央研究所

    使用言語

    • 英語

    ID,URL

    researchmap URL

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      Last Updated :2025/05/02

      研究

      研究テーマ・研究概要

      • 研究テーマ

        電界放出による電子・イオン生成、高速粒子を伴う薄膜形成・微細加工技術、原子尺度の分解能を持つ顕微質量分析

      • 研究概要

        強電界や高速のイオン衝撃などが存在するような材料にとっての極限状態ともいえる条件下における物理と、それらを応用した荷電粒子生成・輸送技術、薄膜・微細加工技術、微細領域の分析技術の開発を研究のテーマとしている。これまで培った電界放射顕微鏡の技術の展開として、ナノ構造における個々の原子・分子の構造分析・質量分析を同時に行う顕微質量分析技術の開発に着手している。

      研究キーワード

      • イオンビーム
      • 薄膜
      • 真空ナノエレクトロニクス
      • 電界放出
      • Ion Beam
      • Thin Films
      • Vacuum Nanoelectronics
      • Field Emission

      研究分野

      • ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学）, 電気電子材料工学
      • ナノテク・材料, 薄膜、表面界面物性

      論文

      • Observation of cathodoluminescence of germanium-implanted quartz glass excited by low-energy electrons emitted from silicon field emitter array
        Hiroshi Tsuji; Akira Sakata; Go Miyagawa; Yoshiki Yasutomo; Yasuhito Gotoh
        Proceedings of the International Display Workshops, 2012年
      • Effect of electrode geometry on focusing properties of volcano-structured double-gate Spindt-type FEAs
        Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Masayoshi Nagao
        Proceedings of the International Display Workshops, 2015年
      • 低エネルギーのアルゴンイオンを照射したグラファイト表面の走査トンネル顕微鏡による観測
        久保 洋士; 後藤 康仁; 辻 博司; 石川 順三
        真空, 1998年03月20日
      • Evaluation of Ge Oxidation State in Ge Nanoparticles Formed in Thin SiO2 Layer by Negative-Ion Implantation and Successive Two-Stage Annealing
        Tsuji Hiroshi; Kato Mikio; Mayama Norihito; Sasaki Tomokazu; Nomura Eiichi; Gotoh Yasuhito
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2016年, 査読有り
      • Luminescence of SiO2 Film Implanted with Ge Negative Ions
        Arai Nobutoshi; Tsuji Hiroshi; Harada Masatomi; Hattori Masashi; Satoh Tuyoshi; Ohsaki Masayuki; Kotaki Hiroshi; Ishibashi Toyotsugu; Gotoh Yasuhito; Ishikawa Junzo
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2010年, 査読有り
      • Degradation of Proteins for Neural Cell Adhesion Patterning by Carbon Negative-Ion Implantation
        Tsuji Hiroshi; Sommani Piyanuch; Sato Hiroko; Gotoh Yasuhito; Ishikawa Junzo; Takaoka Gikan
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2011年, 査読有り
      • Cell-Adhesion Patterning by using Carbon Negative-Ion Implantation into Albumin and Avidin Layers on Polystyrene
        Sommani Piyanuch; Tsuji Hiroshi; Sato Hiroko; Gotoh Yasuhito; Ishikawa Junzo; Takaoka Gikan
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2011年, 査読有り
      • Osteoblast Patterning on Silicone Rubber by using Mesenchymal Stem Cells and Carbon Negative-Ion Implantation
        Sommani Piyanuch; Tsuji Hiroshi; Sato Hiroko; Gotoh Yasuhito; Takaoka Gikan H.
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2011年, 査読有り
      • Titanium Dioxide Thin Film Deposition on Ag-Nanoparticles Embedded Silica Glass and Its Photocatalytic Properties
        Tsuji Hiroshi; Miyagawa Go; Gotoh Yasuhito
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2014年, 査読有り
      • Gamma-ray irradiation effects on CdTe solar cell dosimeter
        Tamotsu Okamoto; Tomoya Igari; Takahiro Fukui; Ryuto Tozawa; Yasuhito Gotoh; Nobuhiro Sato; Yasuki Okuno; Tomohiro Kobayashi; Mitsuru Imaizumi; Masafumi Akiyoshi
        Japanese Journal of Applied Physics, 2021年05月01日, 査読有り
      • Development of a Field Emission Image Sensor Tolerant to Gamma-Ray Irradiation
        Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Masayoshi Nagao; Tomoaki Masuzawa; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura; Tamotsu Okamoto; Tomoya Igari; Masafumi Akiyoshi; Nobuhiro Sato; Ikuji Takagi
        IEEE Transactions on Electron Devices, 2020年04月, 査読有り
      • Fluctuations of the emission characteristics of multi-tip field cathodes
        Anatoly G. Kolosko; Eugeni O. Popov; Sergey V. Filippov; Yasuhito Gotoh
        Journal of Vacuum Science & Technology B, 2019年05月, 査読有り
      • Observation of DC field-evaporated ion species extracted from transition metal nitride thin film deposited on tungsten-tip
        Chikasa Nishimura; Yuki Haneji; Hiroshi Tsuji; Yasuhito Gotoh
        Surface and Interface Analysis, 2019年01月, 査読有り
      • エックス線照射下におけるフィールドエミッタアレイの動作特性評価装置
        後藤康仁; 辻 博司; 長尾昌善; 秋吉優史; 高木郁二
        Journal of The Vacuum Society of Japan, 2017年08月, 査読有り
      • Characterization of the electron emission properties of hafnium nitride field emitter arrays at elevated temperatures
        Yasuhito Gotoh; Wataru Ohue; Hiroshi Tsuji
        JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2017年06月, 査読有り
      • Work functions of hafnium nitride thin films as emitter material for field emitter arrays
        Yasuhito Gotoh; Sho Fujiwara; Hiroshi Tsuji
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2016年05月, 査読有り
      • Gamma-ray tolerance of CdS/CdTe photodiodes for radiation tolerant compact image sensor with field emitter array
        Tamotsu Okamoto; Tomoya Igari; Yasuhito Gotoh; Nobuhiro Sato; Masafumi Akiyoshi; Ikuji Takagi
        PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 13 NO 7-9, 2016年, 査読有り
      • Beam profile measurement of volcano-structured double-gate Spindt-type field emitter
        Nagao Masayoshi; Gotoh Yasuhito; Neo Yoichiro; Mimura Hidenori
        Journal of Vacuum Science & Technology B, 2016年, 査読有り
      • Field ion microscope observation of tungsten surface processed in ethanol
        Susumu Hogyoku; Sho Fujiwara; Hiroshi Tsuji; Yasuhito Gotoh
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2014年08月, 査読有り
      • 窒化ハフニウムフィールドエミッタアレイの低温における動作特性
        後藤康仁; 安友佳樹; 辻 博司
        Journal of The Vacuum Society of Japan, 2014年04月, 査読有り
      • Control of work function of indium tin oxide: A surface treatment by atmospheric-pressure plasma layer on fabric-type electrodes
        Yoshihiko Ueda; Junichi Abe; Hideyuki Murata; Yasuhito Gotoh; Osamu Sakai
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2014年03月, 査読有り
      • Emittance of compact microwave ion source for low energy application
        Yasuhito Gotoh; Shuhei Taguchi; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2014年02月, 査読有り
      • Energy dependence of non-Rutherford proton elastic scattering spectrum for hafnium nitride thin film
        Yasuhito Gotoh; Wataru Ohue; Hiroshi Tsuji
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2013年11月, 査読有り
      • Vacuum frequency mixer with a field emitter array
        Yasuhito Gotoh; Yoshiki Yasutomo; Hiroshi Tsuji
        Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 2013年09月, 査読有り
      • Neutralization of Space Charge on High-Current Low-Energy Ion Beam by Low-Energy Electrons Supplied from Silicon Based Field Emitter Arrays
        Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Shuhei Taguchi; Keita Ikeda; Takayuki Kitagawa; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2012, 2012年, 査読有り
      • Neutralization of space charge in magnetic field by electrons supplied from silicon based field emitter arrays
        Tomohiro Daimaru; Shigeki Sakai; Yasuhito Gotoh
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2012, 2012年, 査読有り
      • Surface modification of silica glass by CHF3 plasma treatment and carbon negative-ion implantation for cell pattern adhesion
        Hiroshi Tsuji; Piyanuch Sommani; Yuichiro Hayashi; Hiroyuki Kojima; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Gikan Takaoka; Junzo Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2011年11月, 査読有り
      • Line-width of ion beam-modified polystyrene by negative carbon ions for fine adhesion pattern of mesenchymal stem cells
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Hiroyuki Kojima; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa; Gikan Takaoka
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2011年11月, 査読有り
      • Germanium negative-ion implantation into SiO2 layer on Si Photoluminescence properties and oxidation state of Ge atoms in subsequent heat treatment
        Hiroshi Tsuji; Nobutoshi Arai; Masashi Hattori; Masayuki Ohsaki; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2011年11月, 査読有り
      • Ion beam neutralization using three-dimensional electron confinement by surface modification of magnetic poles
        Dan Nicolaescu; Shigeki Sakai; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION A-ACCELERATORS SPECTROMETERS DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT, 2011年07月, 査読有り
      • Compensation of space charge for positive ion beams using electron injection and confinement in nonuniform magnetic fields
        Dan Nicolaescu; Shigeki Sakai; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2011年03月, 査読有り
      • Development of a vacuum transistor using hafnium nitride field emitter arrays
        Keita Ikeda; Wataru Ohue; Keisuke Endo; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2011年03月, 査読有り
      • Compensation of space charge for positive ion beams using electron injection and confinement in nonuniform magnetic fields
        Dan Nicolaescu; Shigeki Sakai; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics, 2011年, 査読有り
      • 熱酸化シリコン薄膜へのゲルマニウム負イオン斜め注入とフォトルミネッセンス評価
        木下 翔平; 辻 博司; 洗 暢俊; 後藤 康仁
        真空, 2011年, 査読有り
      • Irradiation effect of carbon negative-ion implantation on polytetrafluoroethylene for controlling cell-adhesion property
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Hiroyuki Kojima; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa; Gikan H. Takaoka
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2010年10月, 査読有り
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      • Metal-free and gasless space charge compensation of low energy ion beam by using surface-carbonized silicon field emitter array
        Mitsuaki Takeuchi; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2010年03月, 査読有り
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      • Development of in situ analyzer of field-emission devices
        Michito Kawasaki; Zhen He; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2010年03月, 査読有り
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      • Ion Beam Neutralization Using FEAs and Mirror Magnetic Fields
        Dan Nicolaescu; Shigeki Sakai; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り
      • Collimator Magnet with Functionally Defined Profile for Ion Implantation
        Dan Nicolaescu; Shigeki Sakai; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り
      • Suppression of Divergence of Low Energy Ion Beams by Space Charge Neutralization with Low Energy Electrons Emitted from Field Emitter Arrays
        Junzo Ishikawa; Yasuhito Gotoh; Mitsuaki Takeuchi; Shuhei Taguchi; Dan Nicolaescu; Hiroshi Tsuji; Tsunenobu Kimoto; Shigeki Sakai
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り
      • Optimization of Compact Microwave Ion Source for Generation of High Current and Low Energy Ion Beam
        Shuhei Taguchi; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Shigeki Sakai; Junzo Ishikawa
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り
      • Surface Modification of Silicone Rubber for Adhesion Patterning of Mesenchymal Stem Cells by Water Cluster Ion Beam
        Piyanuch Sommani; Gaku Ichihashi; Hiromichi Ryuto; Hiroshi Tsuji; Yasuhito Gotoh; Gikan H. Takaoka
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2010, 2010年, 査読有り
      • Piezoelectric Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 thin films on single crystal diamond: Structural, electrical, dielectric, and field-effect-transistor properties
        Meiyong Liao; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Kiyomi Nakajima; Masataka Imura; Yasuo Koide
        JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2010年01月, 査読有り
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      • Fine adhesion patterning and aligned nuclei orientation of mesenchymal stem cell on narrow line-width of silicone rubber implanted by carbon negative ions
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa; Gikan H. Takaoka
        Journal of the Vacuum Society of Japan, 2010年, 査読有り
      • Luminescence properties of Ge implanted SiO2: Ge and GeO2:Ge films
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Masashi Hattori; Masayuki Ohsaki; Hiroshi Kotaki; Toyotsugu Ishibashi; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 2009年11月, 査読有り
      • Surface modification by negative-ion implantation
        Junzo Ishikawa; Hiroshi Tsuji; Yasuhito Gotoh
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2009年06月, 査読有り
      • Negative ion implantation for pattering mesenchymal-stem cell adhesion on silicone rubber and differentiation into nerve cells with keeping their adhesion pattern
        Hiroshi Tsuji; Piyanuch Sommani; Mitsutaka Hattori; Tetsuya Yamada; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2009年06月, 査読有り
      • Evaluation of hafnium nitride thin films sputtered from a hafnium nitride target
        T. Kanzawa; N. Setojima; Y. Miyata; Y. Gotoh; H. Tsuji; J. Ishikawa
        VACUUM, 2008年10月, 査読有り
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      • Adhesion patterning of mesenchymal stem cells on polystyrene surface by carbon negative-ion implantation and neuron differentiation on the position
        Hiroshi Tsuji; Piyanuch Sommani; Mitsutaka Hattori; Tetsuya Yamada; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2008年06月, 査読有り
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      • Extension of lifetime of silicon field emitter arrays in oxygen ambient by carbon negative ion implantation
        A. Oowada; M. Takeuchi; Y. Sakai; Y. Gotoh; M. Nagao; H. Tsuji; J. Ishikawa; S. Sakai; T. Kimoto
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2008年03月, 査読有り
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      • Electron-emission properties of silicon field-emitter arrays in gaseous ambient for charge-compensation device
        Mitsuaki Takeuchi; Toshihiko Kojima; Atsushi Oowada; Yasuhito Gotoh; Masayoshi Nagao; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Sigeki Sakai; Tsunenobu Kimoto
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2008年03月, 査読有り
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      • Modeling of linear carbon nanotube nanotriodes with improved field uniformity
        D. Nicolaescu; V. Filip; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2008年03月, 査読有り
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      • Germanium nanoparticles formation in silicon dioxide layer by multi-energy implantation of Ge negative ions and their photo-luminescence
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Hiroyuki Nakatsuka; Kenji Kojima; Kouichirou Adachi; Hiroshi Kotaki; Toyotsugu Ishibashi; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, 2008年02月, 査読有り
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      • Development of low energy ion beam system for space charge compensation experiments
        Mitsuaki Takeuchi; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2008年02月, 査読有り
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      • Neutralization of Space Charge Effects for Low Energy Ion Beams Using Field Emitters
        D. Nicolaescu; S. Sakai; K. Matsuda; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY 2008, 2008年, 査読有り
      • 半球型阻止電界エネルギー分析器を用いたシリコン電界放出電子源のエネルギー分析
        酒井善基; 大和田淳; 竹内光明; 後藤康仁; 長尾昌善; 辻 博司; 石川順三; 酒井茂樹; 木本恒暢
        Journal of the Vacuum Society of Japan, 2008年, 査読有り
      • 窒化ハフニウムフィールドエミッタアレイの耐久性の評価
        宮田雄高; 神澤太郎; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        Journal of the Vacuum Society of Japan, 2008年, 査読有り
      • Silver negative-ion implantation into thermally grown thin SiO2 film on Si substrate and heat treatment for formation of silver nanoparticles
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Kouichirou Adachi; Hiroshi Kotaki; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 2007年09月, 査読有り
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      • Germanium nanoparticle formation in thin oxide films on Si by negative-ion implantation
        Hiroshi Tsuji; Nobutoshi Arai; Naoyuki Gotoh; Takashi Minotani; Toyotsugu Ishibashi; Tetsuya Okumine; Kouichiro Adachi; Hiroshi Kotaki; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2007年08月, 査読有り
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      • Thermal diffusion behavior of implanted germanium atoms in silicon dioxide film measured by high-resolution RBS
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Naoyuki Gotoh; Takashi Minotani; Toyotsugu Ishibashi; Tetsuya Okumine; Kouichirou Adachi; Hiroshi Kotaki; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2007年08月, 査読有り
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      • Nerve-cell attachment properties of polystyrene and silicone rubber modified by carbon negative-ion implantation
        H. Tsuji; P. Sommani; T. Kitamura; M. Hattori; H. Sato; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2007年08月, 査読有り
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      • Ion implantation of negative ions for cell growth manipulation and nervous system repair
        Junzo Ishikawa; Hiroshi Tsuji; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2007年08月, 査読有り
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      • Derivation of length of carbon nanotube responsible for electron emission from field emission characteristics
        Y. Gotoh; Y. Kawamura; T. Niiya; T. Ishibashi; D. Nicolaescu; H. Tsuji; J. Ishikawa; A. Hosono; S. Nakata; S. Okuda
        APPLIED PHYSICS LETTERS, 2007年05月, 査読有り
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      • Minimum line width of ion beam-modified polystyrene by negative carbon ions for nerve-cell attachment and neurite extension
        P. Sommani; H. Tsuji; H. Sato; T. Kitamura; M. Hattori; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月, 査読有り
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      • Nanoparticle formation in 25-nm-SiO2 thin layer by germanium negative-ion implantation and its capacitance-voltage characteristics
        Hiroshi Tsuji; Nobutoshi Arai; Naoyuki Gotoh; Takashi Minotani; Kenji Kojima; Kouichiro Adachi; Hiroshi Kotaki; Toyotsugu Ishibashi; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007年04月, 査読有り
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      • Work function of low index crystal facet of tungsten evaluated by the Seppen-Katamuki analysis
        Y. Gotoh; K. Mukai; Y. Kawamura; H. Tsuji; J. Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2007年03月, 査読有り
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      • Analytical modeling for the electron emission properties of carbon nanotube arrays
        D. Nicolaescu; V. Filip; G. H. Takaoka; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2007年03月, 査読有り
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      • Cathode luminescence from SiO2 layer including Ge nanoparticles formed by negative-ion implantation
        Hiroshi Tsuji; Nobutoshi Arai; Naoyuki Gotoh; Takashi Minotani; Kenji Kojima; Kouichiro Adachi; Hiroshi Kotaki; Katsumi Takahiro; Toyogi Ishibashi; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 32, NO 4, 2007年, 査読有り
      • Mesenchymal stem cell attachment properties on silicone rubber modified by carbon negative-ion implantation
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Hiroko Sato; Mitsutaka Hattori; Tetsuya Yamada; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 32, NO 4, 2007年, 査読有り
      • Raman spectroscopy of ge nanoparticles formed in thin SiO2 films by negative ion implantation
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Takashi Minotani; Hiroyuki Nakatsuka; Kenji Kojima; Kouichirou Adachi; Hiroshi Kotaki; Toyotsugu Ishibashi; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 32, NO 4, 2007年, 査読有り
      • Modification limit in line width of carbon negative-ion implantation to polystyrene surface for nerve-cell adhesion and neurite outgrowth
        Hiroshi Tsuji; Piyanuch Sommani; Mitsutaka Hattori; Tetsuya Yamada; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 32, NO 4, 2007年, 査読有り
      • Protein adsorption properties on silicone rubber modified by carbon negative-ion implantation
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Hiroko Sato; Mitsutaka Hattori; Tetsuya Yamada; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 32, NO 4, 2007年, 査読有り
      • Effect of C-implantation on nerve-cell attachment to polystyrene films
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Tsuyoshi Kitamura; Mitsutaka Hattori; Tetsuya Yamada; Hiroko Sato; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan, 2007年, 査読有り
      • 炭素負イオン注入処理を施した高分子材料上におけるタンパク質吸着性の評価
        山田哲也; 辻 博司; 服部光高; ソムマニ ピヤヌット; 佐藤弘子; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2007年, 査読有り
      • 水素ガス導入下におけるSi:C-FEAの経時変化の測定
        大和田淳; 小島俊彦; 竹内光明; 後藤康仁; 長尾昌善; 辻 博司; 石川順三; 酒井茂樹; 木本恒暢
        真空, 2007年, 査読有り
      • Work function measurement of transition metal nitride and carbide thin films
        R Fujii; Y Gotoh; MY Liao; H Tsuji; J Ishikawa
        VACUUM, 2006年05月, 査読有り
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      • Development of a compact angle-resolved secondary ion mass spectrometer for Ar+ sputtering
        S Kawaguchi; M Tanemura; M Kudo; N Handa; N Kinoshita; L Miao; S Tanemura; Y Gotoh; MY Liao; S Shinkai
        VACUUM, 2006年05月, 査読有り
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      • Negative-ion implantation into thin SiO2 layer for defined nanoparticle formation
        H Tsuji; N Arai; N Gotoh; T Minotani; T Ishibashi; T Okumine; K Adachi; H Kotaki; Y Gotoh; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2006年03月, 査読有り
        この論文にアクセスする：
      • Neurite outgrowth properties on spin-coated polystyrene modified by carbon negative-ion implantation through pattern mask
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Hiroko Sato; Tsuyoshi Kitamura; Mitsutaka Hattori; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 3, 2006年, 査読有り
      • Electrical characteristics of thin SiO2 film including Ge nanoparticles formed by negative ion implantation
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Toshio Yanagitani; Tetsuya Okumine; Naoyuki Gotoh; Takashi Minotani; Hiroyuki Nakatsuka; Kenji Kojima; Hitoshi Ohnishi; Takeshi Satoh; Masatomi Harada; Kouichirou Adachi; Hiroshi Kotaki; Toyotsugu Ishibashi; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 3, 2006年, 査読有り
      • Nerve cell attachment properties on spin-coated polystyrene modified by carbon negative-ion implantation
        Piyanuch Sommani; Hiroshi Tsuji; Hiroko Sato; Tsuyoshi Kitamura; Mitsutaka Hattori; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 3, 2006年, 査読有り
      • Germanium nanoparticle formation into Thin SiO2 films by negative ion implantation and their electric characteristics
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Naoyuki Gotoh; Tetsuya Okumine; Toshio Yanagitani; Masatomi Harada; Takeshi Satoh; Hitoshi Ohnishi; Takashi Minotani; Kouichirou Adachi; Hiroshi Kotaki; Toyotsugu Ishibashi; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY, 2006年, 査読有り
      • Diflusion barrier for silver atoms in thermally grown oxide layer on silicon and mono-layered Ag nanocrystals formed by negative-ion implantation and subsequent annealing
        Tsuji Hiroshi; Arai Nobutoshi; Gotoh Naoyuki; Minotani Takashi; Ishibashi Toyotsugu; Kimura Kenji; Nakajima Kaoru; Okumine Tetsuya; Adachi Koulchlro; Kotaki Hiroshi; Gotoh Yasuhito; Ishikawa Junzo
        Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 3, 2006年, 査読有り
      • Thermal diffusion barrier for Ag atoms implanted in silicon dioxide layer on silicon substrate and monolayer formation of nanoparticles
        Hiroshi Tsuji; Nobutoshi Arai; Naoyuki Gotoh; Takashi Minotani; Toyotsugu Ishibashi; Tetsuya Okumine; Kouichiro Adachi; Hiroshi Kotaki; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY, 2006年, 査読有り
      • Formation of silver nanoparticles aligned near the bottom of SiO2 film silicon substrate by negative-ion implantation and post-annealing
        N Arai; H Tsuji; K Ueno; T Matsumoto; N Gotoh; K Aadachi; H Kotaki; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2006年01月, 査読有り
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      • Photocatalytic properties of sol-gel titania film under fluorescent-light irradiation improved by silver negative-ion implantation
        H Tsuji; N Sakai; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2006年01月, 査読有り
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      • Formation of mono-layered gold nanoparticles in shallow depth of SiO2 thin film by low-energy negative-ion implantation
        H Tsuji; N Arai; K Ueno; T Matsumoto; N Gotoh; K Adachi; H Kotaki; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2006年01月, 査読有り
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      • Angle dependent sputtering and dimer formation from vanadium nitride target by Ar+ ion bombardment
        S. Kawaguchi; M. Kudo; M. Tanemura; L. Miao; S. Tanemura; Y. Gotoh; M. Liao; S. Shinkai
        AICAM 2005, 2006年, 査読有り
      • 高分解能ラザフォード後方散乱分析(RBS)による銀負イオン注入熱酸化薄膜における銀の熱拡散分布の測定と拡散障壁による単層銀ナノ粒子の形成
        辻 博司; 洗 暢俊; 中塚博之; 後藤直行; 箕谷崇; 小嶋研史; 木村健二; 中嶋 薫; 奥峰徹也; 足立浩一郎; 小滝 浩; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2006年, 査読有り
      • 負イオン注入形成Geナノ粒子含有SiO2薄膜の電気的特性
        洗 暢俊; 辻 博司; 後藤直行; 箕谷 崇; 中塚博之; 小嶋研史; 柳谷敏雄; 奥峰徹也; 大西 均; 佐藤 剛; 原田真臣; 足立浩一郎; 小滝 浩; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2006年, 査読有り
      • Deposition of vanadium carbide thin films using compound target sputtering and their field emission
        MY Liao; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2005年09月, 査読有り
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      • HfN薄膜からのスパッタイオンの放出角度分布測定
        川口慎一; 種村眞幸; 種村 榮; 後藤康仁; 廖 梅勇; 新海聡子
        表面科学, 2005年08月, 査読有り
      • Immobilization of extracellular matrix on polymeric materials by carbon-negative-ion implantation
        H Tsuji; P Sommani; T Muto; Y Utagawa; S Sakai; H Sato; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年08月, 査読有り
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      • Silver negative-ion implantation to sol-gel TiO2 film for improving photocatalytic property under fluorescent light
        H Tsuji; N Sakai; H Sugahara; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年08月, 査読有り
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      • Formation of almost delta-layered nanoparticles in SiO2 thin film on Si substrate by metal negative-ion implantation
        J Ishikawa; H Tsuji; N Arai; T Matsumoto; K Ueno; K Adachi; H Kotaki; Y Gotoh
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年08月, 査読有り
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      • Silicon field emission array as novel charge neutralization device for high current ion implanter
        J Ishikawa; Y Gotoh; K Nakamura; T Kojima; H Tsuji; T Ikejiri; S Sakai; S Umisedo; N Nagai; M Nagao; S Kanemaru
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005年08月, 査読有り
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      • Evaluation of nanoparticles embedded in thin silicon dioxide film by optical reflection property
        N Arai; H Tsuji; K Ueno; T Matsumoto; Y Gotoh; K Adachi; H Kotaki; J Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2005年06月, 査読有り
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      • Delta layer formation of silver nanoparticles in thin silicon dioxide film by negative ion implantation
        H Tsuji; N Arai; T Matsumoto; K Ueno; K Adachi; H Kotaki; Y Gotoh; J Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2005年06月, 査読有り
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      • シリコン電界放出電子源から放出される電子のエネルギー分析
        小島俊彦; 中村好志; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三; 池尻忠司; 海勢頭聖; 酒井茂樹; 長井宣夫
        真空, 2005年, 査読有り
      • レーザ照射処理を施したカーボンナノチューブの電子放出特性の切片傾きチャートによる解析
        河村嘉徳; 石津勝之; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三; 中田修平; 奥田荘一郎
        真空, 2005年, 査読有り
      • Silver nanoparticle formation in thin oxide layer on silicon by silver-negative-ion implantation for Coulomb blockade at room temperature
        H Tsuji; N Arai; T Matsumoto; K Ueno; Y Gotoh; K Adachi; H Kotaki; J Ishikawa
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 2004年11月, 査読有り
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      • Compound-target sputtering for niobium carbide thin-film deposition
        MY Liao; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2004年09月, 査読有り
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      • Surface treatment of silicone rubber by carbon negative-ion implantation for nerve regeneration
        H Tsuji; M Izukawa; R Ikeguchi; R Kakinoki; H Sato; Y Gotoh; J Ishikawa
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 2004年07月, 査読有り
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      • A study of TaN film field electron emitter material by a Kelvin probe force microscope
        K Miya; M Sasaki; S Yamamoto; Y Gotoh; Y Kawamura; J Ishikawa
        MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2004年05月, 査読有り
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      • Electron emission properties of Spindt-type platinum field emission cathodes
        Y Gotoh; M Nagao; D Nozaki; K Utsumi; K Inoue; T Nakatani; T Sakashita; K Betsui; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2004年02月, 査読有り
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      • Growth and stress evolution of hafnium nitride films sputtered from a compound target
        MY Liao; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2004年01月, 査読有り
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      • Crystallographic structure and composition of vanadium nitride films deposited by direct sputtering of a compound target
        MY Liao; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2004年01月, 査読有り
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      • マイクロガスジェットイオン源の放電特性把握実験
        一原主税; 小林 明; 後藤康仁; 井上憲一; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2004年, 査読有り
      • Selective neurite outgrowth on silver negative ion Ag--implanted polystyrene surfaces
        H Sato; H Tsuji; H Sasaki; S Ikemura; Y Gotoh; J Ishikawa; SI Nishimoto
        CHINESE JOURNAL OF POLYMER SCIENCE, 2003年12月, 査読有り
      • シリコン基板上熱酸化膜中への銀負イオン注入で作製した銀ナノ粒子の光反射特性による評価
        洗暢俊; 辻博司; 本野正徳; 菅原弘允; 松本卓也; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2003年09月, 査読有り
      • Field electron emission from nanostructured heterogeneous HfNxOy films
        MY Liao; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        APPLIED PHYSICS LETTERS, 2003年08月, 査読有り
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      • On the stability of electronic perturbations on a graphite surface produced by low-energy ion bombardment
        Y Gotoh; T Hagiwara; Y Tanaka; H Kubo; H Tsuji; J Ishikawa
        MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A-STRUCTURAL MATERIALS PROPERTIES MICROSTRUCTURE AND PROCESSING, 2003年07月, 査読有り
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      • Formation and control of stoichiometric hafnium nitride thin films by direct sputtering of hafnium nitride target
        Y Gotoh; MY Liao; H Tsuji; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 2003年07月, 査読有り
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      • Measurement of work function of transition metal nitride and carbide thin films
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2003年07月, 査読有り
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      • In situ analyzer of electron emission properties: Fowler-Nordheim plotter and Seppen-Katamuki plotter
        Y Gotoh; K Ishizu; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2003年07月, 査読有り
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      • Formation of silver nanoparticles in thin oxide layer on Si by negative-ion implantation
        N Arai; H Tsuji; M Motono; Y Gotoh; K Adachi; H Kotaki; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2003年05月, 査読有り
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      • Study on optical reflection property from multilayer on Si substrate including nanoparticles in SiO2 layer
        H Tsuji; N Arai; M Motono; Y Gotoh; K Adachi; H Kotaki; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2003年05月, 査読有り
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      • Improvement of polydimethylsiloxane guide tube for nerve regeneration treatment by carbon negative-ion implantation
        H Tsuji; M Izukawa; R Ikeguchi; R Kakinoki; H Sato; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2003年05月, 査読有り
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      • Improvement of photocatalytic efficiency of rutile titania by silver negative-ion implantation
        H Tsuji; H Sugahara; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2003年05月, 査読有り
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      • R&D of diamond films in the Frontier Carbon Technology Project and related topics
        K Kobashi; Y Nishibayashi; Y Yokota; Y Ando; T Tachibana; N Kawakami; K Hayashi; K Inoue; K Meguro; H Imai; H Furata; T Hirao; K Oura; Y Gotoh; H Nakahara; H Tsuji; J Ishikawa; FA Koeck; RJ Nernanich; T Sakai; N Sakuma; H Yoshida
        DIAMOND AND RELATED MATERIALS, 2003年03月, 査読有り
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      • Fibrous structures on diamond and carbon surfaces formed by hydrogen plasma under direct current bias and field electron-emission properties
        K Kobashi; T Tachibana; Y Yokota; N Kawakami; K Hayashi; K Yamamoto; Y Koga; S Fujiwara; Y Gotoh; H Nakahara; H Tsuji; J Ishikawa; FA Kock; RJ Nemanich
        JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, 2003年02月, 査読有り
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      • 電子放出特性その場解析装置によるF-Nプロット及びS-Kチャートのその場表示
        石津勝之; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2003年, 査読有り
      • Negative-ion implantation into thin SiO2 film on Si and formation of silver nanoparticles in the film
        J Ishikawa; H Tsuji; M Motono; Y Gotoh; N Arai; K Adachi; H Kotaki
        IIT2002: ION IMPLANTATION TECHNOLOGY, PROCEEDINGS, 2003年, 査読有り
      • Nanoparticle formation in surface layer of oxide materials and improvement of photocatalytic properties of rutile titanium dioxide
        J Ishikawa; H Tsuji; H Sugahara; Y Gotoh
        APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, 2003年, 査読有り
      • Metal negative-ion implantation into rutile TiO2 and enhancement of photocatalytic property under irradiation of fluorescent light
        H Tsuji; H Sugahara; Y Gotoh; J Ishikawa
        IIT2002: ION IMPLANTATION TECHNOLOGY, PROCEEDINGS, 2003年, 査読有り
      • 低エネルギー小型マイクロ波イオン源を用いたイオンビームアシスト蒸着装置の開発
        芝原 豪; 安孫子正義; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2003年, 査読有り
      • Optical absorption properties of Cu and Ag double negative-ion implanted silica glass
        H Tsuji; K Kurita; Y Gotoh; N Kishimoto; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2002年10月, 査読有り
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      • Ion beam assisted deposition of tantalum nitride thin films for vacuum microelectronics devices
        Y Gotoh; K Kagamimori; H Tsuji; J Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2002年09月, 査読有り
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      • Extracellular matrix absorption properties of negative ion-implanted polystyrene, polydimethylsiloxane and poly-lactic acid
        H Tsuji; H Sasaki; Y Utsumi; H Sato; Y Gotoh; J Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2002年09月, 査読有り
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      • Surface modification of TiO2 (rutile) by metal negative ion implantation for improving catalytic properties
        H Tsuji; T Sagimori; K Kurita; Y Gotoh; J Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2002年09月, 査読有り
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      • Relationship between composition and work function of gold-samarium alloy thin films
        N Kiwa; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        VACUUM, 2002年08月, 査読有り
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      • Neuron attachment properties of carbon negative-ion implanted bioabsorbable polymer of poly-lactic acid
        H Tsuji; H Sasaki; H Sato; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2002年05月, 査読有り
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      • Energy distribution of the compact microwave ion source for extremely low voltage ion extraction
        Y Gotoh; K Nakajima; T Hagiwara; H Tsuji; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2002年02月, 査読有り
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      • イオンビームアシスト蒸着による窒化ニオブ薄膜の配向制御
        後藤康仁; 北井秀憲; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2002年, 査読有り
      • マグネトロンスパッタ法による遷移金属炭化物薄膜の作製と冷陰極材料としての評価
        後藤康仁; 紀和伸政; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2002年, 査読有り
      • 炭素負イオン注入により改質した生分解性ポリ乳酸表面の神経細胞接着特性
        泉川雅芳; 辻 博司; 佐藤弘子; 佐々木仁志; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2002年, 査読有り
      • 石英ガラスへの金属負イオン多重注入による表面プラズモン共鳴吸収帯域の制御
        辻 博司; 栗田賢一; 本野正徳; 菅原弘允; 後藤康仁; 岸本直樹; 石川順三
        真空, 2002年, 査読有り
      • 金属負イオン注入による二酸化チタンルチルの光触媒効率の改善
        辻 博司; 菅原弘允; 鷺森友彦; 本野正徳; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2002年, 査読有り
      • 窒化物ターゲットの高周波スパッタリングによるハフニウムおよびタンタル窒化物薄膜の形成と評価
        後藤康仁; 紀和伸政; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2002年, 査読有り
      • On the increase of the intensity ratio of doubly charged ions to singly charged ions for liquid gold and copper ion sources
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        ULTRAMICROSCOPY, 2001年10月, 査読有り
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      • Relationships among the physical parameters required to give a linear relation between slope and intercept of Fowler-Nordheim plots
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        ULTRAMICROSCOPY, 2001年10月, 査読有り
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      • Fabrication of gated niobium nitride field emitter array
        Y Gotoh; Y Kashiwagi; M Nagao; T Kondo; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2001年07月, 査読有り
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      • Relationship between work function and current fluctuation of field emitters: Use of SK chart dor evaluation of work function
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2001年05月, 査読有り
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      • Emission characteristics of Spindt-type platinum field emitters improved by operation in carbon monoxide ambient
        Y Gotoh; D Nozaki; H Tsuji; J Ishikawa; T Nakatani; T Sakashita; K Betsui
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2001年05月, 査読有り
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      • A negative ion beam application for improving biocompatibility of polystyrene surface
        J Ishikawa; H Tsuji; H Sato; H Sasaki; Y Gotoh
        APPLICATION OF ACCELERATORS IN RESEARCH AND INDUSTRY, 2001年, 査読有り
      • 負イオン注入によるポリスチレン表面の神経細胞接着特性の改質とパターン化処理
        辻 博司; 佐藤弘子; 佐々木仁志; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2001年, 査読有り
      • 細胞接着特性の向上を目指した負イオン注入ポリスチレンの原子間力顕微鏡による表面観測
        佐々木仁志; 辻 博司; 佐藤弘子; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2001年, 査読有り
      • 銅負イオン注入による二酸化チタンの光吸収特性の変化と銅超微粒子の形成
        辻 博司; 鷺森友彦; 栗田賢一; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 2001年, 査読有り
      • Significant improvement of the emission property of Spindt-type platinum field emitters by operation in carbon monoxide ambient
        Y Gotoh; D Nozaki; H Tsuji; J Ishikawa; T Nakatani; T Sakashita; K Betsui
        APPLIED PHYSICS LETTERS, 2000年07月, 査読有り
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      • Neuron cell positioning on polystyrene in culture by silver-negative ion implantation and region control of neural outgrowth
        H Tsuji; H Sato; T Baba; S Ikemura; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2000年05月, 査読有り
        この論文にアクセスする：
      • Estimation of emission field and emission site of boron-doped diamond thin-film field emitters
        Y Gotoh; T Kondo; M Nagao; H Tsuji; J Ishikawa; K Hayashi; K Kobashi
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2000年03月, 査読有り
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      • Compact microwave ion source for extremely low energy ion irradiation system
        Y Gotoh; H Kubo; H Tsuji; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2000年02月, 査読有り
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      • Application of compact microwave ion source to low temperature growth of transition metal nitride thin films for vacuum microelectronics devices
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2000年02月, 査読有り
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      • Negative-ion implanter for powders and its application to nanometer-sized metal particle formation in the surface of glass beads
        H Tsuji; S Kido; H Sasaki; Y Gotoh; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2000年02月, 査読有り
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      • A negative ion beam application to artificial formation of neuron network in culture
        H Tsuji; H Sato; T Baba; Y Gotoh; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2000年02月, 査読有り
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      • Molecular ion implanter equipped with liquid-metal alloy ion source
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2000年02月, 査読有り
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      • Criterion for decrease of electric field at ionization point of liquid-metal ion sources
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2000年02月, 査読有り
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      • ゲート電極付き窒化ニオブフィールドエミッタアレイの作製
        後藤康仁; 柏木 祐; 長尾昌善; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2000年, 査読有り
      • イオン照射によって生じるグラファイト表面原子変位の拡張Hueckel法を用いた解析
        萩原哲也; 久保洋士; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        真空, 2000年, 査読有り
      • Self-aligned formation of a vertical-type micro field emitter with a volcano-shaped gate electrode protruding towards the cathode by focused ion-beam sputter etching and deposition
        Y Gotoh; N Fujita; H Tsuji; J Ishikawa; S Nagamachi; M Ueda
        JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING, 1999年12月, 査読有り
        この論文にアクセスする：
      • Theoretical approach to liquid-metal field-emission electron sources
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 1999年05月, 査読有り
      • Dependence of emission characteristics of Spindt-type field emitters on cathode material
        M Nagao; K Utsumi; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa; T Nakatani; T Sakashita; K Betsui
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 1999年05月, 査読有り
      • Dependence of carbon interatomic bonds on incident ion energy in carbon negative ion beam deposited films
        H Tsuji; S Nakamura; Y Gotoh; J Ishikawa
        THIN SOLID FILMS, 1999年04月, 査読有り
      • Emission characteristics of Spindt-type field emitter arrays in oxygen ambient
        Y Gotoh; K Utsumi; M Nagao; H Tsuji; J Ishikawa; T Nakatani; T Sakashita; K Betsui
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1999年03月, 査読有り
      • 低エネルギーCN分子負イオンビーム蒸着膜における窒素含有率のエネルギー依存性
        吉原孝明; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1999年, 査読有り
      • Influence of ambient nitrogen pressure on the property of zirconium nitride thin films in ion beam assisted deposition
        Y. Gotoh; T. Shiigi; M. Nagao; H. Tsuji; J. Ishikawa
        Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り
      • Negative-ion implanter for powders and uniform implantation without particle scattering
        Hiroshi Tsuji; Masakazu Mimura; Shunsuke Kido; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り
      • Comparison of silicon etching properties between F- negative ion and SF3+ positive ion-beam etchings
        Junzo Ishikawa; Hiroshi Tsuji; Kazuma Shibutani; Hiroshi Ikai; Yasuhito Gotoh
        Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology, 1999年, 査読有り
      • Negative-ion beam surface modification of tissue-culture polystyrene dishes for changing hydrophilic and cell-attachment properties
        H Tsuji; H Satoh; S Ikeda; S Ikemura; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1999年01月, 査読有り
      • CN molecular negative-ion beam deposition and ion energy dependence of atomic bonds between carbon and nitrogen in the films
        H Tsuji; T Yoshihara; S Nakamura; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1999年01月, 査読有り
      • 銀負イオン注入による組織培養ポリスチレン表面の細胞接着特性の改質
        辻 博司; 池村慎一; 佐藤弘子; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1999年, 査読有り
      • 低エネルギー炭素イオンビーム蒸着膜の原子間結合状態のエネルギー依存性
        辻 博司; 中村修一; 吉原孝明; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1999年, 査読有り
      • 球状粉体への負イオン注入による均一性評価と注入原子の深さ方向分布
        木戸俊介; 三村昌和; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1999年, 査読有り
      • イオンビームアシスト蒸着法により作製した窒化ニオブフィールドエミッタの電子放出特性
        後藤康仁; 長尾昌善; 浦 利之; 辻 博司; 石川順三
        真空, 1999年, 査読有り
      • 真空マイクロエレクトロニクス素子の陰極材料としての窒化ニオブ薄膜の作製と評価
        後藤康仁; 浦 利之; 長尾昌善; 辻 博司; 石川順三
        真空, 1999年, 査読有り
      • Ion beam assisted deposition of niobium nitride thin films for vacuum microelectronics devices
        Y Gotoh; M Nagao; T Ura; H Tsuji; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1999年01月, 査読有り
      • Monte Carlo simulation of emission efficiency of cone-shaped metal-insulator-semiconductor cathode
        K Inoue; Y Gotoh; Y Fujimori; M Nagao; S Sadakane; H Tsuji; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1998年10月, 査読有り
      • Rate of decrease in the intensity ratio of doubly charged ions to singly charged ions in liquid-metal ion source with gold-based alloy
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        ULTRAMICROSCOPY, 1998年06月, 査読有り
      • Surface modification by silver-negative-ion implantation for controlling cell-adhesion properties of polystyrene
        H Tsuji; H Satoh; S Ikeda; N Ikemoto; Y Gotoh; J Ishikawa
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 1998年05月, 査読有り
      • Secondary electron emission and surface potential of SiO2 film surface by negative ion bombardment
        H Tsuji; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1998年05月, 査読有り
      • Contact angle lowering of polystyrene surface by silver-negative-ion implantation for improving biocompatibility and introduced atomic bond evaluation by XPS
        H Tsuji; H Satoh; S Ikeda; Y Gotoh; J Ishikawa
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1998年05月, 査読有り
      • Non-scattering technique of ion-implantation into vibrated micro-powders by using a negative-ion beam
        J Ishikawa; H Tsuji; M Mimura; S Ikemura; Y Gotoh
        SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 1998年05月, 査読有り
      • Emission stability analysis of cone-shaped metal-insulator-semiconductor cathode by Monte Carlo simulation
        J Ishikawa; Y Gotoh; S Sadakane; K Inoue; M Nagao; H Tsuji
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1998年03月, 査読有り
      • Fabrication of GaN field emitter arrays by selective area growth technique
        T Kozawa; M Suzuki; Y Taga; Y Gotoh; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1998年03月, 査読有り
      • Emission characteristics of ZrN thin film field emitter array fabricated by ion beam assisted deposition technique
        M Nagao; Y Fujimori; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1998年03月, 査読有り
      • Development of compact microwave ion source for low-energy application
        Y Gotoh; Y Fujimori; H Kubo; H Tsuji; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1998年02月, 査読有り
      • Extraction of molecular negative-ion beams of CN from radio frequency plasma-sputter-type heavy negative ion source for negative-ion beam deposition
        Tsuji, H; Ishikawa, J; Tomita, T; Yoshihara, T; Gotoh, Y
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1998年02月, 査読有り
      • Surface charging of insulated materials by negative ion beam bombardment
        J Ishikawa; H Tsuji; Y Gotoh
        PRODUCTION AND NEUTRALIZATION OF NEGATIVE IONS AND BEAMS / PRODUCTION AND APPLICATION OF LIGHT NEGATIVE IONS, 1998年, 査読有り
      • Influence of surface treatment and dopant concentration on field emission characteristics of boron-doped diamond thin films
        M Nagao; T Kondo; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa; K Miyata; K Kobashi
        APPLIED PHYSICS LETTERS, 1997年11月, 査読有り
      • Stability of field emission current from boron-doped diamond thin films terminated with hydrogen and oxygen
        M Nagao; T Kondo; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa; K Miyata; K Kobashi
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS, 1997年09月, 査読有り
      • Empirical relation between electric field at the ionization point and emission current of liquid copper, gold, germanium, and tin ion sources
        Y Gotoh; T Kashiwagi; H Tsuji; J Ishikawa
        APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, 1997年05月, 査読有り
      • Study on emission yields of negative- and positive-ion induced secondary electron from thin SiO2 film
        J Ishikawa; H Tsuji; S Ikeda; Y Gotoh
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1997年05月, 査読有り
      • Slightly negative surface potential and charging model of insulator in the negative-ion implantation
        H Tsuji; J Ishikawa; S Ikeda; Y Gotoh
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1997年05月, 査読有り
      • 真空マイクロエレクトロニクス素子のための窒化ジルコニウム薄膜の作製と評価
        後藤康仁; 藤森敬和; 椎木 崇; 辻 博司; 石川順三
        真空, 1997年, 査読有り
      • Negative-ion production of reactive elements from compound gases in the RF plasma-sputter-type heavy negative-ion source
        H Tsuji; J Ishikawa; T Tomita; Y Gotoh
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY - 96, 1997年, 査読有り
      • Molecular ion implantation technique for obtaining the same depth profile for the component atoms
        J Ishikawa; H Tsuji; M Mimura; Y Gotoh
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY - 96, 1997年, 査読有り
      • Particle-scattering phenomenon of powders caused by charging voltage of the surface during ion implantation
        J Ishikawa; H Tsuji; Y Gotoh
        ION IMPLANTATION TECHNOLOGY - 96, 1997年, 査読有り
      • 高周波プラズマスパッタ型負重イオン源からのCN分子負イオン引き出しとCN負イオンビーム蒸着膜の作製
        辻 博司; 富田哲生; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1997年, 査読有り
      • 雑音電力を用いた極微フィールドエミッタの安定性の定量的評価
        長尾昌善; 後藤康仁; 辻博司; 石川順三
        真空, 1997年, 査読有り
      • Structures and properties of copper thin films prepared by ion beam assisted deposition
        Y Gotoh; H Yoshii; T Amioka; K Kameyama; H Tsuji; J Ishikawa
        THIN SOLID FILMS, 1996年11月, 査読有り
      • Relationship between effective work functions and noise powers of emission currents in nickel-deposited field emitters
        Y Gotoh; M Nagao; M Matsubara; K Inoue; H Tsuji; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS, 1996年10月, 査読有り
      • Influences of ambient gases on the emission characteristics of Nickel-deposited field emitters for vacuum microelectronics
        M Nagao; M Matsubara; K Inoue; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1996年10月, 査読有り
      • Yield measurement of secondary electrons emitted from silicon dioxide film in negative-ion bombardment
        Y Toyota; H Tsuji; Y Gotoh; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1996年09月, 査読有り
      • Development of ion irradiation system for in situ observation of ion irradiated semiconductor surfaces by ultra high vacuum scanning tunneling microscope
        J Ishikawa; H Tsuji; K Kameyama; S Shimada; Y Gotoh
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 1996年07月, 査読有り
      • Charging phenomenon of insulators in negative-ion implantation
        Y Toyota; H Tsuji; S Nagumo; Y Gotoh; J Ishikawa
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 1996年07月, 査読有り
      • Fundamental study on powder-scattering in positive- and negative-ion implantation into powder materials
        H Tsuji; J Ishikawa; H Itoh; Y Toyota; Y Gotoh
        APPLIED SURFACE SCIENCE, 1996年07月, 査読有り
      • Liquid gold-antimony ion sources
        Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1996年06月, 査読有り
      • Metal ion beam self-sputter deposition system
        Y Gotoh; T Amioka; H Tsuji; J Ishikawa
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1996年05月, 査読有り
      • Cone-shaped metal-insulator-semiconductor cathode for vacuum microelectronics
        J Ishikawa; K Inoue; S Sadakane; Y Gotoh; H Tsuji
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1996年05月, 査読有り
      • Negative-ion extraction of gaseous materials from a radio frequency plasma-sputter-type heavy negative-ion source
        Tsuji, H; Ishikawa, J; Tomita, T; Gotoh, Y
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1996年03月, 査読有り
      • Study on the energy distribution of ion beams extracted from the sputter-type negative-ion source
        J Ishikawa; H Tsuji; T Takatori; Y Gotoh
        PRODUCTION AND NEUTRALIZATION OF NEGATIVE IONS AND BEAMS / PRODUCTION AND APPLICATION OF LIGHT NEGATIVE IONS, 1996年, 査読有り
      • Self-aligned fabrication of extractor for cone-shaped metal-insulator-semiconductor electron tunneling cathodes
        K Inoue; S Sadakane; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1995年12月, 査読有り
      • Energy distribution and yield measurement of secondary electrons to evaluate the equilibrium charging voltage of an isolated electrode during negative-ion implantation
        Y Toyota; H Tsuji; Y Gotoh; J Ishikawa
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1995年12月, 査読有り
      • 負イオン注入における絶縁物からの放出二次電子の測定
        豊田啓孝; 本田広史; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1995年09月, 査読有り
      • 高周波プラズマスパッタ型負重イオン源における気体材料の負イオン生成
        辻 博司; 岡山芳央; 豊田啓孝; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1995年03月, 査読有り
      • 低エネルギー引き出し小型マイクロ波イオン源の開発
        藤森敬和; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        真空, 1995年03月, 査読有り
      • FABRICATION OF LATERAL-TYPE THIN-FILM EDGE FIELD EMITTERS BY FOCUSED ION-BEAM TECHNIQUE
        Y GOTOH; T OHTAKE; N FUJITA; K INOUE; H TSUJI; J ISHIKAWA
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1995年03月, 査読有り
      • APPLICATION OF THE FOCUSED ION-BEAM TECHNIQUE TO THE DIRECT FABRICATION OF VERTICAL-TYPE FIELD EMITTERS
        J ISHIKAWA; T OHTAKE; Y GOTOH; H TSUJI; N FUKAYAMA; K INOUE; S NAGAMACHI; Y YAMAKAGE; M UEDA; H MARUNO; M ASARI
        JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1995年03月, 査読有り
      • THE CHARGING MECHANISM OF INSULATED ELECTRODE IN NEGATIVE-ION IMPLANTATION
        S SAKAI; Y GOTOH; H TSUJI; Y TOYOTA; J ISHIKAWA; M TANJYO; K MATSUDA
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1995年03月, 査読有り
      • NEGATIVE-ION IMPLANTATION TECHNIQUE
        J ISHIKAWA; H TSUJI; Y TOYOTA; Y GOTOH; K MATSUDA; M TANJYO; S SAKAI
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1995年03月, 査読有り
      • 負イオン注入における基板帯電モデルとその評価
        豊田啓孝; 辻 博司; 南雲正二; 酒井滋樹; 後藤康仁; 石川順三; 松田耕自
        真空, 1995年, 査読有り
      • 微細周期構造にイオン注入したときの素子帯電のシミュレーション
        酒井滋樹; 辻 博司; 後藤康仁; 豊田啓孝; 石川順三; 丹上正安; 松田耕自
        真空, 1995年, 査読有り
      • イオン誘起二次電子分析による負イオン注入時のレジスト膜の帯電測定
        辻 博司; 南雲正二; 豊田啓孝; 酒井滋樹; 後藤康仁; 石川順三
        真空, 1995年, 査読有り
      • FABRICATION OF CONE-SHAPED METAL-INSULATOR-SEMICONDUCTOR ELECTRON-TUNNELING CATHODE
        INOUE, K; GOTOH, Y; TSUJI, H; ISHIKAWA, J
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1994年12月, 査読有り
      • NEGATIVE-ION PRODUCTION PROBABILITY IN RF PLASMA SPUTTER-TYPE HEAVY NEGATIVE-ION SOURCE
        H TSUJI; J ISHIKAWA; Y KAWABATA; Y GOTOH
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1994年05月, 査読有り
      • OPERATIONAL CHARACTERISTICS OF THE IMPREGNATED-ELECTRODE-TYPE LIQUID-METAL ION-SOURCE WITH MULTIPLE TIP AND RESERVOIRS
        Y GOTOH; K YOSHIDA; T KAWAI; N FUKAYAMA; Y OGATA; H TSUJI; J ISHIKAWA
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1994年04月, 査読有り
      • 負イオン注入における絶縁した電極表面の帯電電位のイオン電流密度依存性
        辻 博司; 酒井滋樹; 岡山芳央; 豊田啓孝; 後藤康仁; 松田耕自; 丹上正安; 石川順三
        真空, 1994年, 査読有り
      • イオン誘起二次電子による負イオン注入時の絶縁物基板の帯電測定
        辻 博司; 豊田啓孝; 南雲正二; 後藤康仁; 石川順三; 酒井滋樹; 丹上正安; 松田耕自
        真空, 1994年, 査読有り
      • MEASUREMENT OF HEAVY NEGATIVE-ION PRODUCTION PROBABILITIES BY SPUTTERING
        J ISHIKAWA; H TSUJI; Y GOTOH; S AZEGAMI
        PRODUCTION AND NEUTRALIZATION OF NEGATIVE IONS AND BEAMS, 1994年, 査読有り
      • RF PLASMA SPUTTER-TYPE DC-MODE HEAVY NEGATIVE-ION SOURCE
        H TSUJI; J ISHIKAWA; Y GOTOH; Y OKADA
        PRODUCTION AND NEUTRALIZATION OF NEGATIVE IONS AND BEAMS, 1994年, 査読有り
      • APPLICATION OF FOCUSED ION-BEAM TECHNIQUES TO THE FABRICATION OF LATERAL-TYPE THIN-FILM EDGE FIELD EMITTERS
        Y GOTOH; K INOUE; T OHTAKE; H UEDA; Y HISHIDA; H TSUJI; J ISHIKAWA
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1994年01月, 査読有り
      • 絶縁性基板への負イオン注入によるチャージアップの軽減
        酒井滋樹; 丹上正安; 河合 禎; 松田耕自; 後藤康仁; 大西浩之; 辻 博司; 石川順三
        真空, 1993年11月, 査読有り
      • METAL-SHEET-BEAM FORMATION USING AN IMPREGNATED ELECTRODE-TYPE LIQUID-METAL ION-SOURCE WITH A LINEAR-ARRAY OF EMISSION POINTS
        Y GOTOH; J ISHIKAWA; H TSUJI; N FUKAYAMA; Y OGATA
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1993年04月, 査読有り, 筆頭著者
      • RADIO-FREQUENCY PLASMA SPUTTER TYPE HEAVY NEGATIVE-ION SOURCE
        J ISHIKAWA; H TSUJI; Y OKADA; M SHINODA; Y GOTOH
        VACUUM, 1993年03月, 査読有り
      • ESTIMATION OF METAL-DEPOSITED FIELD EMITTERS FOR THE MICRO-VACUUM TUBE
        J ISHIKAWA; H TSUJI; K INOUE; M NAGAO; T SASAKI; T KANEKO; Y GOTOH
        JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1993年03月, 査読有り
      • PROFILES OF ION-BEAMS EXTRACTED FROM IMPREGNATED-ELECTRODE-TYPE LIQUID-METAL ION-SOURCE WITH LINEAR-ARRAY EMISSION POINTS
        J ISHIKAWA; Y GOTOH; N FUKAYAMA; Y OGATA; K YOSHIDA; H TSUJI
        VACUUM, 1993年03月, 査読有り
      • 金属蒸着フィールドエミッタの作製と電子放出特性
        長尾昌善; 井上和則; 笹木高広; 金子 毅; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        真空, 1993年, 査読有り
      • INFLUENCE OF CATHODE MATERIAL ON EMISSION CHARACTERISTICS OF FIELD EMITTERS FOR MICROELECTRONICS DEVICES
        ISHIKAWA J; TSUJI H; GOTOH Y; SASAKI T; KANEKO T; NAGAO M; INOUE K
        Journal of Vacuum Science & Technology B, 1993年, 査読有り
      • INTENSIFICATION OF AN IMPREGNATED-ELECTRODE-TYPE LIQUID-METAL ION-SOURCE BY MULTIPLYING THE NUMBER OF TIP-AND-RESERVOIRS
        Y GOTOH; N FUKAYAMA; H TSUJI; J ISHIKAWA
        REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1992年04月, 査読有り
      • MILLIAMPERE METAL-ION BEAM FORMATION USING MULTIPOINT EMISSION BY AN IMPREGNATED-ELECTRODE-TYPE LIQUID-METAL ION-SOURCE
        J ISHIKAWA; H TSUJI; Y GOTOH
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1991年04月, 査読有り
      • ROLE OF KINETIC-ENERGY OF SPUTTERED PARTICLES IN THIN-FILM FORMATION
        Y TAGA; Y GOTOH
        THIN SOLID FILMS, 1990年12月, 査読有り
      • STRUCTURES AND PROPERTIES OF CHROMIUM THIN-FILMS PREPARED BY ANISOTROPIC-EMISSION-EFFECT SPUTTER DEPOSITION
        Y GOTOH; Y TAGA
        JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1990年01月, 査読有り
      • IMPREGNATED-ELECTRODE-TYPE LIQUID-METAL ION-SOURCE
        J ISHIKAWA; Y GOTOH; H TSUJI; T TAKAGI
        NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 1987年03月, 査読有り

      MISC

      • Irradiation effects of high energy proton beam to phenylalanine thin films
        Yasuhito Gotoh; Masahiro Nakakami; Toshio Seki; Jiro Matsuo
        The 23rd International Workshop on Inelastic Ion-Surface Collisions, 2018年11月
      • Analysis of amino acids on tungsten needle by static voltage atom probe
        Yasuhito Gotoh; Masahiro Nakakami; Yuki Haneji; Chikasa Nishimura; Tasuku Sone; Hiroshi Tsuji
        The 22nd International Conference on Secondary Ion Mass Spectrometry, 2018年10月
      • Appropriate proton energy in non-Rutherford backscattering spectrometry for analysis of nitrogen composition of transition metal nitirde thin films on silicon substrate
        Yasuhito Gotoh; Tomoaki Osumi
        26th International Conference on Ion Beam Analysis and 18th International Conference on Particle Induced X-ray Emission, 2023年10月
      • Electron emission characteristics of field emitter arrays coated with over-stoichiometric hafnium nitride
        Tomoaki Osumi; Ryosuke Hori; Masayoshi Nagao; Hiromasa Murata; Yasuhito Gotoh
        2023 IEEE 36th International Vacuum Nanoelectronics Conference, 2023年07月
      • 少電荷近似空間電荷制限電流の近似式の検討
        後藤康仁
        電子情報通信学会技術研究報告, ED, 電子デバイス (電子・イオンビーム応用), 2022年12月
      • 直流および高周波マグネトロンスパッタ法により成膜した窒化ハフニウム薄膜の仕事関数の測定
        大住知暉; 長尾昌善; 後藤康仁
        電子情報通信学会技術研究報告, ED, 電子デバイス (電子・イオンビーム応用), 2022年12月
      • Sputtering Simulation of the film thickness distribution and membrane property distribution
        Kohei Kuroshima; Ichirou Ikeda; Shigeji Sugimoto; Masashi Iguchi; Yasuhito Gotoh
        The 22nd International Vacuum Congress IVC22, 2022年09月
      • Crystal orientation of hafnium nitride thin films prepared at different positions by rf magnetron sputtering
        Tomoaki Osumi; Yasuhito Gotoh
        The 22nd International Vacuum Congress IVC22, ISSP/SE, 2022年09月
      • 少電荷近似における空間電荷制限電流密度の式の評価
        後藤康仁
        電子情報通信学会技術研究報告, ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクスおよびその評価技術), 2021年12月
      • 真空ナノエレクトロニクス素子の切片傾きチャートによる解析
        後藤 康仁; 辻 博司; 石川 順三
        電気学会研究会資料. ED, 放電研究会, 2005年12月08日
      • サマリウム金薄膜の仕事関数評価
        紀和 伸政; 後藤 康仁; 辻 博司; 石川 順三
        真空, 2001年03月20日
      • シリコンおよび二酸化シリコンのフッ素負イオンエッチング特性
        渋谷 和真; 辻 博司; 後藤 康仁; 石川 順三
        真空, 1999年03月
      • スパッタリングによる負重イオン生成とRFプラズマスパッタ型負重イオン源 (特集/負イオン利用技術の現状--負イオン発見100年を記念して)
        辻 博司; 石川 順三; 後藤 康仁
        Ionics, 1997年07月
      • 無帯電負イオン注入技術と負イオン注入装置 (特集/負イオン利用技術の現状--負イオン発見100年を記念して)
        石川 順三; 辻 博司; 後藤 康仁
        Ionics, 1997年07月
      • イオンビームアシスト蒸着による炭化タンタル薄膜の作製と冷陰極材料としての評価
        後藤 康仁; 芝原 豪; 藤井 亮一; 辻 博司; 石川 順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 2002年12月06日
      • 極微電子源の陰極材料としての遷移金属窒化物薄膜の低温形成
        後藤 康仁; 長尾 昌善; 辻 博司; 石川 順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 1997年12月12日
      • S-Kチャートによる電界放出デバイス評価技術
        後藤 康仁; 辻 博司; 石川 順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 2005年12月15日
      • イオン注入装置の帯電緩和素子への応用を目指したシリコンフィールドエミッタアレイの開発
        後藤 康仁; 中村 好志; 小島 俊彦; 辻 博司; 石川 順三; 池尻 忠司; 海勢頭 聖; 酒井 滋樹; 長井 宣夫; 長尾 昌善; 金丸 正剛
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 2004年12月16日
      • 高周波マグネトロンスパッタリングによる遷移金属窒化物・炭化物薄膜の作製と冷陰極材料としての評価
        後藤 康仁; 紀和 伸政; 中原 宏勲; 安孫子 正義; 辻 博司; 石川 順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 2001年12月14日
      • 極微フィールドエミッタへのイオン衝撃に関する計算機実験
        後藤 康仁; 松原 元樹; 井上 和則; 辻 博司; 石川 順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス, 1995年12月15日
      • 真空蒸着装置(イオンビームアシスト蒸着法)の作製と窒化ジルコニウム薄膜への応用(平成8年度第1回関西支部研究例会の講演要旨)
        後藤 康仁; 藤森 敬和; 椎木 崇; 辻 博司; 石川 順三
        真空, 1996年07月20日
      • イオン照射表面のその場観察を目的とした超高真空走査トンネル顕微鏡装置の開発
        石川 順三; 辻 博司; 亀山 浩二; 島田 茂樹; 後藤 康仁
        真空, 1995年09月20日
      • 高周波プラズマスパッタ型負重イオン源におけるSF_6からのフッ素負イオン引き出し
        辻 博司; 富田 哲生; 豊田 啓孝; 後藤 康仁; 石川 順三
        真空, 1995年09月20日
      • ガンマ線照射下におけるFEAの特性測定装置とそれを用いた電子放出特性の評価
        後藤康仁; 森藤瑛之; 半田裕典; 長尾昌善; 佐藤信浩; 秋吉優史; 高木郁二; 岡本 保
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2019年11月21日
      • 放射線環境下のセンサ出力を伝送する線路において生成するガンマ線励起電流の評価
        後藤康仁; 奥野泰希; 佐藤信浩; 秋吉優史; 今泉 充; 小林知洋; 岡本 保
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2019年11月21日
      • 微小電子源を用いた真空集積回路創成のための技術的課題
        後藤康仁
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2019年11月21日
      • Effects of bombardment of argon ions backscattered at target surface in magnetron sputter deposition
        Yasuhito Gotoh; Shotaro Yano
        Proceedings of the 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 2019年06月
      • Radiation tolerant vacuum image sensor for robots working on removal of fuel debris
        Yasuhito Gotoh; Teryuki Morito; Masayoshi Nagao; Tamotsu Okamoto; Tomoya Igari; Takahiro Fukui; Tomoaki Masuzawa; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura; Nobuhiro Sato; Masafumi Akiyoshi; Ikuji Takagi
        International Topical Workshop on Fukushima Daiichi Decommissioning Research, 2019年05月
      • Recent progress in development of radiation tolerant image sensor with field emitter array
        Tomoaki Masuzawa; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura; Masayoshi Nagao; Masafumi Akiyoshi; Ikuji Takagi; Yasuhito Gotoh; Tamotsu Okamoto; Tomoya Igari; Nobuhiro Sato
        2018 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, 2018年, 招待有り
      • Operation of field emitter arrays under high dose rate gamma-ray irradiation
        Teruyuki Morito; Yusuke Handa; Yasuhito Gotoh; Nobuhiro Sato; Masayoshi Nagao; Masafumi Akiyoshi; Ikuji Takagi; Tamotsu Okamoto
        2018 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, 2018年
      • Fabrication of volcano structured Spindt-type field emitter arrays using Minimal Fab system
        Masayoshi Nagao; Katsuhisa Murakami; Sommwan Khumpuang; Shiro Hara; Yasuhito Gotoh; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura
        2018 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, 2018年
      • Gamma-ray irradiation effects of CdS/CdTe photodiode for radiation tolerant FEA image sensor
        Tamotsu Okamoto; Tomoya Igari; Takahiro Fukui; Yasuhito Gotoh; Nobuhiro Sato; Masafumi Akiyoshi; Ikuji Takagi
        2018 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, 2018年
      • 高線量率のX線照射下におけるフィールドエミッタアレイの動作
        森藤瑛之; 辻 博司; 長尾昌善; 秋吉優史; 高木郁二; 後藤康仁
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2017年10月28日
      • ファウラーノルドハイムプロットの非直線性が切片傾き解析に与える影響
        後藤康仁
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2017年10月28日
      • Large magnification of electrostatic divergent lens system with extremely short focal length for ion and electron microscopy
        Yasuhito Gotoh; Saba Maeda; Hiroshi Tsuji
        2017 30th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2017, 2017年09月26日
      • Effect of oblique incidence of sputtered and fast particles on crystal orientation in tungsten thin film formation
        Yasuhito Gotoh; Hirofumi Fujiwara; Hiroshi Tsuji
        Proceedings of the 14th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 2017年07月
      • Robustness of Field Emitter Arrays against High-Energy X-ray Irradiation at High Dose Rate
        Gotoh Yasuhito; Morito Teruyuki; Tsuji Hiroshi; Akiyoshi Masafumi; Nagao Masayoshi; Takagi Ikuji
        2017 30th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2017年
      • Process technology for volcano-structured double-gate Spindt-type field emitter arrays
        Nagao Masayoshi; Murakami Katsuhisa; Gotoh Yasuhito; Neo Yoichiro; Mimura Hidenori
        2017 30th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2017年
      • エックス線照射下におけるフィールドエミッタアレイの動作特性とその解析
        後藤康仁; 辻 博司; 長尾昌善; 秋吉優史; 高木郁二
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2016年10月27日
      • CdTe/CdS光電変換膜の耐放射線性評価
        増澤智昭; 根尾陽一郎; 後藤康仁; 岡本 保; 長尾昌善; 佐藤信浩; 秋吉優史; 高木郁二; 三村秀典
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2016年10月25日
      • ミニマルファブを活用した微小電子源の作製
        長尾昌善; 村上勝久; 辰巳憲之; クンプアン ソマワン; 原 史朗; 後藤康仁
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2016年10月25日
      • 真空技術における潜在的な危険と安全対策
        後藤康仁
        Journal of the Vacuum Society of Japan, 2016年07月
      • Field emitter array with electrostatic focusing electrode for radiation tolerant compact image sensor
        Y. Gotoh; M. Nagao; T. Masuzawa; Y. Neo; H. Mimura; T. Okamoto; M. Akiyoshi; N. Sato; I. Takagi
        11th International Vacuum Electron Sources Conference, 2016年, 招待有り
      • Radiation tolerant compact image sensor using CdTe photodiode and field emitter array (Conference Presentation)
        Masuzawa Tomoaki; Neo Yoichiro; Mimura Hidenori; Okamoto Tamotsu; Nagao Masayoshi; Akiyoshi Masafumi; Sato Nobuhiro; Takagi Ikuji; Tsuji Hiroshi; Gotoh Yasuhito
        Radiation Detectors: Systems and Applications XVII, 2016年
      • Radiation tolerance of compact image sensor with field emitter array and cadmium telluride-based photoconductor
        Gotoh Yasuhito; Tsuji Hiroshi; Nagao Masayoshi; Masuzawa Tomoaki; Neo Yoichiro; Mimura Hidenori; Okamoto Tamotsu; Akiyoshi Masafumi; Sato Nobuhiro; Takagi Ikuji; IEEE
        2016 29th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2016年
      • Evaluation of current density distribution of field emitted electrons by numerical simulation in conjunction with analytical approach
        Gotoh Yasuhito; Tsuji Hiroshi; Nagao Masayoshi; IEEE
        2016 29th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2016年
      • Development of CdTe based photoconductive target for radiation tolerant compact image sensors
        Masuzawa Tomoaki; Neo Yoichiro; Mimura Hidenori; Okamoto Tamotsu; Nagao Masayoshi; Gotoh Yasuhito; Akiyoshi Masafumi; Sato Nobuhiro; Takagi Ikuji; IEEE
        2016 29th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2016年
      • ダブルゲートスピント型エミッタの電極構造と電子ビーム軌道
        後藤康仁; 辻 博司; 長尾昌善
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2015年10月22日
      • Effect of substrate position on crystal orientation of tungsten films prepared by rf magnetron sputter deposition
        H. Fujiwara; H. Tsuji; Y. Gotoh
        Proceedings of the 13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 2015年07月
      • Work function of hafnium nitirde thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering
        Yasuhito Gotoh; Sho Fujiwara; Hiroshi Tsuji
        Proceedings of the 13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 2015年07月
      • Effect of electrode geometry on focusing property of volcano-structured double-gate Spindt-type FEAs
        Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Masayoshi Nagao
        IDW '15: The 22nd International Display Workshops, 2015年
      • Revised fabrication of volcano-structured double-gate Spindt-type FEA
        Masayoshi Nagao; Yasuhito Gotoh; Tomoaki Masuzawa; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura
        IDW '15: The 22nd International Display Workshops, 2015年
      • Deposition of glycine molecules on tungsten emitter and observation of its surface with field ion microscope
        Noriaki Nyuba; Makoto Okada; Hiroshi Tsuji; Yasuhito Gotoh
        IDW '15: The 22nd International Display Workshops, 2015年
      • Research Project on Development of Radiation Tolerant Compact Image Sensor with a Field Emitter Array
        Gotoh Yasuhito; Masuzawa Tomoaki; Neo Yoichiro; Mimura Hidenori; Nagao Masayoshi; Okamoto Tamotsu; Akiyoshi Masafumi; Takagi Ikuji; IEEE
        2015 28th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2015年
      • Beam profile measurement of volcano-structured double-gated Spindt-type filed emitter arrays
        Nagao Masayoshi; Gotoh Yasuhito; Neo Yoichiro; Mimura Hidenori; IEEE
        2015 28th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2015年
      • 電界放出電子源のエミッタ付近の電界計算手法の検討
        後藤康仁; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2014年10月21日
      • Computer Simulation of Electron Beam Trajectories in Double-Gated Spindt-Type FEAs
        Y. Gotoh; H. Tsuji; M. Nagao
        IDW '14: The 21st International Display Workshops, 2014年
      • Operational Characteristics of Vacuum Triode with Hafnium Nitride Field Emitter Arrays in Harsh Environments
        Yasuhito Gotoh; Wataru Ohue; Yoshiki Yasutomo; Hiroshi Tsuji
        2014 27TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE (IVNC), 2014年
      • Evaluation of Radiation Tolerance of Silicon Dioxide Layer for Field Emitter Arrays
        Gotoh Yasuhito; Tsui Hiroshi; Yoshizawa Shunichi; Nagao Masayoshi; Akiyoshi Masafumi; Takgai Ikuji
        2014 27th International Vacuum Nanoelectronics Conference (Ivnc), 2014年
      • 低速電子ビーム形成のための電界放出電子源引き出し電極系の設計
        後藤康仁; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2013年10月22日
      • Evaluation of Radiation Tolerance of Hafnium Nitride Field Emitter Arrays
        Y. Gotoh; Y. Yasutomo; H. Tsuji
        IDW '13: The 20th International Display Workshops, 2013年
      • Measurement of Work Function of Hafnium Nitride Films at Elevated Temperatures in Ultra High Vacuum
        S. Fujiwara; S. Hogyoku; H. Tsuji; Y. Gotoh
        IDW '13: The 20th International Display Workshops, 2013年
      • フィールドエミッタアレイを用いた電子デバイスにおける空間電荷効果
        後藤康仁; 安友佳樹; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2012年11月12日
      • Observation of Cathodoluminescence of Germanium-Implanted Quartz Glass Excited by Low-Energy Electrons Emitted from Silicon Field Emitter Array
        Hiroshi Tsuji; Akira Sakata; Go Miyagawa; Yoshiki Yasutomo; Yasuhito Gotoh
        IDW/AD '12: PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, PT 3, 2012年
      • Production of Extremely Low Energy Electron Beam with Silicon-Based Field Emitter Arrays and Its Application to Space Charge Neutralization of Low-Energy and High-Current Ion Beam
        Yasuhito Gotoh; Shuhei Taguchi; Keita Ikeda; Takayuki Kitagawa; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        2012 25TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE (IVNC), 2012年, 招待有り
      • Luminescence properties of Ge-implanted SiO 2 layer on Si substrate for blue-UV light source with low-voltage drive
        Nobutoshi Arai; Masatomi Harada; Hiroshi Kotaki; Akira Takahashi; Go Miyagawa; Shohei Kinoshita; Hiroshi Tsuji; Yasuhito Gotoh
        IMFEDK 2012 - 2012 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai, 2012年
      • Frequency mixing with a tetrode vacuum transistor
        Yoshiki Yasutomo; Wataru Ohue; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji
        IMFEDK 2012 - 2012 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai, 2012年
      • 真空トランジスタによる振幅変調波の検波
        後藤 康仁; 池田 啓太; 大上 航; 安友 佳樹; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2011年10月13日
        このMISCにアクセスする：
      • 四極構造の真空トランジスタを用いた周波数混合実験
        安友 佳樹; 大上 航; 後藤 康仁; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2011年10月13日
        このMISCにアクセスする：
      • Hafnium nitride thin film cold cathode for field emitter arrays
        Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji
        International Meeting for Information Display, 2011年, 招待有り
      • Comparison of Field Emission Properties between Hafnium Nitride and Niobium Nitride Field Emitter Arrays
        Yasuhito Gotoh; Keita Ikeda; Hiroshi Tsuji
        IDW'11: PROCEEDINGS OF THE 18TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, VOLS 1-3, 2011年
      • 窒化ハフニウムフィールドエミッタアレイを用いた真空トランジスタの周波数特性
        池田啓太; 大上 航; 後藤康仁; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2010年10月18日
      • 真空トランジスタのコレクタ形状とコレクタ特性
        後藤康仁; 池田啓太; 大上 航; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告, 2010年10月18日
      • 三フッ化メタンプラズマ処理したシリコン電界放出電子源の表面状態と電子放出特性
        後藤康仁; 遠藤恵介; 辻 博司; 石川順三; 酒井滋樹
        電子情報通信学会技術研究報告, 2010年10月18日
      • Observation of Field Emission Current Fluctuation with In Situ Analyzer of Field Emission Devices
        Yasuhito Gotoh; Michito Kawasaki; Hiroshi Tsuji
        IDW'10: PROCEEDINGS OF THE 17TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, VOLS 1-3, 2010年
      • Performance of Hafnium Nitride Field Emitter Array in Tough Circumstance
        Wataru Ohue; Keita Ikeda; Keisuke Endo; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji
        IDW'10: PROCEEDINGS OF THE 17TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, VOLS 1-3, 2010年
      • P1-6: Compensation of divergence of space charge dominated ion beams using electron injection and confinement in non-uniform magnetic fields
        Dan Nicolaescu; Shigeki Sakai; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        23rd International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2010, 2010年
      • 10.4: Differences in deceleration performance of electrons emitted from field emitter arrays with different electrode geometries
        Yasuhito Gotoh; Yoshiki Sakai; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        23rd International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2010, 2010年
      • 窒化ハフニウム電界放出電子源の動作特性
        後藤康仁; 池田啓太; 宮田雄高; 遠藤恵介; 辻 博司
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス (電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2009年10月08日
      • Measurement of work function of hafnium nitride films prepared by RF magnetron sputtering
        K. Endo; Y. Miyata; K. Ikeda; Y. Gotoh; H. Tsuji; J. Ishikawa
        Proceedings of the 10th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 2009年07月
      • Fabrication of silicon gate electrode of field emitter arrays by RF magnetron sputtering
        Y. Gotoh; A. Oowada; Y. Sakai; M. Takeuchi; M. Nagao; S. Sakai; H. Tsuji; T. Kimoto; J. Ishikawa
        Proceedings of the 10th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, 2009年07月
      • Analysis of field emission characteristics of field stabilized liquid cone
        Y. Gotoh
        IDW '09 - Proceedings of the 16th International Display Workshops, 2009年
      • Hafnium nitride field emitter array for field emission amplifier
        Keita Ikeda; Yuko Miyata; Keisuke Endo; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa
        Technical Digest - 2009 22nd International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2009, 2009年
      • Formation of low energy electron beam with silicon field emitter arrays for space charge compensation in low-energy ion-implantation system
        Shuhei Taguchi; Mitsuaki Takeuchi; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        Technical Digest - 2009 22nd International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2009, 2009年
      • Application of silicon field emitter arrays for space-charge compensation of low energy ion beam
        M. Takeuchi; S. Taguchi; Y. Gotoh; H. Tsuji; J. Ishikawa; S. Sakai
        Technical Digest - 2009 22nd International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2009, 2009年
      • Development of in situ analyzer of field emission devices
        Michito Kawasaki; Zhen He; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa
        Technical Digest - 2009 22nd International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2009, 2009年
      • シリコン微小電子源のイオンビーム空間電荷中和への応用
        竹内光明; 後藤康仁; 辻 博司; 酒井滋樹; 木本恒暢; 石川順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2008年08月04日
      • 電界電子放出特性その場解析アナログ回路の改良
        後藤康仁; 河崎道人; 辻 博司; 石川順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2008年08月04日
      • Improvement of in situ analyzer of field emission properties
        Y. Gotoh; M. Kawasaki; H. Tsuji; J. Ishikawa
        IDW \\'08 - Proceedings of the 15th International Display Workshops, 2008年
      • Cathode and Photo Luminescence of Silicon Dioxide Layer Implanted with Ge Negative Ions at Multi-Energy
        N. Arai; H. Tsuji; K. Kojima; K. Adachi; H. Kotaki; T. Ishibashi; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        PROCEEDINGS OF THE 17TH INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS/13TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SURFACE SCIENCE/INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOSCIENCE AND TECHNOLOGY, 2008年
      • Properties of insulating layer of gated FEAs with transition metal nitride cathode
        Y. Gotoh; Y. Miyata; N. Setojima; H. Tsuji; J. Ishikawa
        IDW '07: PROCEEDINGS OF THE 14TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, VOLS 1-3, 2007年
      • Extension of lifetime of silicon field emitter arrays in oxygen ambient by carbon negative ion implantation
        A. Oowada; M. Takeuchi; Y. Sakai; Y. Gotoh; M. Nagao; H. Tsuji; J. Ishikawa; S. Sakai; T. Kimoto
        2007 IEEE 20TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE, 2007年
      • Electron emission properties of silicon field emitter arrays in gaseous ambient for charge compensation device
        M. Takeuchi; T. Kojima; A. Oowada; Y. Gotoh; M. Nagao; H. Tsuji; J. IShikawa; S. Sakai; T. Kimoto
        2007 IEEE 20TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE, 2007年
      • Fabrication and field emission properties of gated field emitter arrays with hafnium nitride cathode
        Y. Gotoh; N. Setojima; Y. Miyata; T. Kanzawa; H. Tsuji; J. Ishikawa
        2007 IEEE 20TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE, 2007年
      • Modeling of linear CNT nanotriodes with improved field uniformity
        D. Nicolaescu; V. Filip; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        2007 IEEE 20TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE, 2007年
      • Nanocrystal Formation of Metals in Thermally Grown Thin Silicon Dioxide Layer by Ion Implantation and Thermal Diffusion of Implanted Atoms in Heat Treatment
        N. Arai; H. Tsuji; N. Gotoh; T. Minotani; T. Ishibashi; K. Adachi; H. Kotaki; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOSCIENCE AND TECHNOLOGY, 2007年, 査読有り
      • Germanium nanoparticles formed in silicon dioxide layer by multi-energy implantation and oxidation state of Ge atoms
        H. Tsuji; N. Arai; N. Gotoh; T. Minotani; K. Kojima; K. Adachi; H. Kotaki; T. Ishibashi; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOSCIENCE AND TECHNOLOGY, 2007年, 査読有り
      • 窒化ハフニウムを陰極とした電界放出電子源の作製
        後藤康仁; 瀬戸島範幸; 神澤太郎; 小島俊彦; 藤井亮一; 辻 博司; 石川順三
        電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術), 2006年08月04日
      • Fabrication of field emission arrays with hafnium nitride cathode
        Y. Gotoh; N. Setojima; T. Kanzawa; H. Tsuji; J. Ishikawa
        IDW '06: PROCEEDINGS OF THE 13TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS, VOLS 1-3, 2006年
      • Analytical modeling for the electron emission properties of carbon nanotube arrays
        D. Nicolaescu; V. Filip; G. H. Takaoka; Y. Gotoh; J. Ishikawa
        IVNC and IFES 2006 - Technical Digest - l9th International Vacuum Nanoelectronics Conference and 50th International Field Emission Symposium, 2006年
      • Work function of low index crystal facet of tungsten evaluated by Seppen-Katamuki analysis
        Y. Gotoh; K. Mukai; Y. Kawamura; H. Tsuji; J. Ishikawa
        IVNC and IFES 2006 - Technical Digest - l9th International Vacuum Nanoelectronics Conference and 50th International Field Emission Symposium, 2006年
      • Electron emission properties of plasma treated silicon field emission arrays in gaseous ambient
        Y. Gotoh; T. Kojima; A. Oowada; M. Nagao; H. Tsuji; J. Ishikawa; S. Sakai
        Proceedings - International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, ISDEIV, 2006年
      • Discharge characteristics of helium under inhomogeneous pressure distribution
        Y. Gotoh; C. Ichihara; A. Kobayashi; T. Hirano; H. Tsuji; J. Ishikawa
        Proceedings - International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, ISDEIV, 2006年
      • Estimate of structural modification of laser irradiated carbon nanotubes by Seppen-Katamuki analysis
        Y. Kawamura; Y. Gotoh; T. Niiya; H. Tsuji; J. Ishikawa; A. Hosono; S. Okuda
        IDW/AD '05: PROCEEDINGS OF THE 12TH INTERNATIONAL DISPLAY WORKSHOPS IN CONJUNCTION WITH ASIA DISPLAY 2005, VOLS 1 AND 2, 2005年
      • Emission characteristics of silicon field emitter arrays as space charge and wafer charging neutralizer in ion implanter
        T. Kojima; K. Nakamura; Y. Gotoh; M. Nagao; H. Tsuji; J. Ishikawa; T. Ikejiri; S. Sakai; S. Umisedo; N. Nagai
        Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2005: 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, 2005年
      • Seppen-Katamuki analysis of field emission properties of carbon nanotubes irradiated by different laser fluences
        Y. Gotoh; Y. Kawamura; T. Niiya; H. Tsuji; J. Ishikawa; A. Hosono; S. Okuda
        Technical Digest of the 18th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2005, 2005年
      • Development of key technologies for carbon nanotube FEDs in Japanese national project
        Soichiro Okuda; Akihiko Hosono; Tetsuya Shiroishi; Kunihiko Nishimura; Shuhei Nakata; Mikio Takai; Junzo Ishikawa; Yasuhito Gotoh; Sashiro Uemura; Junko Yotani; Hiroyuki Kurachi; Nobuaki Hayashi; Makoto Okai; Tsunehiko Sugawara; Takahiro Murakami; Yuichi Kuroki
        Technical Digest of the 18th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2005, 2005年
      • Silver nanoparticles formation in thermal oxide on silicon by negative-ion implantation
        Nobutoshi Arai; Hiroshi Tsuji; Kouichirou Adachi; Hiroshi Kotaki; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        IMFEDK 2004 - International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai, 2004年
      • Seppen-Katamuki analysis of electron emission from chemical vapor deposited multiwall carbon nanotubes with and without laser irradiation
        Y Gotoh; Y Kawamura; K Ishizu; H Tsuji; J Ishikawa; S Nakata; S Okuda
        TECHNICAL DIGEST OF THE 17TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE, 2004年
      • Electron emission properties of gated silicon field emitter arrays for charge neutralization device in ion implantation system
        Y Gotoh; K Nakamura; T Kojima; H Tsuji; J Ishikawa; T Ikejiri; S Umisedo; S Sakai; N Nagai
        TECHNICAL DIGEST OF THE 17TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE, 2004年
      • Negative-ion implantation into polymers and its application to nerve regeneration guide tube
        J. Ishikawa; H. Tsuji; H. Satoh; Y. Gotoh
        Transactions - 7th World Biomaterials Congress, 2004年
      • Protein adsorption on carbon-negative ion (C-)-implanted polystyrene as neuronal guidance.
        H Sato; H Tsuji; M Izukawa; H Sasaki; Y Utsumi; Y Gotoh; J Ishikawa
        ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, 2003年03月
        このMISCにアクセスする：
      • Local work function of transition metal nitrides and carbides measured by kelvin probe force microscopy
        Kenta Miya; Masahiro Sasaki; Shigehiko Yamamoto; Yasuhito Gotoh; Junzo Ishikawa
        Proceedings of the IEEE International Vacuum Microelectronics Conference, IVMC, 2003年
      • Energy spread measurement of electrons from field emitter array for ion beam neutralization
        J Ishikawa; Y Gotoh; K Nakamura; H Tsuji; K Matsuda; N Nagai; S Sakai; T Ikejiri; S Umisedo; N Hamamoto
        TECHNICAL DIGEST OF THE 16TH INTERNATIONAL VACUUM MICROELECTRONICS CONFERENCE, 2003年
      • Measurement of field emission characteristics from transition metal nitride and carbide thin films
        Y Gotoh; MY Liao; H Tsuji; J Ishikawa
        TECHNICAL DIGEST OF THE 16TH INTERNATIONAL VACUUM MICROELECTRONICS CONFERENCE, 2003年
      • Field electron emission from amorphous AlN and Cr doped AlN films
        MY Liao; Y Gotoh; H Tsuji; J Ishikawa
        TECHNICAL DIGEST OF THE 16TH INTERNATIONAL VACUUM MICROELECTRONICS CONFERENCE, 2003年
      • The Field Emitter Array for neutralization of positive ion charge in ion implantation system
        Ikejiri T; Sakai S; Umisedo S; Naito K; Nagai N; Nagao M; Kanemaru S; Ishikawa J; Gotoh Y; Tsuji H
        Technical Digest of the 16th International Vacuum Microelectronics Conference, 2003年
      • Characterization of enhanced field emission from HfC-coated Si emitter arrays through parameter extraction
        Nicolaescu D; Sato T; Nagao M; Filip V; Kanemaru S; Itoh J; Takai MM; Gotoh Y; Ishikawa J
        Technical Digest of the 16th International Vacuum Microelectronics Conference, 2003年
      • 銅及び銀負イオン二重注入石英ガラスにおける金属超微粒子による表面プラズモン共鳴光吸収特性の熱処理温度依存性
        辻 博司; 栗田賢一; 本野正徳; 菅原弘允; 後藤康仁; 岸本直樹; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 2001年11月19日
      • Negative- and positive-temperature dependences of electron emission properties of hydrogen- and oxygen-terminated diamond field emitters
        Y Gotoh; H Nakahara; T Kondo; H Tsuji; J Ishikawa
        IVMC 2000: PROCEEDINGS OF THE 14TH INTERNATIONAL VACUUM MICROELECTRONICES CONFERENCE, 2001年
      • 球形ソーダガラスビーズへの金属負イオン注入とプラズモン吸収による光学特性の変化
        辻 博司; 木戸 俊介; 後藤 康仁; 石川 順三
        真空, 2000年03月20日
      • 負イオン注入によるポリスチレン表面の神経細胞適合性の改質
        辻 博司; 佐々木 仁志; 佐藤 弘子; 後藤 康仁; 石川 順三
        真空, 2000年03月20日
      • ダイヤモンド薄膜からの電子放出特性とその解釈
        後藤康仁; 石川順三
        ニューダイヤモンド, 2000年
      • Negative-ion implanter and formation of metal nanoparticles in glass
        J Ishikawa; H Tsuji; S Kido; K Kurita; N Kishimoto; Y Gotoh
        2000 INTERNATIONAL CONFERENCE ON ION IMPLANTATION TECHNOLOGY, PROCEEDINGS, 2000年
      • Ion implantation technique using negative ions for artificial neuron network on polystyrene in cell culture
        H Tsuji; H Sasaki; H Sato; Y Gotoh; J Ishikawa
        2000 INTERNATIONAL CONFERENCE ON ION IMPLANTATION TECHNOLOGY, PROCEEDINGS, 2000年
      • Improvement of Neuron Attachment Properties of Polystyrene by Negative Ion Implantation and Induction of Neural Protrusion Outgrowth.
        辻 博司; 佐藤弘子; 池村慎一; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1998年11月
      • 液体金属イオン源における液体コーン先端の電界強度の放出電流依存性
        後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1998年11月
      • 振動球形粉体への銅負イオン注入における注入原子の深さ方向分布と粒子間の均一性の評価
        木戸俊介; 三村昌和; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1998年11月
      • 銀負イオン注入によるポリスチレン上の細胞接着特性のパターニングと細胞配向性
        辻 博司; 佐藤弘子; 池村慎一; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1998年11月
      • Emission characteristics of Spindt-type field emitter arrays in oxygen ambient
        Y. Gotoh; K. Utsumi; M. Nagao; H. Tsuji; J. Ishikawa; T. Nakatani; T. Sakashita; K. Betsui
        Proceedings of the IEEE International Vacuum Microelectronics Conference, IVMC, 1998年
      • Influence of the composition of NbNx thin film field emitter array on the emission characteristics
        M. Nagao; T. Ura; Y. Gotoh; H. Tsuji; J. Ishikawa
        Proceedings of the IEEE International Vacuum Microelectronics Conference, IVMC, 1998年
      • ボロンドープダイヤモンド薄膜からの電界電子放出特性
        近藤利行; 長尾昌善; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三; 宮田浩一; 小橋宏司
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1997年11月
      • フッ素負イオンビームによるSi及びSiO2エッチング
        渋谷和真; 富田哲生; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1997年11月
      • 振動状態における粉体の飛散開始帯電電圧と正イオン及び負イオン注入実験
        辻 博司; 三村昌和; 池村慎一; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1997年11月
      • 銀負イオン注入によるポリスチレン表面の濡れ性と細胞接着特性の制御
        池村慎一; 辻 博司; 佐藤弘子; 池田茂雄; 池本伸郎; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1997年11月
      • Current Status of Negative Ion Application Techniques-for the 100th anniversary of discovery of negative ions. Negative-Ion Production by Sputtering and RF Plasma-Sputter-Type Heavy Negative-Ion Source.
        辻 博司; 石川順三; 後藤康仁
        Ionics, 1997年07月
      • Current Status of Negative Ion Application Techniques-for the 100th anniversary of discovery of negative ions. CN Molecular-Negative-Ion Production and Film Preparation by CN Negative-Ion Beam Deposition.
        辻 博司; 富田哲生; 吉原孝明; 後藤康仁; 石川順三
        Ionics, 1997年07月
      • Current Status of Negative Ion Application Techniques-for the 100th anniversary of discovery of negative ions. Charging Free Negative-ion Implantation Technique and Negative-ion Implanter.
        石川順三; 辻 博司; 後藤康仁; 酒井滋樹; 丹上正安; 松田耕自
        Ionics, 1997年07月
      • Emission stability analysis of cone-shaped metal-insulator-semiconductor cathode by Monte Carlo simulation
        Ishikawa J; Gotoh Y; Sadakane S; Inoue K; Nagao M; Tsuji H
        Ivmc'97 - 1997 10th International Vacuum Microelectronics Conference, Technical Digest, 1997年
      • Emission characteristics of ZrN thin film field emitter array fabricated with ion beam assisted deposition technique
        Nagao M; Fujimori Y; Gotoh Y; Tsuji H; Ishikawa J; ELECTR DISPLAY; IND RES ASSOC KOREA
        Ivmc'97 - 1997 10th International Vacuum Microelectronics Conference, Technical Digest, 1997年
      • 分子イオン注入における構成原子の注入深さ分布の一致度の評価
        三村昌和; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1996年11月
      • スパッタ型負重イオン源における初速エネルギー分布の測定
        中村修一; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1996年11月
      • Ｍｏゲートを有するＳｉフィールドエミッタの作製
        内海一成; 定金伸治; 長尾昌善; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1996年11月
      • Miniaturized liquid gallium field emission electron sources for vacuum microelectronics
        J Ishikawa; Y Gotoh; N Fujita; S Nishikawa; H Tsuji
        IVMC '96 - 9TH INTERNATIONAL VACUUM MICROELECTRONICS CONFERENCE, TECHNICAL DIGEST, 1996年
      • Measurement of Secondary Electrons Emitted in Negative-Ion Implantation.
        池田茂雄; 豊田啓孝; 辻 博司; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1995年11月
      • コーン形状を持つＭＩＳ型微小電子源の開発
        定金伸治; 井上和則; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1995年11月
      • ＲＦプラズマスパッタ型負重イオン源からの酸素及びフッ素負イオン引き出し特性
        富田哲生; 辻 博司; 豊田啓孝; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1995年11月
      • 負イオンビームによる粉末材料へのスキャッタレス・イオン注入
        辻 博司; 伊藤 一; 豊田啓孝; 南雲正二; 後藤康仁; 石川順三
        電気化学協会学術大会シンポジウム論文集, 1995年05月
      • Negative-Ion Beam Material Processing Technology. Negative-Ion Implantation Technique.
        石川順三; 辻 博司; 後藤康仁; 酒井滋樹
        Ionics, 1995年04月
      • ２００ｋＶ中電流負イオン注入装置の開発
        酒井滋樹; 辻 博司; 豊田啓孝; 後藤康仁; 石川順三; 丹上正安; 松田耕自
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1994年11月
      • 低エネルギーイオン引き出しを目的とした小型マイクロ波イオン源の開発
        藤森敬和; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1994年11月
      • 粉末へのイオン注入による粒子飛散の基礎現象
        辻 博司; 伊藤一; 豊田啓孝; 南雲正二; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1994年11月
      • 集束イオンビーム加工による横型極微フィールドエミッタの作製法と形状
        藤田直史; 大竹利也; 井上和則; 後藤康仁; 辻 博司; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1994年11月
      • 負イオン注入における弧立電極の帯電電位モデルとその実験的検証
        豊田啓孝; 辻博司; 南雲正二; 一原主税; 酒井滋樹; 後藤康仁; 石川順三
        粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 1994年11月
      • FABRICATION OF LATERAL-TYPE THIN-FILM EDGE FIELD EMITTERS BY FOCUSED ION-BEAM TECHNIQUE
        Y GOTOH; T OHTAKE; N FUJITA; K INOUE; H TSUJI; J ISHIKAWA
        IVMC 94 - 7TH INTERNATIONAL VACUUM MICROELECTRONICS CONFERENCE, 1994年
      • Special Number/Negative-Ion Beam Technology and Its Application to Materials Science. The Charging Mechanism of Insulated Electrode in Negative-Ion Implantation.
        酒井滋樹; 後藤康仁; 辻 博司; 豊田啓孝; 石川順三; 丹上正安; 松田耕自
        Ionics, 1994年01月
      • Special Number/Negative-Ion Beam Technology and Its Application to Materials Science. Surface Potential Measurement of Negative-Ion-Implanted Insulators by Analysing Secondary Electron Energy Distribution.
        豊田啓孝; 辻 博司; 南雲正二; 酒井滋樹; 後藤康仁; 石川順三
        Ionics, 1994年01月
      • Special Number/Negative-Ion Beam Technology and Its Application to Materials Science. Surface Potential Measurement of Insulated Electrode by Negative-Ion Implantation.
        辻 博司; 酒井滋樹; 豊田啓孝; 岡山芳央; 後藤康仁; 石川順三
        Ionics, 1994年01月
      • Special Number. Negative-Ion Beam Technology and Its Application to Materials Science. Measurement of Heavy Negative Ion Production Efficiencies in Secondary Negative Ion Emission by Sputtering.
        辻博司; 石川順三; 後藤康仁
        Ionics, 1994年01月
      • Special Number. Negative-Ion Beam Technology and Its Application to Materials Science. Development of Intense Sputter-Type Heavy Negative Ion Sources in DC Operation.
        辻 博司; 岡山芳央; 石川順三; 後藤康仁
        Ionics, 1994年01月
      • Structures and properties of chromium thin films prepared by anisotropic emission effect sputter deposition
        Yasuhito Gotoh; Yasunori Taga
        Proceedings of the 12th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, 1989年
      • Impregnated electrode type liquid metal ion source (VII) - High current ion beam transporting system
        Toshio Kashiwagi; Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Toshinori Takagi
        Proceedings of the 10th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, 1986年
      • IMPREGNATED-ELECTRODE-TYPE LIQUID METAL ION SOURCE (VI) - CHARACTERISTICS OF Au-Sb ALLOY ION SOURCE.
        Yasuhito Gotoh; Toshio Kashiwagi; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Toshinori Takagi
        Proceedings of the 10th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, 1986年

      講演・口頭発表等

      • 含浸電極型液体金属イオン源
        石川順三; 後藤康仁; 陳 国明; 高木俊宜
        日本真空協会関西支部研究会, 1985年
      • Radiation tolerant vacuum image sensor for robots working on removal of fuel debris
        Yasuhito Gotoh; Teryuki Morito; Masayoshi Nagao; Tamotsu Okamoto; Tomoya Igari; Takahiro Fukui; Tomoaki Masuzawa; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura; Nobuhiro Sato; Masafumi Akiyoshi; Ikuji Takagi
        International Topical Workshop on Fukushima Daiichi Decommissioning Research, 2019年05月
      • Field emitter array with electrostatic focusing electrode for radiation tolerant compact image sensor
        Y. Gotoh; M. Nagao; T. Masuzawa; Y. Neo; H. Mimura; T. Okamoto; M. Akiyoshi; N. Sato; I. Takagi
        11th International Vacuum Electron Sources Conference, 2016年10月19日, 招待有り
      • フィールドエミッタアレイの開発と電子素子への応用
        後藤 康仁
        2015年 電子情報通信学会総合大会, 2015年03月10日, 招待有り
      • 大電流・低エネルギーイオンビームの発生・輸送とその応用技術
        後藤 康仁
        第55回真空に関する連合講演会, 2014年11月20日, 招待有り
      • Production of Extremely Low Energy Electron Beam with Silicon-Based Field Emitter Arrays and Its Application to Space Charge Neutralization of Low-Energy and High-Current Ion Beam
        Yasuhito Gotoh; Shuhei Taguchi; Keita Ikeda; Takayuki Kitagawa; Hiroshi Tsuji; Junzo Ishikawa; Shigeki Sakai
        2012 25TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE (IVNC), 2012年07月12日, IEEE COMPUTER SOC, 招待有り
      • Hafnium nitride thin film cold cathode for field emitter arrays
        Yasuhito Gotoh; Hiroshi Tsuji
        International Meeting for Information Display, 2011年, 招待有り

      書籍等出版物

      • 最新実用真空技術総覧 = New practical vacuum technology
        最新実用真空技術総覧編集委員会, 共編者(共編著者), 第1部 真空工学の基礎 第6編 真空装置の取り扱い 第1章 真空装置の管理 pp.343-345; 第2部 真空応用システム 第3編 薄膜 第4章 イオンビームを用いた薄膜形成技術 第1節 イオンを用いた薄膜形成技術の基礎 pp.578-581
        エヌ・ティー・エス, 2019年02月
        京大の蔵書を調べる：
      • 図解 薄膜技術(共著)
        後藤 康仁, 分担執筆
        培風館, 1999年, 査読無し

      産業財産権

      • 特開2017-203699, 特願2016-095617, 撮像板及びカメラ
        後藤 康仁
      • 特許第5634992号, 特願2011-518362, イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法
        ニコラエスク ダン; 酒井 滋樹; 石川 順三; 後藤 康仁
      • 特許第5495236号, 特開2012-124030, 特願2010-273926, イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法
        ニコラエスク; ダン; アドリアン; 後藤 康仁; 酒井 滋樹
      • 特開2013-211231, 特願2012-082301, 静電レンズシステム
        ダン ニコラエスク; 後藤 康仁
      • 特開2012-124030, 特願2010-273926, イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法
        ニコラエスク; ダン; アドリアン; 後藤 康仁; 酒井 滋樹
      • WO2010-143479, JP2010057405, イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法
        ニコラエスク ダン; 酒井 滋樹; 石川 順三; 後藤 康仁
      • 特許4560785, イオン源，開孔形成方法
        後藤康仁; 石川順三; 一原主税; 小林明; 平野貴之
      • 特許4514157, 特開2007-035370, 特願2005-214662, イオンビーム照射装置および半導体デバイスの製造方法
        石川順三; ダン・ニコラエスク; 後藤康仁; 酒井滋樹
      • 特開2009-016233, 特願2007-178004, 電界放出型電子源の製造方法
        石川 順三; 辻 博司; 後藤 康仁; 竹内 光明; 酒井 滋樹
      • 特開2006-037158, 特願2004-217885, イオンビームを用いた炭素系多層薄膜の製造方法
        後藤 康仁; 辻 博司; 石川 順三
      • 特開2004-281129, 特願2003-068525, イオン源
        一原 主税; 小林 明; 井上 憲一; 後藤 康仁; 國仲 剛; 辻 博司; 石川 順三
      • 特許第3460242号, 特開平6-267490, 特願平5-052495, 負イオン注入装置
        石川 順三; 辻 博司; 後藤 康仁; 酒井 滋樹
      • 特許第3460241号, 特開平6-208843, 特願平5-003365, 負イオン注入装置
        石川 順三; 後藤 康仁; 酒井 滋樹
      • 特開2003-031109, 特願2001-215809, ダイヤモンド電子源
        小橋 宏司; 林 和志; 後藤 康仁; 中原 宏勲
      • 特許第2998470号, 特開平6-196122, 特願平4-344483, 負イオン注入装置
        石川 順三; 後藤 康仁; 酒井 滋樹
      • 特許第2732129号, 特開平2-258250, 特願平1-199804, 超疎水性複合材料とその製造方法、および光学機能材料
        大脇 健史; 多賀 康訓; 石山 謙吾; 後藤 康仁

      受賞

      • 1992年
        平成4年度電気関係学会関西支部連合大会奨励賞
      • 2000年
        第13回国際真空マイクロエレクトロニクス会議最優秀口頭発表賞第二位
      • 2017年
        一般社団法人日本真空学会, 日本真空学会第6回会誌賞
      • 2017年
        一般社団法人日本真空学会, 日本真空学会第4回フェロー

      外部資金：科学研究費補助金

      • 耐熱・耐放射線真空電子デバイスの動作電圧低減による安定性確保と長寿命化
        基盤研究(B)
        小区分31010:原子力工学関連
        京都大学
        後藤 康仁
        自 2021年04月01日, 至 2024年03月31日, 交付
        フィールドエミッタアレイ;耐熱・耐放射線;電子デバイス;窒素組成;仕事関数;窒化ハフニウム;Volcano構造フィールドエミッタアレイ;仕事関数制御
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21H01860/
      • 針状試料を用いる必要のない新しい3次元アトムプローブの原理検証
        挑戦的萌芽研究
        京都大学
        後藤 康仁
        自 2016年04月01日, 至 2018年03月31日, 完了
        アトムプローブ;静電拡大投影;短焦点距離;平坦;倍率;拡大投影;電極間隔;空間分解能;単孔静電レンズ;絶縁体;精密制御装置;ピエゾ素子;三次元アトムプローブ;単孔レンズ;微小空隙;微細加工
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16K13685/
      • 300℃・10MGyの耐熱耐放射線性能を持つ電子・撮像デバイス用微小電子源の開発
        基盤研究(B)
        京都大学
        後藤 康仁
        自 2016年04月01日, 至 2019年03月31日, 完了
        フィールドエミッタアレイ;絶縁膜;絶縁耐圧;制動放射X線;ガンマ線;耐放射線性;酸化膜;窒化膜;フィールドエミッタ;電流電圧特性;電子源;二酸化シリコン;窒化シリコン;X線;電子放出;微小電子源;撮像デバイス;電子デバイス;耐熱性;エックス線;可搬型小型真空装置
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16H04631/
      • 量子ドットサイズ耐過酷環境性ナノ構造ハイパワーデバイスの研究
        基盤研究(B)
        静岡大学
        中本 正幸
        自 2015年04月01日, 至 2018年03月31日, 完了
        電子デバイス・機器;先端機能デバイス;マイクロ・ナノデバイス;パワーデバイス;電力変換
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15H03991/
      • 精密位置制御による量子ドットサイズナノ構造低仕事関数材料グリーンデバイスの研究
        基盤研究(B)
        静岡大学
        中本 正幸
        自 2011年04月01日, 至 2014年03月31日, 完了
        電子デバイス・機器;先端機能デバイス;マイクロ・ナノデバイス;微小電子源;電力変換
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23360151/
      • 電界放出素子のその場特性評価装置の開発と素子特性ゆらぎの要因解析
        基盤研究(C)
        京都大学
        後藤 康仁
        自 2007年04月01日, 至 2009年03月31日, 完了
        電界放出;その場解析;特性揺らぎ;電界放射顕微鏡像;切片傾きチャート;ファウラー-ノルドハイムプロット;電流変動;同時取り込み;FEM像;SKチャート;FNプロット;その場特性解析
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19560024/
      • カーボンナノチューブの超精密位置・成長制御によるナノ構造デバイスの研究
        基盤研究(B)
        静岡大学
        中本 正幸
        自 2007年04月01日, 至 2010年03月31日, 完了
        カーボンナノチューブ;NEMS;微小電子源;真空ナノエレクトロニクス;ディスプレイ;FED;電界放出電子源;真空ナノパワースイッチングデバイス;CNT
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19360160/
      • 負イオン注入パターン化表面と神経細胞による神経回路との双方向情報伝達に関する研究
        基盤研究(B)
        京都大学
        辻 博司
        自 2005年04月01日, 至 2008年03月31日, 完了
        負イオン注入;表面改質;生体適合性;神経細胞;配列接着;幹細胞;間葉系幹細胞;神経回路;パターン化細胞接着制御;脳神経細胞;体性幹細胞;間葉幹細胞;分化誘導;人為的神経回路網;親水性;神経細胞接着;神経突起伸展;人為的神経回路;双方向情報伝達;神経刺激;バイオインターフェイス, Negative ion implantation;Surface modification;Biocompatibility;Nerve cell;Align adhesion of cell;Stem cell;Mesenchymal stem cell;Neuron network
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-17360021/
      • パターン化負イオン注入処理によるバイオインターフェイスの形成
        基盤研究(B)
        京都大学
        辻 博司
        自 2002年04月01日, 至 2005年03月31日, 完了
        負イオン注入;接触角;神経細胞接着特性;人為的神経回路;バイオインターフェイス;神経突起伸展特性;外部電気刺激;分化誘導;神経細胞接着性;人為的神経回路網;神経再生;再生医療, Negative ion implantation;Contact angle measurement;Nerve cell attachment;Artificial nerve network;Bio-interface;Neurite extension property;External electric impulse;Induction of generation
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-14350020/
      • ミクロン寸法ナノイオン源開発に関する研究
        萌芽研究
        京都大学
        石川 順三
        自 2001年04月01日, 至 2003年03月31日, 完了
        ナノイオン源;ミクロン領域プラズマ;パッシェンの法則;プラズマ生成;ガス放電;フィールドエミッター;フォトリソグラフィ;シリコンエミッター
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-13875019/
      • 金サマリウム合金の薄膜物性と電子放出特性に関する研究
        奨励研究(A)
        京都大学
        後藤 康仁
        自 2000年04月01日, 至 2002年03月31日, 完了
        金;サマリウム;薄膜;マグネトロンスパッタ法;組成;仕事関数;電子放出特性;雑音電力;合金;真空蒸着法;ラザフォード後方散乱法;光電子分光法
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-12750027/
      • 高安定真空マイクロ電子源の実現を目指した窒化物・炭化物陰極の開発
        特定領域研究
        理工系
        京都大学
        石川 順三
        自 2000年04月01日, 至 2004年03月31日, 完了
        遷移金属窒化物;遷移金属炭化物;イオンビームアシスト蒸着法;マグネトロンスパッタ法;仕事関数;配向性;電子放出特性;安定性;電界電子放出;窒化にオブ;窒化ハフニウム;核共鳴散乱法;遷移金属;窒化物;炭化物;マグネトロンスパッタリング;イオンビーム援用蒸着;配向制御;組成;X線回析;窒化タンタル薄膜;炭素イオンビーム, Transition metal nitride;Transition metal carbide;Ion beam assisted deposition;Magnetron sputtering;Work function;Orientation;Electron emission property;Stability
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-12135204/
      • 微粒子表面への量子点列の形成と非線形光学特性に関する研究
        萌芽的研究
        京都大学
        辻 博司
        自 1999年04月01日, 至 2001年03月31日, 完了
        負イオン注入;量子ドット;シリカガラス;超微粒子;プラズモン共鳴吸収;二酸化チタン;光触媒;メチレンブルーの脱色;ガラス;非線形光学特性;3次の非線形光感受率;縮退四光波混合法
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-11875013/
      • 高分子医用材料イオンビーム処理技術の開発
        基盤研究(B)
        京都大学
        石川 順三
        自 1999年04月01日, 至 2001年03月31日, 完了
        イオンビーム処理;イオン注入;ポリスチレン;ポリ乳酸;ポリジメチルシロキサン;神経細胞;選択的細胞接着;選択的神経突起伸展;負イオン注入;シリコーン;吸収性高分子;細胞接着特性;ガイドチューブ;正イオン注入;生体適合性;接触角;官能基;親水性, Ion Beam Processing;Ion Implantation;Selective Cell Attachment;Neuron;Polystyrene;Polydimethylsiloxane;Poly-lactic-acid;Artificial Neuron Network
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-11694148/
      • ゲート電極一体型遷移金属窒化物極微フィールドエミッタアレイの試作
        基盤研究(B)
        京都大学
        後藤 康仁
        自 1999年04月01日, 至 2001年03月31日, 完了
        窒化ニオブ薄膜;極微フィールドエミッタアレイ;ゲート電極;イオンビーム援用蒸着;転写モールド法;エッチバック法;電子放出特性;エミッションパターン;高真空;イオンビームアシスト蒸着;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド;水酸化カリウム, niobium nitride thin films;field emitter array;gate electrode;ion beam assisted deposition;transfer mold technique;etching back method;electron emission property;emission pattern
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-11555006/
      • 窒化ニオブ薄膜を用いた極微フィールドエミッタアレイの作製とその電界放射特性の評価
        奨励研究(A)
        京都大学
        後藤 康仁
        自 1997年04月01日, 至 1999年03月31日, 完了
        窒化ニオブ薄膜;極微フィールドエミッタアレイ;電界放射;イオンビーム援用蒸着;組成;仕事関数;安定性;イオン・金属粒子到達比;基板温度;スパッタ率
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-09750016/
      • 遷移金属窒化物フィールドエミッタアレイの作製と電界放射特性の評価
        奨励研究(A)
        京都大学
        後藤 康仁
        自 1996年04月01日, 至 1997年03月31日, 完了
        遷移金属窒化物;極微電解放射電子源;仕事関数;イオンビームアシスト蒸着法;組成;ガス雰囲気;雑音電力;S-Kチャート
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08750036/
      • 絶縁物への負イオン注入における無帯電表面電位発現機構の解明
        基盤研究(C)
        京都大学
        辻 博司
        自 1996年04月01日, 至 1997年03月31日, 完了
        負イオン注入;絶縁物;表面電位;二次電子放出比;二次電子エネルギー分布;電気二重層;無帯電;表面障壁
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08650031/
      • 負イオンビームによる粉体微粒子への無帯電・無飛散イオン注入法の開発
        基盤研究(A)
        京都大学
        石川 順三
        自 1996年04月01日, 至 1998年03月31日, 完了
        負イオン注入;粉体;微粒子;無帯電;無飛散;攪拌;均一注入処理;球体に対する注入分布;粒子飛散;チャージアップ;表面解質;触媒, Negative-ion implantation;Powders;Micro particles;Charge-up free;Non scattering;Agitation of powders;Uniform implantation;Depth profile for spheres
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08555172/
      • 負イオンビーム材料プロセス技術
        国際学術研究
        京都大学
        石川 順三
        自 1996年04月01日, 至 1998年03月31日, 完了
        負イオンビーム;材料プロセス技術;負イオンビーム蒸着;準安定物質;負イオン注入;無帯電イオン注入;無飛散粉体微粒子負イオン注入;生体適合性制御;負イオン;大電流負イオン源;空間電荷;発散角;材料プロセス;低帯電;新材料, Negative-ion beam;Material processing;Negative-ion beam deposition;Metastable material;Negative-ion implantation;Charging free ion implantation;Non-scattering implantation into powders;Depth profile for spheres
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08044140/
      • 負イオンビーム注入による生体高分子の無損傷結晶性・生体適合性制御
        一般研究(B)
        京都大学
        辻 博司
        自 1994年04月01日, 至 1996年03月31日, 完了
        負イオン源;負イオン注入;高分子材料;チャージアップ;表面電位;親疎水性;生体適合性;粉末;負イオン;負イオンビーム注入;医用高分子;絶縁物;結晶性子;物性制御, Negative-ion source;Negative-ion implantation;Polymers;Insulator;Charge-up free;Contact angle;Biocompatibility;Powders
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06452112/
      • 大電流金属イオンセルフスパッタを用いた超高純度・低抵抗金属薄膜形成技術の開発
        奨励研究(A)
        京都大学
        後藤 康仁
        自 1993年04月01日, 至 1994年03月31日, 完了
        銅イオンビーム;セルフスパッタ;銅薄膜;LSI配線技術;高純度;低抵抗;運動エネルギー
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05750026/
      • 負イオンビームによるチャージアップ・フリー・イオン注入技術の開発
        試験研究(B)
        京都大学
        石川 順三
        自 1993年04月01日, 至 1995年03月31日, 完了
        負イオン注入;負イオンビーム輸送;チャージアップ;二次電子エネルギー分布;二次電子放出比;帯電緩和;絶縁物;ゲート酸化膜;負イオン;イオン注入;無帯電;帯電電位;負イオン源;二次負イオン生成, Negative-Ion Implantation;Charge-up;Reduction of Charging;Secondary Electron Emission Yield;Electron Energy Distribution;Negative-Ion Source;Negative-Ion Beam Transport;Gate Oxide Layr
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05555008/
      • 物性制御を目指した負イオンビーム技術の確立
        一般研究(A)
        京都大学
        石川 順三
        自 1993年04月01日, 至 1996年03月31日, 完了
        負イオン源;負イオン注入;帯電;絶縁物;無帯電;粒子飛散;電気二重層;物性制御;負イオンビーム蒸着;イオンビーム減速;チャージアップ;帯電緩和;低エネルギー;負イオン;イオンビーム輸送;空間電荷中和;二次電子;二次負イオン生成, Nagative-ion source;Negative-ion implantation;Charged up;Insulator;Charge-up free;Particle-scattering;Electric double layr;Material modification
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05402027/
      • 大面積・高速表面処理のための大電流液体金属イオン源の開発
        試験研究(B)
        京都大学
        石川 順三
        自 1991年04月01日, 至 1993年03月31日, 完了
        大電流イオンビーム;液体金属イオン源;含浸電極;多点放出;表面処理;ビームプロファイル;シートビーム;ドロップレット;誘導加熱;集束レンズ;大電流イオンビ-ム;ビ-ムプロファイル;シ-トビ-ム, high current ion beam;liquid metal ion source;impregnated-electrode;multiple-point-emission;surface modification;beam profile;sheet shaped beam;droplet
        https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-03555002/
      list
        Last Updated :2025/05/02

        教育

        担当科目

        • 自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
          電気電子工学実習
          6202, 後期, 工学部, 2
        • 自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
          真空電子工学
          6117, 前期, 工学部, 2
        • 自 2024年04月01日, 至 2025年03月31日
          電子装置特論
          C801, 後期, 工学研究科, 2
        • 自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
          電気電子工学実習
          6202, 後期, 工学部, 2
        • 自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
          真空電子工学
          6117, 前期, 工学部, 2
        • 自 2023年04月01日, 至 2024年03月31日
          電子装置特論
          C801, 後期, 工学研究科, 2
        • 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
          電子装置特論
          C801, 後期, 工学研究科, 2
        • 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
          真空電子工学
          6117, 前期, 工学部, 2
        • 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
          電気電子工学実習
          6202, 後期, 工学部, 2
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          真空電子工学２
          前期, 工学部
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 工学部
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 全学共通科目
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          電気電子工学実習Ａ
          前期, 工学部
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          電気電子工学実習Ｂ
          後期, 工学部
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          電気電子工学実験Ａ
          前期, 工学部
        • 自 2011年04月, 至 2012年03月
          電気電子工学実験Ｂ
          後期, 工学部
        • 自 2012年04月, 至 2013年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2012年04月, 至 2013年03月
          真空電子工学２
          前期, 工学部
        • 自 2012年04月, 至 2013年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2012年04月, 至 2013年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 全学共通科目
        • 自 2012年04月, 至 2013年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 工学部
        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          真空電子工学２
          前期, 工学部
        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 工学部
        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2013年04月, 至 2014年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 全学共通科目
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          真空電子工学２
          前期, 工学部
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 工学部
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2014年04月, 至 2015年03月
          電気回路と微分方程式
          前期, 全学共通科目
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          真空電子工学２
          前期, 工学部
        • 自 2015年04月, 至 2016年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2016年04月, 至 2017年03月
          先端科学通論
          後期, 総合生存学館
        • 自 2016年04月, 至 2017年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2016年04月, 至 2017年03月
          電子物性工学
          前期, 工学部
        • 自 2016年04月, 至 2017年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          先端科学通論
          後期, 総合生存学館
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          電子物性工学
          前期, 工学部
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2017年04月, 至 2018年03月
          電気電子工学実習
          後期, 工学部
        • 自 2018年04月, 至 2019年03月
          真空電子工学１
          前期, 工学部
        • 自 2018年04月, 至 2019年03月
          電子物性工学
          前期, 工学部
        • 自 2018年04月, 至 2019年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2018年04月, 至 2019年03月
          電気電子工学実習
          後期, 工学部
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          真空電子工学
          前期, 工学部
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          電子物性工学
          前期, 工学部
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2019年04月, 至 2020年03月
          電気電子工学実習
          後期, 工学部
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          真空電子工学
          前期, 工学部
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2020年04月, 至 2021年03月
          電気電子工学実習
          後期, 工学部
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          真空電子工学
          前期, 工学部
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          電子装置特論
          後期, 工学研究科
        • 自 2021年04月, 至 2022年03月
          電気電子工学実習
          後期, 工学部
        list
          Last Updated :2025/05/02

          大学運営

          部局運営(役職等)

          • 自 2022年04月01日, 至 2023年03月31日
            工学研究科・工学部図書委員会　委員
          list
            Last Updated :2025/05/02

            学術・社会貢献

            委員歴

            • 自 2023年, 至 2023年
              プログラム委員長, 第14回真空電子源国際会議
            • 自 2023年, 至 2024年
              実行委員会委員, 現地実行委員会委員, 第17回スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム
            • 自 2022年, 至 2023年
              教育・育成委員会委員, 公益社団法人日本表面真空学会
            • 自 2021年, 至 2023年
              会長, 次世代真空エレクトロニクス研究会
            • 自 2022年, 至 2023年
              実行委員会 委員, 第26回イオンビーム分析に関する国際会議
            • 自 2018年, 至 現在
              国際運営委員会 委員, 国際真空ナノエレクトロニクス会議
            • 自 2018年, 至 2023年
              スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 部会長, 公益社団法人日本表面真空学会
            • 自 2018年, 至 現在
              フェロー, 公益社団法人日本表面真空学会
            • 自 2007年, 至 現在
              評議員, 財団法人イオン工学振興財団/一般財団法人イオン工学振興財団
            • 自 2020年, 至 2021年
              学術講演会委員会委員, 公益社団法人日本表面真空学会
            • 自 2019年, 至 2019年
              関西支部 幹事, 公益社団法人日本表面真空学会
            • 自 2019年, 至 2019年
              運営委員会 委員, 第23回イオン・表面非弾性衝突国際会議
            • 自 2018年, 至 2019年
              真空技術調査部会 副部会長、研究例会企画専門部会 部会長, 公益社団法人日本表面真空学会
            • 自 2016年, 至 2019年
              実行委員会委員, スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム (ISSP2017, ISSP2019)
            • 自 2004年, 至 2019年
              真空ナノエレクトロニクス第158委員会 庶務幹事, 独立行政法人日本学術振興会
            • 自 2018年, 至 2018年
              プログラム委員, 2018年日本表面真空学会学術講演会委員会
            • 自 2018年, 至 2018年
              実行委員会 委員長, 第31回国際真空ナノエレクトロニクス会議
            • 自 2017年, 至 2017年
              日本真空学会第58回真空に関する連合講演会実行委員会 副委員長, 2017年真空・表面科学合同講演会
            • 自 2017年, 至 2017年
              講演・研究会企画委員会 委員長, 一般社団法人日本真空学会
            • 自 2017年, 至 2017年
              フェロー, 一般社団法人日本真空学会
            • 自 2014年, 至 2017年
              関西支部 幹事, 一般社団法人日本真空学会
            • 自 2014年, 至 2017年
              スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 副部会長, 一般社団法人日本真空学会
            • 自 2008年, 至 2017年
              運営委員会 委員, 真空技術基礎講習会
            • 自 2008年, 至 2017年
              理事, 一般社団法人日本真空協会/一般社団法人日本真空学会
            • 自 2010年, 至 2015年
              実行委員会委員、現地実行委員長, スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム (ISSP2011, ISSP2013, ISSP2015)
            • 自 2008年, 至 2015年
              FEDワークショップ プログラム委員, 国際ディスプレイワークショップ
            • 自 2014年, 至 2014年
              第55回真空に関する連合講演会 ポスター会場委員, 一般社団法人日本真空学会
            • 自 2012年, 至 2014年
              プログラム委員会 副委員長, 国際ィスプレイワークショップ (IDW/AD '12, IDW '13, IDW '14)
            • 自 2009年, 至 2014年
              プログラム委員会 委員, 国際ディスプレイワークショップ (IDW '09 - '14)
            • 自 2013年, 至 2013年
              教育委員会 委員, 一般社団法人日本真空学会
            • 自 2011年, 至 2013年
              運営委員会 委員長, 真空技術基礎講習会
            • 自 2010年, 至 2013年
              スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 幹事, 一般社団法人日本真空協会
            • 自 2012年, 至 2012年
              実行委員会 委員, 第11回アジア太平洋プラズマ科学技術会議および第25回材料のためのプラズマ科学会議
            • 自 2008年, 至 2010年
              運営委員会 副委員長, 真空技術基礎講習会
            • 自 2009年, 至 2009年
              プログラム委員会 委員長/特集号編集委員(Journal of Vacuum Science and Technology B), 第22回国際真空ナノエレクトロニクス会議
            • 自 2008年, 至 2009年
              編集委員, 社団法人応用物理学会
            • 自 2006年, 至 2009年
              実行委員会員、編集委員長、特集号編集委員 (Vacuum), スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム (ISSP2007, ISSP2009)
            • 自 2007年, 至 2007年
              実行委員会 委員, 第20回国際マイクロプロセス・ナノテクノロジー会議
            • 自 2006年, 至 2006年
              実行委員会 委員、会場担当, 第13回ディスプレイ国際ワークショップ
            • 自 2005年, 至 2005年
              実行委員会委員、編集委員, 第8回スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム (ISSP2005)
            • 自 2003年, 至 2003年
              実行委員会 委員、編集委員, 第16回国際真空マイクロエレクトロニクス会議
            • 自 2000年, 至 2003年
              プログラム編集委員, 社団法人応用物理学会
            • 自 2000年, 至 2003年
              代議員, 社団法人応用物理学会
            • 自 2001年, 至 2002年
              関西支部 幹事, 社団法人応用物理学会
            • 自 1998年, 至 1999年
              現地実行委員会 委員, 第9回イオン源に関する国際会議
            • 自 1990年, 至 1999年
              事務局, 粒子線の先端的応用技術に関するワークショップ/シンポジウム
            • 自 1994年, 至 1995年
              関西支部 幹事, 日本真空協会

            社会貢献活動

            • 真空の概念 I, II
              講師
              一般社団法人日本真空学会 関西支部, 役に立つ真空技術入門講座, 自 2014年, 至 2022年
            • 真空技術基礎講習会
              講師
              日本真空協会関西支部/日本真空工業会関西支部/大阪府技術協会, 自 1994年, 至 現在
            • 真空技術入門講座
              講師
              一般社団法人日本真空学会関西支部, 自 2017年09月26日, 至 2017年09月26日
            • 真空ナノエレクトロニクスデバイスの開発－過酷環境下の電子デバイス
              講師
              京都大学大学院工学研究科附属量子理工学教育研究センター, 第17回公開シンポジウム, 自 2016年10月21日, 至 2016年10月21日
            • フィールドエミッタアレイの新しい応用技術～耐熱・耐放射線素子から光源応用まで～
              講師
              一般社団法人日本真空学会 関西支部, 実用技術セミナー 2015, 自 2015年12月07日, 至 2015年12月07日
            • 真空管から真空ナノエレクトロニクスへ
              講師
              日刊工業新聞社, 真空展 VACUUM2014併設 第15回真空シンポジウム, 自 2014年10月16日, 至 2014年10月16日
            • 真空の取扱い
              講師
              一般社団法人日本真空学会 関西支部, 役に立つ真空技術入門講座, 自 2011年, 至 2013年
            • 真空の取扱い
              講師
              一般社団法人日本真空学会 関西支部, 第1回役に立つ真空技術入門講座, 自 2009年08月04日, 至 2009年08月04日
            • 科学と生活フェスティバル
              運営参加・支援
              社団法人応用物理学会 関西支部, 自 1999年, 至 1999年

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